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公開番号2025154891
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-10-10
出願番号2024058150
出願日2024-03-29
発明の名称磁性材ターゲット及び磁性材ターゲット組立品
出願人JX金属株式会社
代理人アクシス国際弁理士法人
主分類C23C 14/34 20060101AFI20251002BHJP(金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般)
要約【課題】スパッタ製膜時のパーティクルの発生が良好に抑制されたCoを主成分とし、酸化物を含んだ磁性材ターゲット及び磁性材ターゲット組立品を提供する。
【解決手段】Pt、Cr、Ru、B、及び、Tiのうちいずれか一種以上と、酸化物と、を含み、残部がCo及び選択的に含む不純物であり、Co、Pt、Cr、Ru、及び、Tiの濃度の合計が50at%以上であり、Bの濃度が9at%以上であり、Oの濃度が13.5at%以上であり、酸化物はBの酸化物を含み、酸化物の形状を円と仮定して算出した酸化物の直径の算術平均値が0.55μm以下である、磁性材ターゲット。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
Ｐｔ、Ｃｒ、Ｒｕ、Ｂ、及び、Ｔｉのうちいずれか一種以上と、
酸化物と、
を含み、残部がＣｏ及び選択的に含む不純物であり、
Ｃｏ、Ｐｔ、Ｃｒ、Ｒｕ、及び、Ｔｉの濃度の合計が５０ａｔ％以上であり、
Ｂの濃度が９ａｔ％以上であり、Ｏの濃度が１３．５ａｔ％以上であり、
前記酸化物はＢの酸化物を含み、
前記酸化物の形状を円と仮定して算出した前記酸化物の直径の算術平均値が０．５５μｍ以下である、磁性材ターゲット。
続きを表示（約 420 文字）【請求項２】
観察視野面積１１５６９μｍ
2
当たりの前記酸化物の個数が５０００個以上である、請求項１に記載の磁性材ターゲット。
【請求項３】
観察視野面積１１５６９μｍ
2
当たりの前記酸化物の面積の合計が１９００μｍ
2
以下である、請求項１に記載の磁性材ターゲット。
【請求項４】
前記酸化物が更にＡｌ、Ｓｉ、Ｂａ、Ｂｅ、Ｃａ、Ｃｅ、Ｃｒ、Ｃｏ、Ｄｙ、Ｅｒ、Ｅｕ、Ｇａ、Ｇｄ、Ｈｏ、Ｌｉ、Ｍｇ、Ｍｎ、Ｎｂ、Ｎｄ、Ｐｒ、Ｓｃ、Ｓｍ、Ｓｒ、Ｔａ、Ｔｂ、Ｔｉ、Ｖ、Ｙ、Ｚｎ、Ｚｒから選択される元素の酸化物をいずれか一種以上含有する、請求項１に記載の磁性材ターゲット。
【請求項５】
請求項１～４のいずれか一項に記載の磁性材ターゲットと、
前記磁性材ターゲットに接合されたバッキングプレートと、
を備えた、磁性材ターゲット組立品。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は磁性材ターゲット及び磁性材ターゲット組立品に関するものであり、主に、ＨＤＤの膜の製造向けの磁性材ターゲットに関するものである。
続きを表示（約 2,200 文字）【背景技術】
【０００２】
垂直磁気記録方式を採用するハードディスクドライブ（ＨＤＤ）を構成する層には、例えば、強磁性金属であるＣｏ、Ｆｅ、Ｎｉをベースとした材料が用いられており、記録層には、Ｃｏを主成分とするＣｏ－Ｃｒ系、Ｃｏ－Ｐｔ系、Ｃｏ－Ｃｒ－Ｐｔ系などの強磁性合金と非磁性の無機材料からなる複合材料が多く用いられている。このようなハードディスクドライブなどの磁気記録媒体の薄膜は、生産性の高さから、上記の材料を成分とする磁性材ターゲットをスパッタリングして作製されることが多い。
【０００３】
磁性材ターゲットの製造は、一般に、まず、原材料の粉末を粉砕し混合して得られた混合物を、ホットプレスすることにより焼結体を得る。この後、焼結体の密度向上のために、ＨＩＰ(Hot Isostatic Pressing：熱間等方圧加圧)加工を施すことがある。このようにして得られた焼結体を旋盤により加工し、所定の形状のターゲットを製造している（特許文献１～３）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特許第６４４５１２６号公報
