TOP
|
特許
|
意匠
|
商標
特許ウォッチ
Twitter
他の特許を見る
10個以上の画像は省略されています。
公開番号
2025086758
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2025-06-09
出願番号
2023201024
出願日
2023-11-28
発明の名称
処理装置および物品製造方法
出願人
キヤノン株式会社
代理人
弁理士法人大塚国際特許事務所
主分類
B05C
11/00 20060101AFI20250602BHJP(霧化または噴霧一般;液体または他の流動性材料の表面への適用一般)
要約
【課題】液体を処理し又は液体を使って処理を行う処理装置において異物の検知に有利な技術を提供する。
【解決手段】処理装置は、液体を処理し又は液体を使って処理を行う機能部と、前記機能部に接続された流路と、前記流路に配置された異物検知部と、を備え、前記異物検知部は、前記流路を前記液体が流れるように配置された捕捉ノズルと、前記捕捉ノズルによる異物の捕捉を検知するセンサとを含む。
【選択図】図1
特許請求の範囲
【請求項1】
液体を処理し又は液体を使って処理を行う機能部と、
前記機能部に接続された流路と、
前記流路に配置された異物検知部と、を備え、
前記異物検知部は、前記流路を前記液体が流れるように配置された捕捉ノズルと、前記捕捉ノズルによる異物の捕捉を検知するセンサとを含む、
ことを特徴とする処理装置。
続きを表示(約 1,100 文字)
【請求項2】
前記センサは、前記捕捉ノズルに振動を与えることによって生じる前記捕捉ノズルの残留振動に基づいて前記捕捉ノズルによる異物の捕捉を検知する、
ことを特徴とする請求項1に記載の処理装置。
【請求項3】
前記センサは、圧電素子を含み、前記圧電素子によって前記捕捉ノズルに振動を与えることによって生じる前記捕捉ノズルの残留振動を前記圧電素子によって検知し、前記残留振動に基づいて前記捕捉ノズルによる異物の捕捉を検知する、
ことを特徴とする請求項1に記載の処理装置。
【請求項4】
前記異物検知部を迂回する迂回流路と、前記迂回流路に設けられたフィルタとを更に備え、
前記異物検知部を通して前記液体を流すことなく前記迂回流路を通して前記液体を流すことが可能である、
ことを特徴とする請求項1に記載の処理装置。
【請求項5】
前記異物検知部を前記液体が流れる方向を切り替え可能である、
ことを特徴とする請求項1に記載の処理装置。
【請求項6】
前記異物検知部は、前記流路を第1部分と第2部分とに分離するように配置された分離壁を含み、
前記捕捉ノズルは、前記第1部分と前記第2部分とを連通させるように前記分離壁に配置されている、
ことを請求項1に記載の処理装置。
【請求項7】
前記第1部分と前記第2部分とを連通させるように複数の捕捉ノズルが前記分離壁に配置され、前記複数の捕捉ノズルは、前記捕捉ノズルを含む、
ことを請求項6に記載の処理装置。
【請求項8】
前記異物検知部は、前記第1部分に連通する第1空間を規定する第1部材と、前記第2部分に連通する第2空間を規定する第2部材とを更に含み、
前記第1空間および前記第2空間の断面積は、前記流路の断面積より大きい、
ことを特徴とする請求項6に記載の処理装置。
【請求項9】
前記異物検知部は、前記第1空間から前記第2空間に前記液体が移動しているときに前記異物検知部が異物検知動作を行い、
前記捕捉ノズルは、前記第1空間の側に入口を有し、前記第2空間の側に出口を有し、
前記入口の断面積は、前記出口の断面積より大きい、
ことを特徴とする請求項8に記載の処理装置。
【請求項10】
前記第1部分から前記第2部分に向かう方向に直交する方向おいて、前記入口と前記出口とが互いにずれて配置され、前記捕捉ノズルは、前記入口と前記出口とを接続する接続空間を有する、
ことを特徴とする請求項9に記載の処理装置。
(【請求項11】以降は省略されています)
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本発明は、処理装置および物品製造方法に関する。
続きを表示(約 1,600 文字)
【背景技術】
【0002】
半導体デバイス等の物品の製造において、基板の上にインプリント材の液滴を配置し、そのインプリント材をモールドによって成形することによって基板の上にパターンを形成するインプリント技術が使用されうる。あるいは、ディスプレイパネルの製造において、基板の上に有機材料を含む液体を塗布し、これを乾燥および焼成することによって有機層を形成する塗布方式が使用されうる。
【0003】
