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公開番号2025146100
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-10-03
出願番号2024046704
出願日2024-03-22
発明の名称製膜装置
出願人株式会社カネカ
代理人個人,個人
主分類C23C 16/455 20060101AFI20250926BHJP(金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般)
要約【課題】本発明は、ガス放出部内で材料ガスを十分に混合できる製膜装置を提供する。
【解決手段】第1ガス供給系統と、第2ガス供給系統と、ガス放出部と、製膜室を有し、第1ガス供給系統は、第1材料ガスをガス放出部に供給可能であり、第2ガス供給系統は、第2材料ガスをガス放出部に供給可能であり、ガス放出部は、製膜室内に配されており、ガス放出部は、一又は複数のガス放出口を有し、ガス放出口から基材に対して製膜ガスを放出可能であり、ガス放出部は、内部空間と、第1ガス供給系統から供給された第1材料ガスを内部空間に分散する第1ガス分散部と、第2ガス供給系統から供給された第2材料ガスを内部空間に分散する第2ガス分散部を有し、第1ガス分散部は、第2ガス分散部からガス放出口への第2材料ガスの流れ方向の下流側に位置し、かつ第2材料ガスの一部を遮るように設けられている構成とする。
【選択図】図11
特許請求の範囲【請求項１】
基材に対して薄膜を製膜する製膜装置であって、
第１ガス供給系統と、第２ガス供給系統と、ガス放出部と、製膜室を有し、
前記第１ガス供給系統は、第１材料ガスを前記ガス放出部に供給可能であり、
前記第２ガス供給系統は、第２材料ガスを前記ガス放出部に供給可能であり、
前記ガス放出部は、前記製膜室内に配されており、
前記ガス放出部は、一又は複数のガス放出口を有し、前記ガス放出口から前記基材に対して製膜ガスを放出可能であり、
前記ガス放出部は、内部空間と、前記第１ガス供給系統から供給された第１材料ガスを前記内部空間に分散する第１ガス分散部と、前記第２ガス供給系統から供給された第２材料ガスを前記内部空間に分散する第２ガス分散部を有し、
前記第１ガス分散部は、前記第２ガス分散部から前記ガス放出口への第２材料ガスの流れ方向の下流側に位置し、かつ第２材料ガスの一部を遮るように設けられている、製膜装置。
続きを表示（約 660 文字）【請求項２】
前記ガス放出口を有するガス放出部材を有し、
前記第１ガス分散部は、前記第２ガス分散部と前記ガス放出部材との間に配されており、
前記第１ガス分散部は、平面視したときに、面積が前記第２ガス分散部の面積よりも大きく、かつ前記第２ガス分散部の全体と重なっている、請求項１に記載の製膜装置。
【請求項３】
前記第１ガス分散部は、平面視したときに、面積が前記第２ガス分散部の面積の１．５倍以上である、請求項２に記載の製膜装置。
【請求項４】
前記第１ガス分散部は、円柱状又は回転対称体状の第１筐体部と、前記第１筐体部の内部から前記内部空間に第１材料ガスを導入する第１ガス導入部を有しており、
前記第２ガス分散部は、円柱状又は回転対称体状の第２筐体部と、前記第２筐体部の内部から前記内部空間に第２材料ガスを導入する第２ガス導入部を有しており、
前記第１筐体部の中心軸は、前記第２筐体部の中心軸と同軸である、請求項１～３のいずれか１項に記載の製膜装置。
【請求項５】
前記第１ガス導入部は、円柱状又は回転対称体状であって、前記第１筐体部から突出しており、
前記第２ガス導入部は、導入する第２材料ガスが前記第１ガス導入部の外周面を沿うように第２材料ガスを導入する、請求項４に記載の製膜装置。
【請求項６】
前記第１材料ガスは、前記第２材料ガスよりも気化温度が高い、請求項１～３のいずれか１項に記載の製膜装置。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、基材に薄膜を製膜する製膜装置に関する。
