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公開日
2024-10-29
公報種別
公開商標公報
出願番号
2024112808
出願日
2024-10-21
区分
第40類(製造・加工)
,
第41類(教育・娯楽)
,
第42類(科学・技術)
商品役務
材料処理に関する情報の提供
,
レーザー光による材料処理
,
材料を特定しない総合的な材料処理情報の提供
,
極端紫外光(EUV光)による材料処理
,
材料の処理に関する情報の提供
,
映画・演芸・演劇・音楽又は教育研修のための施設の提供
,
教育又は娯楽に関する競技会の企画・運営
,
ノウハウの伝授(訓練)
,
図書の貸与
,
インターネットを利用して行う映像の提供
,
映画・演芸・演劇又は音楽の演奏の興行の企画又は運営
,
電子出版物の提供
,
コーチング(訓練)
,
放送番組の制作
,
認証のための訓練の提供及び教育上の試験の実施
,
図書及び記録の供覧
,
興行の企画・運営又は開催(映画・演芸・演劇・音楽の演奏の興行及びスポーツ・競馬・競輪・競艇・小型自動車競走の興行に関するものを除く。)
,
シンポジウムの手配及び運営
全 48 件を表示
,
書籍の制作
,
教育・文化・娯楽・スポーツ用ビデオの制作(映画・放送番組・広告用のものを除く。)
,
オンラインによる映像の提供(ダウンロードできないものに限る。)
,
セミナーの企画・運営又は開催
,
技芸・スポーツ又は知識の教授
,
受託による研究開発
,
デザインの考案
,
電子計算機・自動車その他その用途に応じて的確な操作をするためには高度の専門的な知識・技術又は経験を必要とする機械の性能・操作方法等に関する紹介及び説明
,
半導体製造装置の試験・検査・研究
,
品質検査及び試験
,
材料検査及びこれに関する情報の提供
,
半導体検査装置の試験・検査・研究
,
電子計算機用プログラムの提供
,
極端紫外光(EUV光)に関する試験・検査又は研究開発
,
極端紫外光(EUV光)に関するコンサルティング
,
半導体材料に関する試験・検査・研究開発又は設計
,
極端紫外光(EUV光)による半導体材料の処理に関するデータの測定・評価・収集・解析・分析・保存並びにこれらに関する情報の提供
,
機械器具に関する試験又は研究
,
理化学機械器具の貸与
,
他人のために行う製品開発のための設計・試験・検査又は研究
,
材料の検査及び分析
,
実験室における光学の研究
,
電子計算機の貸与
,
機械・装置若しくは器具(これらの部品を含む。)又はこれらの機械等により構成される設備の設計
,
材料科学の分野に関する研究
,
三次元光学的測定の分野における技術的研究
,
計測器の貸与
,
半導体に関する試験・検査又は研究
,
材料検査及び評価
,
電子計算機のプログラムの設計・作成又は保守
出願人
EUVフォトン株式会社
代理人
弁理士法人Toreru
OCRテキスト
EUW.Photon
OCRテキスト2
EUVPhoton
OCRについて
この商標をJ-PlatPat(特許庁公式サイト)で参照する
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