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公開番号2025101406
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-07-07
出願番号2023218237
出願日2023-12-25
発明の名称光学積層体、液晶硬化膜の製造方法及び光学積層体の製造方法
出願人住友化学株式会社
代理人個人,個人,個人
主分類G02B 5/30 20060101AFI20250630BHJP(光学)
要約【課題】高い耐熱性を有する光学積層体を提供すること。
【解決手段】保護フィルム、偏光子、基材フィルム及び液晶硬化膜をこの順に有する光学積層体であって、液晶硬化膜の厚さが2.5μm以上であり、液晶硬化膜の抽出液体クロマトグラフ測定結果が下記式(A)を満たす、光学積層体。
(S/M)/(S_T/M_T)≦6.4 …(A)
S:各液晶モノマーのピーク面積の合計
M:抽出溶液濃度
S_T:トルエンのピーク面積
M_T:トルエン溶液濃度
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
保護フィルム、偏光子、基材フィルム及び液晶硬化膜をこの順に有する光学積層体であって、
前記液晶硬化膜の厚さが２．５μｍ以上であり、
前記液晶硬化膜の抽出液体クロマトグラフ測定結果が下記式（Ａ）を満たす、光学積層体。
（Ｓ／Ｍ）／（Ｓ
Ｔ
／Ｍ
Ｔ
）≦６．４ …（Ａ）
Ｓ：各液晶モノマーのピーク面積の合計
Ｍ：抽出溶液濃度
Ｓ
Ｔ
：トルエンのピーク面積
Ｍ
Ｔ
：トルエン溶液濃度
続きを表示（約 820 文字）【請求項２】
前記保護フィルムの３８０ｎｍ透過率が１０％以下である、請求項１に記載の光学積層体。
【請求項３】
前記基材フィルムの３８０ｎｍ透過率が５０％以上である、請求項１に記載の光学積層体。
【請求項４】
前記基材フィルムの透湿度が５０ｇ／ｍ
２
・２４ｈｒ以上である、請求項１に記載の光学積層体。
【請求項５】
前記基材フィルムの厚さが３０μｍ以上である、請求項１に記載の光学積層体。
【請求項６】
前記偏光子の視感度補正単体透過率Ｔｙが４０％以上である、請求項１に記載の光学積層体。
【請求項７】
前記光学積層体の総厚が１５０μｍ以下であり、
前記偏光子の厚さが１５μｍ以下である、請求項１に記載の光学積層体。
【請求項８】
前記液晶硬化膜の厚さが３．５μｍ以下である、請求項１に記載の光学積層体。
【請求項９】
重合性液晶化合物を含む重合性液晶組成物を用いて基材フィルム上に塗膜を形成する工程と、
前記塗膜の両面から活性エネルギー線を照射して前記塗膜を硬化させることで、厚さが２．５μｍ以上であり且つ抽出液体クロマトグラフ測定結果が下記式（Ａ）を満たす液晶硬化膜を形成する工程と、
を有する液晶硬化膜の製造方法。
（Ｓ／Ｍ）／（Ｓ
Ｔ
／Ｍ
Ｔ
）≦６．４ …（Ａ）
Ｓ：各液晶モノマーのピーク面積の合計
Ｍ：抽出溶液濃度
Ｓ
Ｔ
：トルエンのピーク面積
Ｍ
Ｔ
：トルエン溶液濃度
【請求項１０】
前記基材フィルムの３８０ｎｍ透過率が５０％以上である、請求項９に記載の液晶硬化膜の製造方法。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学積層体、液晶硬化膜の製造方法及び光学積層体の製造方法に関する。
続きを表示（約 3,000 文字）【背景技術】
【０００２】
円偏光板は、偏光板と位相差板とが積層された光学部材であり、例えば、有機ＥＬ画像表示装置等の平面状態で画像を表示する装置において、該装置を構成する電極での光反射を防止するために用いられている。この円偏光板を構成する位相差板としては、基材上に重合性液晶化合物を塗布し、硬化させることにより作製される液晶硬化膜を用いた位相差板が知られている（特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２０２２－４４２９３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
円偏光板等の光学積層体において、液晶硬化膜には高い耐熱性が求められている。液晶硬化膜の耐熱性が低いと、熱により液晶硬化膜の面内位相差が変化し、反射率が増加するという問題が生じる。
【０００５】
そこで、本発明は、高い耐熱性を有する光学積層体及びその製造方法を提供することを目的とする。本発明はまた、高い耐熱性を有する液晶硬化膜を得ることができる液晶硬化膜の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するために、本発明は、以下の光学積層体、液晶硬化膜の製造方法及び光学積層体の製造方法を提供する。
［１］保護フィルム、偏光子、基材フィルム及び液晶硬化膜をこの順に有する光学積層体であって、上記液晶硬化膜の厚さが２．５μｍ以上であり、上記液晶硬化膜の抽出液体クロマトグラフ測定結果が下記式（Ａ）を満たす、光学積層体。
