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公開番号2025059517
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-04-10
出願番号2023169650
出願日2023-09-29
発明の名称プラズマ式分子導入装置用の電極及びプラズマ式分子導入装置
出願人積水化学工業株式会社
代理人個人,個人,個人,個人
主分類H05H 1/24 20060101AFI20250403BHJP(他に分類されない電気技術)
要約【課題】導入対象領域への制御性を高められる、プラズマ式分子導入装置用の電極を目的とする。
【解決手段】離間した電極の間に生じたプラズマで導入対象物に分子を導入するプラズマ式分子導入装置用の電極であり、一端を先端とし、導電体からなる電極本体と、少なくとも前記電極本体の前記先端を覆う被覆部と、を有し、前記被覆部は、誘電体からなることよりなる。前記被覆部は、前記電極本体の電界集中部を覆うことが好ましく、前記被覆部の厚さは、0.1～2mmが好ましい。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
離間した電極の間に生じたプラズマで導入対象物に分子を導入するプラズマ式分子導入装置用の電極であり、
一端を先端とし、導電体からなる電極本体と、少なくとも前記電極本体の前記先端を覆う被覆部と、を有し、
前記被覆部は、誘電体からなる、プラズマ式分子導入装置用の電極。
続きを表示（約 480 文字）【請求項２】
前記被覆部は、前記電極本体の電界集中部を覆う、請求項１に記載のプラズマ式分子導入装置用の電極。
【請求項３】
前記被覆部の厚さは、０．０１～２ｍｍである、請求項１又は２に記載のプラズマ式分子導入装置用の電極。
【請求項４】
第一電極と、
前記第一電極と離間し、前記第一電極の先端が向く方向に位置する第二電極と、
前記第一電極と前記第二電極との間に位置し、かつ前記第一電極の先端から離間して位置する照射場と、
前記第一電極と前記第二電極との間に電圧を印加する給電部と、
を有し、
前記第一電極は、導電体からなる電極本体と、少なくとも前記電極本体の先端を覆う被覆部とを有し、
前記被覆部は、誘電体からなる、プラズマ式分子導入装置。
【請求項５】
前記被覆部は、前記電極本体の電界集中部を覆う、請求項４に記載のプラズマ式分子導入装置。
【請求項６】
前記被覆部の厚さは、０．０１～２ｍｍである、請求項４又は５に記載のプラズマ式分子導入装置。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマ式分子導入装置用の電極及びプラズマ式分子導入装置に関する。
続きを表示（約 1,700 文字）【背景技術】
【０００２】
遺伝子工学、医薬品開発において、標的細胞又は標的組織（以下、「標的細胞等」ということがある）に分子を導入し、標的細胞等の分子の機能や生理活性等を試験している。
分子としては、ポリヌクレオチド、シグナル伝達蛋白質、転写調節因子、低分子生理活性物質、薬剤候補品等が挙げられる。
【０００３】
分子の導入方法としては、エレクトロポレーション法、ジーンガン法、リボソーム法、細胞融合法、ウイルスベクター法等がある。これらの分子の導入方法では、標的細胞等への分子の導入効率が未だ満足できるものではなかった。
【０００４】
こうした問題に対して、特許文献１～２には、キャピラリー電極と、キャピラリー電極とは反対側に設けられた対向電極と、キャピラリー電極及び対向電極に接続された電源とを有する分子導入装置が提案されている。特許文献１～２の発明によれば、電極間に生じたプラズマによって、標的細胞等へ分子を効率的に導入できる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
特許第６１８９０１９号公報
特許第５７３７８２８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、従来の技術では、電極の直下の標的細胞等は、プラズマから受ける熱や、放電開始時に生じる衝撃波等による影響が大きく、分子が導入された標的細胞等（以下、「導入細胞等」ということがある）がダメージを受けて、生存率が低下したり、電極直下の領域から吹き飛ばされたりする。このため、狙った領域（導入対象領域）で、標的細胞等への分子の導入効率を高め、かつ導入細胞等の生存率を高める（導入対象領域への制御性を高める）ことが難しい、という問題があった。
本発明は、導入対象領域への制御性を高められる、プラズマ式分子導入装置用の電極を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、以下の態様を有する。
＜１＞
離間した電極の間に生じたプラズマで導入対象物に分子を導入するプラズマ式分子導入装置用の電極であり、
一端を先端とし、導電体からなる電極本体と、少なくとも前記電極本体の前記先端を覆う被覆部と、を有し、
前記被覆部は、誘電体からなる、プラズマ式分子導入装置用の電極。
＜２＞
前記被覆部は、前記電極本体の電界集中部を覆う、＜１＞に記載のプラズマ式分子導入装置用の電極。
＜３＞
前記被覆部の厚さは、０．０１～２ｍｍである、＜１＞又は＜２＞に記載のプラズマ式分子導入装置用の電極。
【０００８】
＜４＞
第一電極と、
前記第一電極と離間し、前記第一電極の先端が向く方向に位置する第二電極と、
前記第一電極と前記第二電極との間に位置し、かつ前記第一電極の先端から離間して位置する照射場と、
前記第一電極と前記第二電極との間に電圧を印加する給電部と、
を有し、
前記第一電極は、導電体からなる電極本体と、少なくとも前記電極本体の先端を覆う被覆部とを有し、
前記被覆部は、誘電体からなる、プラズマ式分子導入装置。
＜５＞
前記被覆部は、前記電極本体の電界集中部を覆う、＜４＞に記載のプラズマ式分子導入装置。
＜６＞
前記被覆部の厚さは、０．０１～２ｍｍである、＜４＞又は＜５＞に記載のプラズマ式分子導入装置。
【発明の効果】
【０００９】
本発明のプラズマ式分子導入装置用の電極によれば、導入対象領域への制御性を高められる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
第一の実施形態にかかるプラズマ式分子導入装置の断面模式図である。
他の実施形態の第二電極を説明する模式図である。
実施例１の結果を示す写真である。
比較例１の結果を示す写真である。
【発明を実施するための形態】
（【００１１】以降は省略されています）

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