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公開番号2025157728
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-10-16
出願番号2024059926
出願日2024-04-03
発明の名称ドレッサ洗浄装置および基板研磨装置
出願人株式会社荏原製作所
代理人個人,個人,個人
主分類B24B 53/017 20120101AFI20251008BHJP(研削;研磨)
要約【課題】安定的な洗浄効果が得られるドレッサ洗浄装置および基板研磨装置を提供する。
【解決手段】ドレッサ洗浄装置50は、ドレッサ31を洗浄する洗浄流体をドレッサ31に吹き付ける洗浄ノズル34と、ドレッサ31と洗浄ノズル34の少なくとも一方を互いに接近および離間する方向に移動させる移動機構35と、洗浄ノズル34が洗浄流体をドレッサ31に吹き付ける際にドレッサ31に加えられる荷重を検出する荷重センサ36と、荷重センサ36の検出値に基づいて移動機構35を用いてドレッサ31と洗浄ノズル34との距離を調整する距離制御部37とを備える。
【選択図】図4
特許請求の範囲【請求項１】
基板研磨用の研磨パッドの研磨面をドレッシングするドレッサを洗浄するドレッサ洗浄装置であって、
前記ドレッサを洗浄する洗浄流体を前記ドレッサに吹き付ける洗浄ノズルと、
前記ドレッサと前記洗浄ノズルの少なくとも一方を互いに接近および離間する方向に移動させる移動機構と、
前記洗浄ノズルが前記洗浄流体を前記ドレッサに吹き付ける際に前記ドレッサに加えられる荷重を検出する荷重センサと、
前記荷重センサの検出値に基づいて前記移動機構を用いて前記ドレッサと前記洗浄ノズルとの距離を調整する距離制御部と、
を備える、ドレッサ洗浄装置。
続きを表示（約 310 文字）【請求項２】
前記洗浄ノズルは、前記研磨面に摺接される前記ドレッサのドレッシング面に対向して配置され、
前記移動機構は、前記ドレッサの高さ位置を調整するドレッサ昇降機構である、
請求項１記載のドレッサ洗浄装置。
【請求項３】
前記洗浄ノズルに前記洗浄流体を供給する洗浄流体供給部をさらに備え、
前記洗浄流体は、洗浄液と気体とを含む混合流体である、
請求項１記載のドレッサ洗浄装置。
【請求項４】
請求項１～３のうちいずれか１項に記載のドレッサ洗浄装置と、
前記研磨パッドを保持する研磨テーブルと、を備えた、
基板研磨装置。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、ドレッサ洗浄装置および基板研磨装置に関する。
続きを表示（約 1,500 文字）【背景技術】
【０００２】
半導体ウェハ等の基板の研磨に用いられるＣＭＰ装置（ＣＭＰ：Chemical Mechanical Polishing）は、ターンテーブル上面に研磨パッドが貼付された研磨テーブルと、研磨テーブルとの間に基板を保持するトップリングとを備えている。
ＣＭＰ装置は、研磨テーブルおよびトップリングをそれぞれ回転させながら、トップリングにより基板を所定の圧力で研磨パッドの研磨面（上面）に押し当て、研磨液を研磨面に供給しつつ、基板の表面を平坦かつ鏡面に研磨する。研磨液としては、通常、アルカリ溶液にシリカ等の微粒子からなる砥粒を懸濁した液が用いられる。基板は、アルカリによる化学的研磨作用と、砥粒による機械的研磨作用との複合作用によって研磨（化学的機械的研磨）される。
【０００３】
研磨パッドの研磨面は、基板研磨に伴い、砥粒や研磨屑の付着等により研磨性能が劣化していく。そのため、ＣＭＰ装置は、劣化した研磨パッドの研磨面を再生するドレッシング装置を有する。
ドレッシング装置は、回転駆動させたドレッサを研磨テーブルの研磨面に押し付けながら研磨面に沿って移動させることにより、研磨面に付着した砥粒や切削屑を除去するとともに、研磨面の平坦化および目立て（ドレッシング）を行なう。
【０００４】
ドレッサは、ドレッサ洗浄装置によって洗浄される。ドレッサ洗浄装置は、ノズルによってドレッサに洗浄流体を吹き付けてドレッサを洗浄する（例えば、特許文献１，２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
特開平９－２５４０１８号公報
特開平１１－３４７９１７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ドレッサ洗浄における洗浄力は、ノズルとドレッサとの距離、洗浄流体の流量、圧力などの洗浄条件によって決まる。ドレッサ洗浄装置では、一定の洗浄力が得られるように洗浄条件を設定するが、実際の洗浄効果は、装置ごとにばらつく可能性がある。
【０００７】
本発明の一態様は、安定的な洗浄効果が得られるドレッサ洗浄装置および基板研磨装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の態様１に係るドレッサ洗浄装置は、基板研磨用の研磨パッドの研磨面をドレッシングするドレッサを洗浄するドレッサ洗浄装置であって、前記ドレッサを洗浄する洗浄流体を前記ドレッサに吹き付ける洗浄ノズルと、前記ドレッサと前記洗浄ノズルの少なくとも一方を互いに接近および離間する方向に移動させる移動機構と、前記洗浄ノズルが前記洗浄流体を前記ドレッサに吹き付ける際に前記ドレッサに加えられる荷重を検出する荷重センサと、前記荷重センサの検出値に基づいて前記移動機構を用いて前記ドレッサと前記洗浄ノズルとの距離を調整する距離制御部と、を備える。
【０００９】
本発明の態様２に係るドレッサ洗浄装置は、態様１に記載のドレッサ洗浄装置において、前記洗浄ノズルは、前記研磨面に摺接される前記ドレッサのドレッシング面に対向して配置され、前記移動機構は、前記ドレッサの高さ位置を調整するドレッサ昇降機構である。
【００１０】
本発明の態様３に係るドレッサ洗浄装置は、態様１または２に記載のドレッサ洗浄装置において、前記洗浄ノズルに前記洗浄流体を供給する洗浄流体供給部をさらに備え、前記洗浄流体は、洗浄液と気体とを含む混合流体である。
（【００１１】以降は省略されています）

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