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公開日2025-02-17
公報種別公開商標公報
出願番号2025012100
出願日2025-02-06
区分第42類(科学・技術)
商品役務集積回路の設計,半導体チップの設計,新製品の研究及び開発,電子計算機のプログラムの設計・作成又は保守,コンピュータハードウェア・コンピュータソフトウェア・ICチップ・半導体・集積回路・フラッシュメモリの研究及び開発,技術文書の作成,半導体の加工技術に関する助言,半導体の設計に関する助言,半導体の開発に関する助言,集積回路の加工技術に関する助言,集積回路の設計に関する助言,集積回路の開発に関する助言
出願人エリート セミコンダクター マイクロエレクトロニクス テクノロジー インコーポレイテッド
代理人弁理士法人不二商標綜合事務所,個人,個人
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