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公開番号2025088387
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-06-11
出願番号2023203065
出願日2023-11-30
発明の名称蒸着装置及びこれを用いた蒸着方法
出願人株式会社オプトラン
代理人個人,個人
主分類C23C 14/24 20060101AFI20250604BHJP(金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般)
要約【課題】基材への蒸着材料の直入性を確保することが可能な蒸着装置及びこれを用いた蒸着方法の提供。
【解決手段】本発明に係る蒸着装置1は、蒸着材料Dを蒸発させる蒸発源10と、蒸発源10と対向するように配置され、基板を保持する基板保持体20と、蒸発源10及び基板保持体20を収容する真空容器30とを備えている。真空容器30は、基板保持体20に向けて開放する開口部31Cを有し、蒸発源10を収容する蒸発源収容部31と、蒸発源10に向けて開放する開口部32Cを有し、基板保持体20を収容する基材保持体収容部32とを有している。蒸発源収容部31及び基板保持体収容部32は、筒状連結部材40を介して連結可能に構成されている。
【選択図】図2
特許請求の範囲【請求項１】
基材に薄膜を形成する蒸着装置であって、
蒸着材料を蒸発させる蒸発源と、
前記蒸発源と対向するように配置され、前記基材を保持する基材保持体と、
前記蒸発源及び前記基材保持体を収容する真空容器と、
を備え、
前記真空容器は、
前記基材保持体に向けて開放する蒸発源側開放端を有し、前記蒸発源を収容する蒸発源収容部と、
前記蒸発源に向けて開放する基材保持体側開放端を有し、前記基材保持体を収容する基材保持体収容部と、
を備え、
前記蒸発源収容部及び前記基材保持体収容部は、筒状連結部材を介して接続可能に構成されている、蒸着装置。
続きを表示（約 630 文字）【請求項２】
前記蒸発源は、前記薄膜の蒸着方向視における中央位置が前記基材保持体の中央位置と一致するように配置されている、請求項１に記載の蒸着装置。
【請求項３】
前記筒状連結部材は、複数有し、各々の筒高さが異なるように形成されている、請求項１又は請求項２に記載の蒸着装置。
【請求項４】
基材に薄膜を形成する蒸着装置を用いた蒸着方法であって、
前記蒸着装置は、
蒸着材料を蒸発させる蒸発源と、
前記蒸発源と対向するように配置され、前記基材を保持する基材保持体と、
前記蒸発源及び前記基材保持体を収容する真空容器と、
を備え、
前記真空容器は、
前記基材保持体に向けて開放する蒸発源側開放端を有し、前記蒸発源を収容する蒸発源収容部と、
前記蒸発源に向けて開放する基材保持体側開放端を有し、前記基材保持体を収容する基材保持体収容部と、
を備え、
前記蒸発源収容部及び前記基材保持体収容部は、筒状連結部材を介して接続可能に構成され、
前記蒸着方法は、
前記蒸発源収容部と前記基材保持体収容部とを直結するか又は前記筒状連結部材を介して接続して前記蒸発源と前記基材保持体との間の離間距離を調整する離間距離調整工程と、
前記離間距離調整工程を行った後に、前記基材に前記蒸着材料を蒸着する蒸着工程と、
を含む、蒸着方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、蒸着装置及びこれを用いた蒸着方法に関し、蒸着材料を蒸発させる蒸発源と、基材を保持する基材保持体と、蒸発源及び基材保持体を収容する真空容器とを備えた蒸着装置及びこれを用いた蒸着方法に関する。
続きを表示（約 1,200 文字）【背景技術】
【０００２】
従来から、基板等の基材の表面に蒸着材料を蒸着させる蒸着装置として、種々提案されており、このような蒸着装置として、例えば、特許文献１に開示されたものがある。
【０００３】
特許文献１に記載の蒸着装置は、真空容器（真空チャンバ）内の下方に配置される蒸発源（成膜源）と、真空容器内の上方に配置される回転式の基材保持体（基板ホルダ）と、真空容器内の圧力を制御する圧力制御手段とを備え、真空容器の大きさに基づいて決定された圧力範囲となるように圧力制御手段を作動させて真空容器の内圧を調整し、その後、基材（基板）に薄膜を形成するように構成されたものである。
【０００４】
このような蒸着装置によれば、基材の表面に成膜分子で埋め尽くされた薄膜を形成することが可能なため、耐摩耗性等に優れた基材を作製（製造）することが期待できる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
国際公開第２０１３／１０５２４３号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、この種の蒸着装置では、基材への蒸着材料の被着性を向上させるため、当該蒸着材料を基材の表面に極力垂直に付着させること、すなわち、基材に対する蒸着材料の垂直入射成分を増加させることが有効である。
【０００７】
しかしながら、特許文献１に記載の蒸着装置では、基材の表面と成膜源（蒸発源）との距離等に基づいて真空容器の内部を最適な圧力に制御したものではあるが、基材に対する蒸着材料の垂直入射性（以下、単に「直入性」という）について何ら考慮されていないため、基材保持体の形状や大きさ等によっては、蒸着材料の被着性が低下するおそれが多分にあり、斯かる場合、薄膜の品質が低下するといった問題が生じる。
【０００８】
また、基材保持体が、特許文献１の基材保持体のように、複数の基材を保持できる構造であると、蒸着材料の入射角度が各基材毎に異なりやすく、例えば、基材保持体の周縁部側に保持される基材においては、その中央部側に保持される基材と比べて、蒸着材料の直入性を確保することが困難になる場合が少なくない。斯かる場合、各基材間で蒸着材料の被着性にばらつきが生じるため、高品質の薄膜を同時且つ安定的に形成することができないといった問題を招く。
【０００９】
これらの点を踏まえると、特許文献１の蒸着装置は、高品質の基板を安定的に作製するといった面において十分とはいい難く、未だ改善の余地があるものといえる。
【００１０】
本発明は、このような課題を解消するためになされたものであり、基材への蒸着材料の直入性を確保することが可能な蒸着装置及びこれを用いた蒸着方法を提供することにある。
（【００１１】以降は省略されています）

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