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公開番号2025072871
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-05-12
出願番号2023183296
出願日2023-10-25
発明の名称処理液供給装置、基板処理装置および処理液供給方法
出願人株式会社SCREENホールディングス
代理人個人,個人,個人
主分類H01L 21/304 20060101AFI20250501BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】低品質の処理液の廃棄を伴うことなく、予め定められた条件に従って生成された高品質の処理液を1または複数の基板処理部に安定して供給することを可能にする。
【解決手段】処理液供給装置2は、第1の循環装置110、第2の循環装置120、混合導出部130および液供給部140を含む。第1の循環装置110は、第1の液供給源5に接続された第1の循環系を有し、当該第1の循環系の少なくとも一部を流れる第1の液を混合導出部130に供給する。第2の循環装置120は、第2の液供給源6に接続された第2の循環系を有し、当該第2の循環系の少なくとも一部を流れる第2の液を混合導出部130に供給する。混合導出部130は、第1の液と第2の液とを混合し、液供給部140に設けられた主貯留槽30に導く。液供給部140は、主貯留槽30に貯留された混合液を処理液として基板処理部3に供給する。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
第１の液と第２の液とを含む混合液を処理液として１または複数の基板処理部に供給する処理液供給装置であって、
前記混合液を貯留する主貯留槽を含み、前記主貯留槽に貯留された前記混合液を前記処理液として前記１または複数の基板処理部に供給する液供給部と、
前記混合液を前記主貯留槽に導く混合導出部と、
第１の液供給源に接続された第１の循環系を有し、前記第１の循環系の少なくとも一部を流れる前記第１の液を前記混合導出部に供給する第１の循環装置と、
第２の液供給源に接続された第２の循環系を有し、前記第２の循環系の少なくとも一部を流れる前記第２の液を前記混合導出部に供給する第２の循環装置とを備える、処理液供給装置。
続きを表示（約 2,200 文字）【請求項２】
前記第１の循環系は、前記第１の循環系を流れる前記第１の液の状態を調整する第１の状態調整部を含み、
前記第２の循環系は、前記第２の循環系を流れる前記第２の液の状態を調整する第２の状態調整部を含む、請求項１記載の処理液供給装置。
【請求項３】
前記第１の循環装置は、前記第１の液を前記第１の循環系で循環させる第１の液循環モードと、前記第１の循環系の少なくとも一部を流れる前記第１の液を前記混合導出部に供給する第１の液供給モードとで動作可能に構成され、
前記第２の循環装置は、前記第２の液を前記第２の循環系で循環させる第２の液循環モードと、前記第２の循環系の少なくとも一部を流れる前記第２の液を前記混合導出部に供給する第２の液供給モードとで動作可能に構成され、
前記処理液供給装置は、
前記第１の循環装置が前記第１の液循環モードで動作しかつ前記第２の循環装置が前記第２の液循環モードで動作する場合で、前記第１の循環系を流れる前記第１の液の状態が予め定められた第１の条件を満たしかつ前記第２の循環系を流れる前記第２の液の状態が予め定められた第２の条件を満たすときに、前記第１の循環装置の動作モードを前記第１の液循環モードから前記第１の液供給モードに切り替えるとともに、前記第２の循環装置の動作モードを前記第２の液循環モードから前記第２の液供給モードに切り替える制御部をさらに備える、請求項２記載の処理液供給装置。
【請求項４】
前記第１の状態調整部は、前記第１の液循環モードにあるときに前記第１の循環系において前記第１の液を圧送するとともに、前記第１の液供給モードにあるときに前記第１の循環系を流れる前記第１の液を前記混合導出部に圧送する第１のポンプを含み、
前記第２の状態調整部は、前記第２の液循環モードにあるときに前記第２の循環系において前記第２の液を圧送するとともに、前記第２の液供給モードにあるときに前記第２の循環系を流れる前記第２の液を前記混合導出部に圧送する第２のポンプを含み、
前記第１の条件は、前記第１の循環系を流れる前記第１の液の単位時間当たりの量が予め定められた第１の流量範囲内にあることを含み、
前記第２の条件は、前記第２の循環系を流れる前記第２の液の単位時間当たりの量が予め定められた第２の流量範囲内にあることを含む、請求項３記載の処理液供給装置。
【請求項５】
前記第１の状態調整部は、前記第１の循環系を流れる前記第１の液の流量を調整する第１の調整弁をさらに含み、
前記第２の状態調整部は、前記第２の循環系を流れる前記第２の液の流量を調整する第２の調整弁をさらに含む、請求項４記載の処理液供給装置。
【請求項６】
前記第１の循環系は、前記第１の循環系を流れる前記第１の液の流量を検出する第１の流量計を含み、
前記第２の循環系は、前記第２の循環系を流れる前記第２の液の流量を検出する第２の流量計を含む、請求項１～５のいずれか一項に記載の処理液供給装置。
【請求項７】
前記第１の状態調整部は、前記第１の循環系を流れる前記第１の液を加熱する第１の加熱部を含み、
前記第２の状態調整部は、前記第２の循環系を流れる前記第２の液を加熱する第２の加熱部を含み、
前記第１の条件は、前記第１の循環系を流れる前記第１の液の温度が予め定められた第１の温度範囲内にあることを含み、
