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公開番号2025090646
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-06-17
出願番号2025033920,2023128116
出願日2025-03-04,2018-11-13
発明の名称蒸着マスクを製造するための金属板
出願人大日本印刷株式会社
代理人個人,個人,個人
主分類C23C 14/04 20060101AFI20250610BHJP(金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般)
要約【課題】蒸着マスクの製造に適した金属板を提供する。
【解決手段】金属板の複数のサンプルが評価された場合に得られる、補正距離が0.2μmである場合の相関係数が、補正距離が0.1μmである場合の相関係数よりも高く、且つ補正距離が0.3μmである場合の相関係数よりも高く、金属板の複数のサンプル評価された場合に得られる、補正距離が0.2μmである場合の窪み補正容積密度が12000μm³/mm²以下である。
【選択図】図14
特許請求の範囲【請求項１】
蒸着マスクを製造するための金属板であって、
前記金属板の複数のサンプルが下記の評価方法によって評価された場合に得られる、補正距離が０．２μｍである場合の相関係数が、補正距離が０．１μｍである場合の相関係数よりも高く、且つ補正距離が０．３μｍである場合の相関係数よりも高く、
前記金属板の複数のサンプルが下記の評価方法によって評価された場合に得られる、補正距離が０．２μｍである場合の窪み補正容積密度が１２０００μｍ
３
／ｍｍ
２
以下であり、
前記評価方法は、
複数の補正距離に基づいてそれぞれ算出される複数の窪み補正容積密度と、リブ部の幅の標準偏差との間の相関係数をそれぞれ求める工程を備え、
前記リブ部は、前記金属板をエッチングすることによって形成される複数の凹部の間に位置し、エッチングされずに残っている前記金属板の表面の部分であり、
前記金属板は、前記金属板の表面に位置する複数の窪みを有し、
前記表面は、０．１ｍｍ
２
以上の面積を有する検査領域を含み、前記複数の窪みの一部が、前記検査領域に位置し、
前記複数の窪み補正容積密度はそれぞれ、前記複数の補正距離にそれぞれ対応する窪み補正容積を前記検査領域の面積で割ることによって算出され、
前記窪み補正容積は、前記検査領域に位置する前記複数の前記窪みの前記一部の、前記金属板の厚み方向において前記表面から前記補正距離以上離れた部分の容積の総和であり、
前記容積は、前記複数の前記窪みの前記一部の深さをレーザー顕微鏡によって測定した結果に基づいて算出される、金属板。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示の実施形態は、蒸着マスクを製造するための金属板に関する。
続きを表示（約 3,500 文字）【背景技術】
【０００２】
近年、スマートフォンやタブレットＰＣ等の持ち運び可能なデバイスで用いられる表示装置に対して、高精細であること、例えば画素密度が５００ｐｐｉ以上であることが求められている。また、持ち運び可能なデバイスにおいても、ウルトラハイディフィニション（ＵＨＤ）に対応することへの需要が高まっており、この場合、表示装置の画素密度が例えば８００ｐｐｉ以上であることが好ましい。
【０００３】
表示装置の中でも、応答性の良さ、消費電力の低さやコントラストの高さのため、有機ＥＬ表示装置が注目されている。有機ＥＬ表示装置の画素を形成する方法として、所望のパターンで配列された貫通孔が形成された蒸着マスクを用い、所望のパターンで画素を形成する方法が知られている。具体的には、はじめに、有機ＥＬ表示装置用の基板に対して蒸着マスクを密着させ、次に、密着させた蒸着マスクおよび基板を共に蒸着装置に投入し、有機材料を基板に蒸着させる蒸着工程を行う。これによって、蒸着マスクの貫通孔のパターンに対応したパターンで、基板上に、有機材料を含む画素を形成することができる。
【０００４】
蒸着マスクの製造方法としては、フォトリソグラフィー技術を用いたエッチングによって金属板に貫通孔を形成する方法が知られている。例えば、はじめに、金属板の第１面上に露光・現像処理によって第１レジストパターンを形成し、また金属板の第２面上に露光・現像処理によって第２レジストパターンを形成する。次に、金属板の第１面のうち第１レジストパターンによって覆われていない領域をエッチングして、金属板の第１面に第１凹部を形成する。その後、金属板の第２面のうち第２レジストパターンによって覆われていない領域をエッチングして、金属板の第２面に第２凹部を形成する。この際、第１凹部と第２凹部とが通じ合うようにエッチングを行うことにより、金属板を貫通する貫通孔を形成することができる。蒸着マスクを作製するための金属板は、例えば、ニッケルを含む鉄合金からなる母材を圧延することによって作製される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
特許第５３８２２５９号公報
【発明の概要】
【０００６】
本開示の実施形態は、蒸着マスクの製造に適した金属板を提供することを目的とする。
【０００７】
