特許ウォッチ

公開番号2025075952
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-05-15
出願番号2023187494
出願日2023-11-01
発明の名称プラズマ処理装置
出願人東京エレクトロン株式会社
代理人個人,個人,個人
主分類H05H 1/46 20060101AFI20250508BHJP(他に分類されない電気技術)
要約【課題】プラズマ処理装置のチョークにおける共振周波数を変更可能とする技術を提供する。
【解決手段】開示されるプラズマ処理装置は、チャンバ、基板支持部、導入部、及びチョークを備える。基板支持部は、チャンバ内の処理空間の中に設けられている。導入部は、プラズマ生成空間に電磁波を導入するように構成されている。チョークは、プラズマ生成空間の下方への電磁波の伝搬を抑制するために処理空間の外周に沿って設けられている。チョークは、誘電体部材、第1部分、第2部分、及び複数のコイルを含む。誘電体部材は、処理空間にその一部が露出するように配置されており、第1部分のスリットを埋めている。第2部分は、第1部分の外側でスリットから延びる空間を提供する。複数のコイルは、第2部分の空間内に配置されている。複数のコイルの各々は、第2部分の空間内での磁束の方向に対する角度を変更可能に構成されている。
【選択図】図1

特許請求の範囲【請求項１】
処理空間を提供するチャンバと、
前記処理空間内に設けられた基板支持部と、
前記処理空間内の上部領域又は該処理空間の上方に設けられたプラズマ生成空間に電磁波を導入するように構成された導入部と、
前記プラズマ生成空間の下方への電磁波の伝搬を抑制するために前記処理空間の外周に沿って設けられたチョークと、
を備え、
前記チョークは、
前記処理空間にその一部が露出するように配置された誘電体部材と、
前記誘電体部材で埋められたスリットを提供する第１部分と、
前記処理空間に対して前記第１部分の外側で前記スリットから延びる空間を提供する第２部分と、
前記第２部分の前記空間内に配置された複数のコイルであり、各々が前記第２部分の前記空間内での磁束の方向に対する角度を変更可能に構成された該複数のコイルと、
を含む、
プラズマ処理装置。
続きを表示（約 1,100 文字）【請求項２】
前記チャンバは、前記処理空間内のガスを、それを介して排気するための排気路を提供する排気ダクトを含み、
前記第２部分の前記空間は、前記排気ダクトの前記排気路である、
請求項１に記載のプラズマ処理装置。
【請求項３】
前記第２部分の前記空間は、前記チャンバの中心軸線に対して周方向に延びる環状の空間であり、
前記複数のコイルは、前記第２部分の前記空間内で前記周方向に沿って等間隔で配列されている、
請求項１に記載のプラズマ処理装置。
【請求項４】
前記磁束の方向は、接線方向である、請求項３に記載のプラズマ処理装置。
【請求項５】
前記複数のコイルの各々は、平面に沿って延在しており、該平面内の回転軸線周りで回転可能に構成されている、請求項１～４の何れか一項に記載のプラズマ処理装置。
【請求項６】
前記複数のコイルの各々の角度を変更するように構成された駆動機構を更に備える、請求項１～４の何れか一項に記載のプラズマ処理装置。
【請求項７】
前記複数のコイルの各々の角度を変更するように構成された駆動機構を更に備え、
前記第２部分の前記空間は、前記チャンバの中心軸線に対して周方向に延びる環状の空間であり、
前記複数のコイルは、前記第２部分の前記空間内で前記周方向に沿って配列されており、
前記複数のコイルの各々は、平面に沿って延在しており、該平面内の回転軸線周りで回転可能に構成されており、
前記駆動機構は、
前記第２部分の前記空間内に配置されており、その中心軸線周りで回転可能に構成されたリング部材と、
前記第２部分の前記空間内に配置されており、前記複数のコイルにそれぞれ連結され、且つ、前記リング部材に連結された複数のリンクと、
前記リング部材を回転駆動するための駆動軸であり、前記第２部分の前記空間から前記空間の外側に延びる該駆動軸と、
を含む、
請求項１に記載のプラズマ処理装置。
【請求項８】
前記チャンバは、前記処理空間内のガスを、それを介して排気するための排気路を提供する排気ダクトを含み、
前記第２部分の前記空間は、前記排気ダクトの前記排気路である、
請求項７に記載のプラズマ処理装置。
【請求項９】
前記駆動軸は、前記排気ダクトの外側で該排気ダクトを封止する封止機構を通って延在している、請求項８に記載のプラズマ処理装置。