基板の上に液体を配置するための液体吐出装置は、インクジェット方式で液体を複数の吐出口から吐出するように構成されうる。液体吐出装置を長期間にわたって使用することにより、液体に異物が混入しうる。その異物が吐出ヘッドの流路に運ばれると、吐出不良が発生しうる。また、液体とともに異物が基板上に吐出されると、製品不良が発生しうる。
【0004】
特許文献1には、インプリント材吐出装置が記載されている。このインプリント材吐出装置では、収容部内のインプリント材を循環させる通路に設けられたフィルタによって異物が除去される。しかしながら、特許文献1には、液体中の異物を検知することは記載されていない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
特開2020-129671号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
本発明は、液体を処理し又は液体を使って処理を行う処理装置において異物の検知に有利な技術を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本発明の1つの側面は、処理装置に係り、前記処理装置は、液体を処理し又は液体を使って処理を行う機能部と、前記機能部に接続された流路と、前記流路に配置された異物検知部と、を備え、前記異物検知部は、前記流路を前記液体が流れるように配置された捕捉ノズルと、前記捕捉ノズルによる異物の捕捉を検知するセンサとを含む。
【発明の効果】
【0008】
本発明によれば、液体を処理し又は液体を使って処理を行う装置において異物の検知に有利な技術が提供される。
【図面の簡単な説明】
【0009】
第1実施形態の処理装置の構成を模式的に示す図。
異物検知部一部の断面構造を模式的に示す断面図。
異物検知部の分離壁およびその周辺の構成を模式的に示す断面図。
図4の分離壁の一部を拡大した模式図。
圧電素子から出力される電気信号を例示する図。
第2実施形態の処理装置の構成を模式的に示す図。
吐出部の吐出ヘッドの構成を模式的に示す図。
第2実施形態の処理装置の動作を例示するフローチャート。
吐出装置として構成された処理装置が組み込まれたインプリント装置の構成例を示す図。
図9のインプリント装置の動作を例示するフローチャート。
第4実施形態の処理装置の構成を模式的に示す図。
第4実施形態の処理装置の異常検知部のメンテナンス処理の手順を例示するフローチャート。
第4実施形態の処理装置の構成を模式的に示す図。
第4実施形態の処理装置の異常検知部のメンテナンス処理の手順を例示するフローチャート。
第5実施形態の処理装置の構成を模式的に示す図。
【発明を実施するための形態】
【0010】
以下、添付図面を参照して実施形態を詳しく説明する。なお、以下の実施形態は特許請求の範囲に係る発明を限定するものではない。実施形態には複数の特徴が記載されているが、これらの複数の特徴の全てが発明に必須のものとは限らず、また、複数の特徴は任意に組み合わせられてもよい。さらに、添付図面においては、同一若しくは同様の構成に同一の参照番号を付し、重複した説明は省略する。
(【0011】以降は省略されています)
この特許をJ-PlatPatで参照する
関連特許
キヤノン株式会社
移動体
3日前
キヤノン株式会社
トナー
3日前
キヤノン株式会社
トナー
3日前
キヤノン株式会社
顕微鏡
4日前
キヤノン株式会社
記憶装置
3日前
キヤノン株式会社
記録装置
3日前
キヤノン株式会社
記録装置
3日前
キヤノン株式会社
光学装置
10日前
キヤノン株式会社
処理装置
3日前
キヤノン株式会社
撮像装置
6日前
キヤノン株式会社
撮像装置
4日前
キヤノン株式会社
光走査装置
12日前
キヤノン株式会社
光学センサ
9日前
キヤノン株式会社
画像形成装置
6日前
キヤノン株式会社
通信システム
4日前
キヤノン株式会社
光電変換装置
4日前
キヤノン株式会社
画像形成装置
13日前
キヤノン株式会社
画像形成装置
10日前
キヤノン株式会社
画像形成装置
6日前
キヤノン株式会社
光電変換装置
4日前
キヤノン株式会社
画像形成装置
6日前
キヤノン株式会社
画像形成装置
4日前
キヤノン株式会社
画像処理装置
13日前
キヤノン株式会社
画像表示装置
9日前
キヤノン株式会社
画像形成装置
10日前
キヤノン株式会社
画像形成装置
5日前
キヤノン株式会社
画像処理装置
13日前
キヤノン株式会社
画像形成装置
4日前
キヤノン株式会社
画像形成装置
13日前
キヤノン株式会社
情報処理装置
16日前
キヤノン株式会社
画像形成装置
4日前
キヤノン株式会社
画像形成装置
13日前
キヤノン株式会社
画像形成装置
9日前
キヤノン株式会社
液体供給装置
13日前
キヤノン株式会社
放射線検出装置
9日前
キヤノン株式会社
液体吐出ヘッド
12日前
続きを見る
他の特許を見る