本開示の一実施形態は、蒸着マスクを製造するための金属板であって、
前記金属板の複数のサンプルが下記の評価方法によって評価された場合に得られる、補正距離が０．２μｍである場合の相関係数が、補正距離が０．１μｍである場合の相関係数よりも高く、且つ補正距離が０．３μｍである場合の相関係数よりも高く、
前記金属板の複数のサンプルが下記の評価方法によって評価された場合に得られる、補正距離が０．２μｍである場合の窪み補正容積密度が１２０００μｍ
３
／ｍｍ
２
以下であり、
前記評価方法は、
複数の補正距離に基づいてそれぞれ算出される複数の窪み補正容積密度と、リブ部の幅の標準偏差との間の相関係数をそれぞれ求める工程を備え、
前記リブ部は、前記金属板をエッチングすることによって形成される複数の凹部の間に位置し、エッチングされずに残っている前記金属板の表面の部分であり、
前記金属板は、前記金属板の表面に位置する複数の窪みを有し、
前記表面は、０．１ｍｍ
２
以上の面積を有する検査領域を含み、前記複数の窪みの一部が、前記検査領域に位置し、
前記複数の窪み補正容積密度はそれぞれ、前記複数の補正距離にそれぞれ対応する窪み補正容積を前記検査領域の面積で割ることによって算出され、
前記窪み補正容積は、前記検査領域に位置する前記複数の前記窪みの前記一部の、前記金属板の厚み方向において前記表面から前記補正距離以上離れた部分の容積の総和であり、
前記容積は、前記複数の前記窪みの前記一部の深さをレーザー顕微鏡によって測定した結果に基づいて算出される、金属板である。
【０００８】
本開示の一実施形態によれば、蒸着マスクの製造に適した金属板を効率的に得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
本開示の一実施形態による蒸着マスク装置を備えた蒸着装置を示す図である。
図１に示す蒸着マスク装置を用いて製造した有機ＥＬ表示装置（有機ＥＬ表示装置中間体）を示す断面図である。
本開示の一実施形態による蒸着マスク装置を示す平面図である。
図３に示された蒸着マスクの有効領域を示す部分平面図である。
図４のV－V線に沿った断面図である。
図４のVI－VI線に沿った断面図である。
図４のVII－VII線に沿った断面図である。
蒸着マスクの有効領域の一変形例を示す部分平面図である。
図８のIX－IX線に沿った断面図である。
貫通孔およびその近傍の領域を拡大して示す断面図である。
母材を圧延して、所望の厚みを有する金属板を得る工程を示す図である。
圧延によって得られた金属板をアニールする工程を示す図である。
圧延によって得られた金属板の表面に複数の窪みが存在する様子を示す図である。
金属板の断面の一例を示す図である。
図１４に示す金属板を第１面側からエッチングして第２凹部を形成する工程を示す断面図である。
第１凹部に連通する第２凹部を金属板の第２面側に形成する工程を示す断面図である。
金属板の窪みに起因して貫通孔の開口寸法の精度が低下する様子を説明するための図である。
金属板の検査工程を説明するための平面図である。
金属板の検査工程を説明するための断面図である。
蒸着マスクの製造方法の一例を全体的に説明するための模式図である。
金属板上にレジスト膜を形成する工程を示す図である。
レジスト膜に露光マスクを密着させる工程を示す図である。
レジスト膜を現像する工程を示す図である。
第１面エッチング工程を示す図である。
第１凹部を樹脂によって被覆する工程を示す図である。
第２面エッチング工程を示す図である。
図２６に続く第２面エッチング工程を示す図である。
金属板から樹脂及びレジストパターンを除去する工程を示す図である。
第１検査例によって各サンプルの表面の窪みの状態を検査した結果を示す表である。
各金属板に形成した凹部及びリブ部のパターンの一例を示す平面図である。
図３０に示す金属板の断面図である。
各金属板に形成した凹部及びリブ部のパターンのその他の例を示す平面図である。
第１検査例によって得られた指標と、各サンプルに形成されたリブ部の寸法精度との相関を示す散布図である。
第２検査例～第５検査例によって金属板の各サンプルの表面の窪みの状態を検査した結果を示す表である。
第２検査例によって得られた指標と、各サンプルに形成されたリブ部の寸法精度との相関を示す散布図である。
第３検査例によって得られた指標と、各サンプルに形成されたリブ部の寸法精度との相関を示す散布図である。
第４検査例によって得られた指標と、各サンプルに形成されたリブ部の寸法精度との相関を示す散布図である。
第５検査例によって得られた指標と、各サンプルに形成されたリブ部の寸法精度との相関を示す散布図である。
選別された複数の金属板の窪み補正容積密度の分布の一例を示す図である。
選別された複数の金属板の窪み補正容積密度の分布の一例を示す図である。
製造された複数の金属板の窪み補正容積密度の分布の一例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、図面を参照して本開示の一実施の形態について説明する。なお、本件明細書に添付する図面においては、図示と理解のしやすさの便宜上、適宜縮尺および縦横の寸法比等を、実物のそれらから変更し誇張してある。
（【００１１】以降は省略されています）

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