【請求項１０】
前記駆動軸及び前記封止機構は、ベローズ式回転導入機を構成する、請求項９に記載のプラズマ処理装置。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示の例示的実施形態は、プラズマ処理装置に関するものである。
続きを表示（約 1,700 文字）【背景技術】
【０００２】
プラズマ処理装置が基板に対するプラズマ処理において用いられている。一種のプラズマ処理装置は、プラズマ生成空間内に導入された電磁波によりプラズマを生成する。また、プラズマ処理装置は、電磁波の不要な箇所への伝搬を抑制するためにチョークを有することがある。このようなプラズマ処理装置は、下記の特許文献１に記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２０２３－０１０５３６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本開示は、プラズマ処理装置のチョークにおける共振周波数を変更可能とする技術を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
一つの例示的実施形態において、プラズマ処理装置が提供される。プラズマ処理装置は、チャンバ、基板支持部、導入部、及びチョークを備える。チャンバは、処理空間を提供する。基板支持部は、処理空間内に設けられている。導入部は、プラズマ生成空間に電磁波を導入するように構成されている。プラズマ生成空間は、処理空間内の上部領域又は処理空間の上方に設けられている。チョークは、プラズマ生成空間の下方への電磁波の伝搬を抑制するために処理空間の外周に沿って設けられている。チョークは、誘電体部材、第１部分、第２部分、及び複数のコイルを含む。誘電体部材は、処理空間にその一部が露出するように配置されている。第１部分は、誘電体部材で埋められたスリットを提供する。第２部分は、処理空間に対して第１部分の外側でスリットから延びる空間を提供する。複数のコイルは、第２部分の空間内に配置されている。複数のコイルの各々は、第２部分の空間内での磁束の方向に対する角度を変更可能に構成されている。
【発明の効果】
【０００６】
一つの例示的実施形態によれば、プラズマ処理装置のチョークにおける共振周波数を変更することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
一つの例示的実施形態に係るプラズマ処理装置を示す図である。
一つの例示的実施形態に係るプラズマ処理装置における複数のコイルを示す図である。
一つの例示的実施形態に係るプラズマ処理装置において採用可能な一例の駆動機構を示す図である。
一つの例示的実施形態に係るプラズマ処理装置において採用可能な別の例の駆動機構を示す図である。
図５の（ａ）、図５の（ｂ）、図５の（ｃ）は、一つの例示的実施形態に係るプラズマ処理装置における複数のコイルの各々として採用可能なコイルを示す図である。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
以下、図面を参照して種々の例示的実施形態について詳細に説明する。なお、各図面において同一又は相当の部分に対しては同一の符号を附すこととする。
【０００９】
図１は、一つの例示的実施形態に係るプラズマ処理装置を示す図である。図１に示すプラズマ処理装置１は、チャンバ１０、基板支持部１２、導入部１８、及びチョーク２０を備えている。プラズマ処理装置１は、第１電極１４及び第２電極１６を更に備えていてもよい。
【００１０】
チャンバ１０は、その中に処理空間１０ｓを提供している。プラズマ処理装置１では、基板Ｗは、処理空間１０ｓの中で処理される。チャンバ１０は、アルミニウムのような金属から形成されており、接地されている。チャンバ１０は、側壁１０ａを有しており、その上端において開口されている。チャンバ１０及び側壁１０ａは、略円筒形状を有し得る。処理空間１０ｓは、側壁１０ａの内側に提供されている。チャンバ１０、側壁１０ａ、及び処理空間１０ｓの各々の中心軸線は、軸線ＡＸである。チャンバ１０は、その表面に耐腐食性を有する膜を有していてもよい。耐腐食性を有する膜は、酸化イットリウム膜、酸化フッ化イットリウム膜、フッ化イットリウム膜、酸化イットリウム、又はフッ化イットリウム等を含むセラミック膜であり得る。
（【００１１】以降は省略されています）

関連特許