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公開日2025-04-08
公報種別公開商標公報
出願番号2025033885
出願日2025-03-31
区分第7類(機械),第9類(機械器具),第37類(建設),第42類(科学・技術)
商品役務フォトマスク洗浄装置,レチクル清浄機,半導体製造用レチクルの搬送用マスクピック,半導体ウェーハ等の搬送装置,半導体製造用レチクルを収納するレチクルケースに窒素ガスを注入するための気体充填装置,半導体フォトマスクに塵が付着するのを防ぐために塗布したペリクルの膜を除去するための半導体製造用装置,化学機械加工研磨リング,半導体製造装置,電子部品製造機械器具,半導体ウェーハ運搬装置,半導体製造用機械器具及びその部品,集積回路製造装置及びその部品,プラスチック加工機械器具,半導体製造装置用の位置決め装置及びその部品,電子部品製造装置,産業用ロボットアーム並びにその部品及び附属品,産業用ロボット,フォトマスク用ガラス全 42 件を表示,電子応用機械器具収納用キャビネット,コンピュータソフトウェア,コンピュータプログラム,恒湿器,電気的遠隔制御装置,ユーザーがプログラミング可能なヒューマノイドロボット(未設定のもの),精密測定機械器具,半導体製造装置の修理又は保守,機械器具設置工事,半導体製造装置の設置工事,電気設備の設置工事,半導体試験装置の設置工事,半導体製造用又はディスプレイ装置製造用露光装置の修理又は保守,コンピュータハードウェアの設置・保守及び修理,フォトマスク洗浄装置の設置および修理,フォトマスク用インフレータの設置および修理,電子部品製造装置の修理又は保守,プラスチックの加工用機械の設置工事・保守及び修理,電子回路・半導体素子・集積回路・大規模集積回路に関する試験及び研究並びに開発,半導体加工技術の分野における研究,科学的研究の実施,半導体および集積回路の分野における産業分析および研究,半導体製品製造の技術的研究に関する助言,金属酸化物・半導体・電子応用機械器具・電気通信機械器具の製造・加工に関する技術研究情報の提供
出願人家登精密工業股分有限公司
代理人個人
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