前記第２の条件は、前記第２の循環系を流れる前記第２の液の温度が予め定められた第２の温度範囲内にあることを含む、請求項３～５のいずれか一項に記載の処理液供給装置。
【請求項８】
前記第１の循環系は、前記第１の液供給源から供給される前記第１の液を所定量貯留する第１の副貯留槽を含み、
前記第２の循環系は、前記第２の液供給源から供給される前記第２の液を所定量貯留する第２の副貯留槽を含む、請求項１～５のいずれか一項に記載の処理液供給装置。
【請求項９】
第１の液と第２の液とを含む混合液を処理液として１または複数の基板処理部に供給する処理液供給装置であって、
前記混合液を貯留する主貯留槽を含み、前記主貯留槽に貯留された前記混合液を前記処理液として前記１または複数の基板処理部に供給する液供給部と、
前記混合液を前記主貯留槽に導く混合導出部と、
第１の液供給源に接続され、前記第１の液供給源から供給される前記第１の液を所定量貯留する第１の副貯留槽と、
前記第１の副貯留槽に貯留された前記第１の液を前記混合導出部に供給する第１の供給装置と、
第２の液供給源に接続され、前記第２の液供給源から供給される前記第２の液を所定量貯留する第２の副貯留槽と、
前記第２の副貯留槽に貯留された前記第２の液を前記混合導出部に供給する第２の供給装置とを備える、処理液供給装置。
【請求項１０】
請求項１～５のいずれか一項に記載の処理液供給装置と、
前記１または複数の基板処理部とを備える、
基板処理装置。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、１または複数の基板処理部に処理液を供給する処理液供給装置、基板処理装置および処理液供給方法に関する。
続きを表示（約 1,600 文字）【背景技術】
【０００２】
半導体基板、液晶表示装置もしくは有機ＥＬ（Electro Luminescence）表示装置等のＦＰＤ（Flat Panel Display）用基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板、セラミック基板または太陽電池用基板等の基板に種々の処理を行うために、基板処理装置が用いられる。
【０００３】
基板処理装置の一例として、特許文献１には、処理液を用いて基板に処理を行う基板処理装置が記載されている。その基板処理装置は、基板処理部および薬液生成部を含む。薬液生成部は、薬液を希釈することにより処理液を生成する。基板処理部では、薬液生成部により生成された処理液を用いて基板に所定の処理が行われる。以下の説明では、便宜上、特許文献１に記載された薬液生成部を処理液供給装置と呼ぶ。
【０００４】
処理液供給装置における処理液の生成時には、薬液供給源から供給される薬液の原液が混合配管に送られる。また、希釈用液供給源から供給される希釈用液が混合配管に送られる。混合配管に供給された薬液および希釈用液は、互いに混合され、処理液として混合タンクに貯留される。混合タンクに貯留された処理液が、基板処理部に供給される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
特開２０２０－１９８３５７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
薬液と希釈用液とを混合配管で混合する場合、混合配管に供給される薬液の流量と、混合配管に供給される希釈用液の流量とが正確に調整されないと、薬液と希釈用液とを予め定められた比率で混合することができない。この場合、混合タンクに貯留される処理液の品質が低下し、高品質の処理液を基板処理部に供給することができなくなる。
【０００７】
混合配管に供給される薬液の流量は、モータニードルバルブ等の流量調整手段により調整され、混合配管に対する薬液の供給開始時点から一定期間、不安定となる。また、混合配管に供給される希釈用液の流量も、流量調整手段により調整され、混合配管に対する希釈用液の供給開始時点から一定期間、不安定となる。そのため、処理液の生成開始直後は、高い品質の処理液を生成することができない。
【０００８】
そこで、特許文献１の処理液供給装置においては、処理液の生成開始時点から一定期間、混合配管で混合された混合液が廃棄される（プリドレイン）。しかしながら、予め定められた条件で生成されなかった混合液（低品質の処理液）を排液（産業廃棄物）として廃棄することは、処理液を生成するための消耗品コストを高める要因となる。
【０００９】
本発明の目的は、低品質の処理液の廃棄を伴うことなく、高品質の処理液を基板処理部に安定して供給することを可能にする処理液供給装置、基板処理装置および処理液供給方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の一局面に従う処理液供給装置は、第１の液と第２の液とを含む混合液を処理液として１または複数の基板処理部に供給する処理液供給装置であって、前記混合液を貯留する主貯留槽を含み、前記主貯留槽に貯留された前記混合液を前記処理液として前記１または複数の基板処理部に供給する液供給部と、前記混合液を前記主貯留槽に導く混合導出部と、第１の液供給源に接続された第１の循環系を有し、前記第１の循環系の少なくとも一部を流れる前記第１の液を前記混合導出部に供給する第１の循環装置と、第２の液供給源に接続された第２の循環系を有し、前記第２の循環系の少なくとも一部を流れる前記第２の液を前記混合導出部に供給する第２の循環装置とを備える。
（【００１１】以降は省略されています）

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