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公開日
2025-02-17
公報種別
公開商標公報
出願番号
2025012101
出願日
2025-02-06
区分
第42類(科学・技術)
商品役務
集積回路の設計
,
半導体チップの設計
,
新製品の研究及び開発
,
電子計算機のプログラムの設計・作成又は保守
,
コンピュータハードウェア・コンピュータソフトウェア・ICチップ・半導体・集積回路・フラッシュメモリの研究及び開発
,
技術文書の作成
,
半導体の加工技術に関する助言
,
半導体の設計に関する助言
,
半導体の開発に関する助言
,
集積回路の加工技術に関する助言
,
集積回路の設計に関する助言
,
集積回路の開発に関する助言
出願人
エリート セミコンダクター マイクロエレクトロニクス テクノロジー インコーポレイテッド
代理人
弁理士法人不二商標綜合事務所
,
個人
,
個人
OCRテキスト
Zo/
OCRテキスト2
OCRについて
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