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公開日2025-01-31
公報種別公開商標公報
出願番号2025006581
出願日2025-01-23
区分第9類(機械器具),第40類(製造・加工)
商品役務光学ガラス,液晶ディスプレイ用ガラス,半導体製造プロセス用石英ガラス製加工ガラス,液晶製造プロセス用石英ガラス製加工ガラス,半導体製造装置用の加工ガラス(建築用のものを除く。),その他の加工ガラス(建築用のものを除く。),理化学機械器具及びその部品,実験用ガラス器具,測定用ガラス器具,光学機械器具及びその部品,写真機械器具及びその部品並びに付属品,反射防止用レンズ,測定機械器具及びその部品,配電用又は制御用の機械器具,電線及びケーブル,電気通信機械器具及びその部品,携帯情報端末の部品及び付属品,半導体製造プロセス用加工シリコンウェハー全 37 件を表示,液晶製造プロセス用加工シリコンウェハー,その他の半導体用ウェハー,電子応用機械器具及びその部品,,金属の加工,金属の表面加工,ゴムの加工,プラスチックの加工,合成樹脂の表面加工,合成樹脂の加工処理,ゴムの表面加工処理,プラスチックの表面加工,セラミックの加工,セラミックの表面加工処理,石材の加工,ガラスの表面加工,ガラスの製造・加工,光学ガラスの加工,
出願人アイシンテック株式会社
代理人個人
OCRテキスト5/M7ビ
OCRテキスト2AISINTEC
OCRについて
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