続きを表示（約 1,700 文字）【背景技術】
【０００２】
従来から、有機ＥＬ装置の各層の製膜には、真空蒸着装置が使用されている（例えば、特許文献１）。
特許文献１の蒸着装置は、いわゆる、ガスキャリア方式の蒸着装置であり、固体状（主に粉体状）の薄膜形成材料を高温のキャリアガスで気化室内に導入するとともに、気化室内で薄膜形成材料を加熱し、気化させて薄膜材料ガスを生成し、キャリアガスで薄膜材料ガスを製膜室まで圧送し、製膜室内においてガス放出部からキャリアガスと薄膜材料ガスの混合ガスを基材に対して吹き付ける構造となっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２０２２－１３５２７０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、有機ＥＬ装置の有機発光層は、ホスト材料にドーパント材料（発光材料）を添加して製膜される。
特許文献１の蒸着装置において有機発光層を共蒸着する場合、ホスト材料を供給するガス供給系統とドーパント材料を供給するガス供給系統のそれぞれから、薄膜材料ガスを製膜室内のガス放出部に導入し、それぞれの薄膜材料ガスをガス放出部で混合して製膜ガスとして基材に対して吹き付ける。
このとき、ガス放出部内での薄膜材料ガスの分散が不十分な場合、基材上で膜厚分布が生じてしまい、基材上に均一な薄膜を製膜できないおそれがあった。
【０００５】
そこで、本発明は、ガス放出部内で材料ガスを十分に混合できる製膜装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記した課題を解決するための本発明の一つの様相は、基材に対して薄膜を製膜する製膜装置であって、第１ガス供給系統と、第２ガス供給系統と、ガス放出部と、製膜室を有し、前記第１ガス供給系統は、第１材料ガスを前記ガス放出部に供給可能であり、前記第２ガス供給系統は、第２材料ガスを前記ガス放出部に供給可能であり、前記ガス放出部は、前記製膜室内に配されており、前記ガス放出部は、一又は複数のガス放出口を有し、前記ガス放出口から前記基材に対して製膜ガスを放出可能であり、前記ガス放出部は、内部空間と、前記第１ガス供給系統から供給された第１材料ガスを前記内部空間に分散する第１ガス分散部と、前記第２ガス供給系統から供給された第２材料ガスを前記内部空間に分散する第２ガス分散部を有し、前記第１ガス分散部は、前記第２ガス分散部から前記ガス放出口への第２材料ガスの流れ方向の下流側に位置し、かつ第２材料ガスの一部を遮るように設けられている、製膜装置である。
【０００７】
本様相によれば、第１ガス分散部が第２ガス分散部から供給される第２材料ガスを遮るので、第２材料ガスが第１ガス分散部を迂回するように拡散してガス放出口側に流れる。そのため、ガス放出部内の内部空間で第２材料ガスを十分に分散でき、第１材料ガスと十分に混合できる。
【０００８】
好ましい様相は、前記ガス放出口を有するガス放出部材を有し、前記第１ガス分散部は、前記第２ガス分散部と前記ガス放出部材との間に配されており、前記第１ガス分散部は、平面視したときに、面積が前記第２ガス分散部の面積よりも大きく、かつ前記第２ガス分散部の全体と重なっている。
【０００９】
好ましい様相は、前記第１ガス分散部は、平面視したときに、面積が前記第２ガス分散部の面積の１．５倍以上である。
【００１０】
好ましい様相は、前記第１ガス分散部は、円柱状又は回転対称体状の第１筐体部と、前記第１筐体部の内部から前記内部空間に第１材料ガスを導入する第１ガス導入部を有しており、前記第２ガス分散部は、円柱状又は回転対称体状の第２筐体部と、前記第２筐体部の内部から前記内部空間に第２材料ガスを導入する第２ガス導入部を有しており、前記第１筐体部の中心軸は、前記第２筐体部の中心軸と同軸である。
（【００１１】以降は省略されています）

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