特許第６３３２８６９号公報
特許第６９５８８１９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上述のように、ＨＤＤの記録層としてＣｏを主成分とする強磁性合金と非磁性の無機材料からなる複合材料が有用であり、ＨＤＤのメディアメーカーによってスパッタ製膜されて、磁性粒子が酸化物粒界で隔てられたグラニュラー構造の薄膜となる。そして、近年、Ｃｏを主成分とする磁性粒子として用いる垂直磁気記録方式のメディアでは、添加酸化物中でＢの酸化物の割合が増加するトレンドにある。
【０００６】
Ｃｏを主成分とし、酸化物を含んだ磁性材ターゲットのスパッタ製膜時での問題点の一つに、粗大な酸化物からのアーキング発生がある。アーキングからパーティクルが生じ、これが基板に付着した場合、媒体の歩留りが低下する。このため、Ｃｏを主成分とし、酸化物を含んだ磁性材ターゲットの製造において、これまで母合金相中に、酸化物が微細分散したターゲットを製造することが重要であった。一方、Ｂの酸化物は、Ｃｏを主成分とし、酸化物を含んだ磁性材ターゲットの製造において添加される酸化物種の中では低融点の材料であり、近年、Ｂの酸化物の添加量が増加傾向にある。このため、従来技術では酸化物が微細分散したターゲットを作製することが難しくなっており、スパッタ製膜時にパーティクルが発生しやすくなっている。
【０００７】
そこで、本発明の実施形態は、スパッタ製膜時のパーティクルの発生が良好に抑制されたＣｏを主成分とし、酸化物を含んだ磁性材ターゲット及び磁性材ターゲット組立品を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題は、以下のように特定される本発明によって解決される。
１．Ｐｔ、Ｃｒ、Ｒｕ、Ｂ、及び、Ｔｉのうちいずれか一種以上と、
酸化物と、
を含み、残部がＣｏ及び選択的に含む不純物であり、
Ｃｏ、Ｐｔ、Ｃｒ、Ｒｕ、及び、Ｔｉの濃度の合計が５０ａｔ％以上であり、
Ｂの濃度が９ａｔ％以上であり、Ｏの濃度が１３．５ａｔ％以上であり、
前記酸化物はＢの酸化物を含み、
前記酸化物の形状を円と仮定して算出した前記酸化物の直径の算術平均値が０．５５μｍ以下である、磁性材ターゲット。
２．観察視野面積１１５６９μｍ
2
当たりの前記酸化物の個数が５０００個以上である、前記１に記載の磁性材ターゲット。
３．観察視野面積１１５６９μｍ
2
当たりの前記酸化物の面積の合計が１９００μｍ
2
以下である、前記１または２に記載の磁性材ターゲット。
４．前記酸化物が更にＡｌ、Ｓｉ、Ｂａ、Ｂｅ、Ｃａ、Ｃｅ、Ｃｒ、Ｃｏ、Ｄｙ、Ｅｒ、Ｅｕ、Ｇａ、Ｇｄ、Ｈｏ、Ｌｉ、Ｍｇ、Ｍｎ、Ｎｂ、Ｎｄ、Ｐｒ、Ｓｃ、Ｓｍ、Ｓｒ、Ｔａ、Ｔｂ、Ｔｉ、Ｖ、Ｙ、Ｚｎ、Ｚｒから選択される元素の酸化物をいずれか一種以上含有する、前記１～３のいずれかに記載の磁性材ターゲット。
５．前記１～４のいずれかに記載の磁性材ターゲットと、
前記磁性材ターゲットに接合されたバッキングプレートと、
を備えた、磁性材ターゲット組立品。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の実施形態によれば、スパッタ製膜時のパーティクルの発生が良好に抑制されたＣｏを主成分とし、酸化物を含んだ磁性材ターゲット及び磁性材ターゲット組立品を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
ＩｍａｇｅＪを用いた画像解析における、二値化処理された画像と元画像との例を示す。
ＩｍａｇｅＪを用いた二値化処理の設定条件のスクリーンショットである。
実施例１のＳＥＭ画像である。
実施例２のＳＥＭ画像である。
実施例３のＳＥＭ画像である。
実施例４のＳＥＭ画像である。
比較例１のＳＥＭ画像である。
【発明を実施するための形態】
（【００１１】以降は省略されています）

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