（Ｓ／Ｍ）／（Ｓ
Ｔ
／Ｍ
Ｔ
）≦６．４ …（Ａ）
Ｓ：各液晶モノマーのピーク面積の合計
Ｍ：抽出溶液濃度
Ｓ
Ｔ
：トルエンのピーク面積
Ｍ
Ｔ
：トルエン溶液濃度
［２］上記保護フィルムの３８０ｎｍ透過率が１０％以下である、上記［１］に記載の光学積層体。
［３］上記基材フィルムの３８０ｎｍ透過率が５０％以上である、上記［１］又は［２］に記載の光学積層体。
［４］上記基材フィルムの透湿度が５０ｇ／ｍ
２
・２４ｈｒ以上である、上記［１］～［３］のいずれかに記載の光学積層体。
［５］上記基材フィルムの厚さが３０μｍ以上である、上記［１］～［４］のいずれかに記載の光学積層体。
［６］上記偏光子の視感度補正単体透過率Ｔｙが４０％以上である、上記［１］～［５］のいずれかに記載の光学積層体。
［７］上記光学積層体の総厚が１５０μｍ以下であり、上記偏光子の厚さが１５μｍ以下である、上記［１］～［６］のいずれかに記載の光学積層体。
［８］上記液晶硬化膜の厚さが３．５μｍ以下である、上記［１］～［７］のいずれかに記載の光学積層体。
［９］重合性液晶化合物を含む重合性液晶組成物を用いて基材フィルム上に塗膜を形成する工程と、上記塗膜の両面から活性エネルギー線を照射して上記塗膜を硬化させることで、厚さが２．５μｍ以上であり且つ抽出液体クロマトグラフ測定結果が下記式（Ａ）を満たす液晶硬化膜を形成する工程と、を有する液晶硬化膜の製造方法。
（Ｓ／Ｍ）／（Ｓ
Ｔ
／Ｍ
Ｔ
）≦６．４ …（Ａ）
Ｓ：各液晶モノマーのピーク面積の合計
Ｍ：抽出溶液濃度
Ｓ
Ｔ
：トルエンのピーク面積
Ｍ
Ｔ
：トルエン溶液濃度
［１０］上記基材フィルムの３８０ｎｍ透過率が５０％以上である、上記［９］に記載の液晶硬化膜の製造方法。
［１１］上記基材フィルムの透湿度が５０ｇ／ｍ
２
・２４ｈｒ以上である、上記［９］又は［１０］に記載の液晶硬化膜の製造方法。
［１２］上記基材フィルムの厚さが３０μｍ以上である、上記［９］～［１１］のいずれかに記載の液晶硬化膜の製造方法。
［１３］上記液晶硬化膜の厚さが３．５μｍ以下である、上記［９］～［１２］のいずれかに記載の液晶硬化膜の製造方法。
［１４］保護フィルム、偏光子、基材フィルム及び液晶硬化膜をこの順に有する光学積層体の製造方法であって、上記液晶硬化膜を、上記［９］～［１３］のいずれかに記載の液晶硬化膜の製造方法により製造する工程を有する、光学積層体の製造方法。
［１５］上記保護フィルムの３８０ｎｍ透過率が１０％以下である、上記［１４］に記載の光学積層体の製造方法。
［１６］上記偏光子の視感度補正単体透過率Ｔｙが４０％以上である、上記［１４］又は［１５］に記載の光学積層体の製造方法。
［１７］上記光学積層体の総厚が１５０μｍ以下であり、上記偏光子の厚さが１５μｍ以下である、上記［１４］～［１６］のいずれかに記載の光学積層体の製造方法。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、高い耐熱性を有する光学積層体及びその製造方法を提供することができる。また、本発明によれば、高い耐熱性を有する液晶硬化膜を得ることができる液晶硬化膜の製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
本発明に係る光学積層体の一例を示す概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、場合により図面を参照しつつ、本発明の一実施形態について詳細に説明する。なお、図面中、同一又は相当部分には同一符号を付し、重複する説明は省略する。また、図面の寸法比率は図示の比率に限られるものではない。
【００１０】
［光学積層体］
本発明の光学積層体は、保護フィルム、偏光子、基材フィルム及び液晶硬化膜をこの順に有する光学積層体であって、上記液晶硬化膜の厚さが２．５μｍ以上であり、上記液晶硬化膜の抽出液体クロマトグラフ測定結果が下記式（Ａ）を満たす。
（Ｓ／Ｍ）／（Ｓ
Ｔ
／Ｍ
Ｔ
）≦６．４ …（Ａ）
Ｓ：各液晶モノマーのピーク面積の合計
Ｍ：抽出溶液濃度
Ｓ
Ｔ
：トルエンのピーク面積
Ｍ
Ｔ
：トルエン溶液濃度
上記光学積層体によれば、液晶硬化膜の厚さが２．５μｍ以上であり、且つ、液晶硬化膜の（Ｓ／Ｍ）／（Ｓ
Ｔ
／Ｍ
Ｔ
）の値が６．４以下であることで、高い耐熱性を有することができる。かかる効果が奏される理由は必ずしも明確ではないが、本発明者らは、（Ｓ／Ｍ）／（Ｓ
Ｔ
／Ｍ
Ｔ
）の値が小さいと残存する液晶モノマー量が少ないため、熱がかかる環境下であっても当該残存モノマーが粘着剤層等の他の層に移行しにくくなり、その結果、耐熱性が向上すると推察している。また、上記光学積層体によれば、高い耐屈曲性を有することができ、且つ、干渉ムラの発生を抑制することができる。
（【００１１】以降は省略されています）

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