特許ウォッチ

公開番号2025066010
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-04-22
出願番号2023175587
出願日2023-10-10
発明の名称塗布装置
出願人東レエンジニアリング株式会社
代理人
主分類B05C 13/02 20060101AFI20250415BHJP(霧化または噴霧一般;液体または他の流動性材料の表面への適用一般)
要約【課題】塗布膜形成後に塗布膜の膜厚分布が変化することを防ぐことができる塗布装置を提供する。
【解決手段】基板Wを吸着保持する吸着面10aを有する吸着ステージ10と、吸着ステージ10に吸着保持された基板Wに塗布液を塗布し、基板W上に塗布膜Mを形成する塗布部20と、塗布膜Mが形成された後、吸着ステージ10による吸着保持が維持されている基板Wに対し、塗布膜Mの乾燥を促進させる乾燥促進部30と、を有する。
【選択図】図3
特許請求の範囲【請求項１】
基板を吸着保持する吸着面を有する吸着ステージと、
前記吸着ステージに吸着保持された基板に塗布液を塗布し、基板上に塗布膜を形成する塗布部と、
前記塗布膜が形成された後、吸着ステージによる吸着保持が維持されている基板に対し、前記塗布膜の乾燥を促進させる乾燥促進部と、
を有することを特徴とする、塗布装置。
続きを表示（約 480 文字）【請求項２】
前記乾燥促進部は、前記塗布膜を加熱する加熱乾燥部であることを特徴とする、請求項１に記載の塗布装置。
【請求項３】
前記乾燥促進部は、前記塗布膜の周囲を減圧環境にする減圧乾燥部であることを特徴とする、請求項１に記載の塗布装置。
【請求項４】
前記乾燥促進部は、
前記吸着ステージ上の基板に塗布液を塗布する前記塗布部から退避するための位置である退避位置と、
前記吸着ステージへ近接して前記塗布膜を乾燥させるための位置である近接位置と、
の２つの位置へ移動することを特徴とする、請求項１に記載の塗布装置。
【請求項５】
前記吸着ステージは、反りを有する基板を押さえつけて前記吸着面に沿わせる基板矯正機構をさらに有することを特徴とする、請求項１に記載の塗布装置。
【請求項６】
前記乾燥促進部で前記塗布膜の乾燥が促進された基板が前記吸着ステージから取り外された後、再度前記塗布膜を乾燥させる第２の乾燥促進部をさらに有することを特徴とする、請求項１に記載の塗布装置。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板上に塗布液を塗布し、塗布液を乾燥させることによって基板上に塗布膜を形成する塗布装置に関する。
続きを表示（約 1,500 文字）【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等のフラットパネルディスプレイには、基板上にレジスト液が塗布されたもの（塗布基板と称す）が使用されている。この塗布基板は、たとえば下記特許文献１に示されるような塗布膜形成装置によって生産される。この塗布膜形成装置による塗布基板の生産工程では、基板上にレジスト液を均一に塗布することによって塗布膜を形成し、その後、乾燥装置により塗布膜を乾燥する工程が含まれる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２００５－２４３６７０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１で示される塗布基板の生産工程では、レジスト塗布装置においてはＬＣＤ基板を水平姿勢で搬送しながらレジスト液を供給して塗布膜を形成し、その後減圧乾燥装置にて塗布膜に減圧乾燥処理が施されている。ここで、レジスト塗布装置から減圧乾燥装置へはコロ搬送機構等の基板搬送機構によって搬送されている。
【０００５】
一方、近年では、ウェーハに代わって大型の角形基板上にパッケージを一括して製造するファンアウトパネルレベルパッケージング（Ｆａｎ－ＯｕｔＰａｎｅｌＬｅｖｅｌＰａｃｋａｇｉｎｇ、ＦＯＰＬＰ）技術がある。当技術により生産性の向上、製造コストの低減が期待されるが、このＦＯＰＬＰに用いられるキャリア基板には反りがある場合が多い。また、近年開発が進んでいるペロブスカイト型太陽電池の製造に用いるキャリア基板も同様に反りがある場合が多い。
【０００６】
このキャリア基板にレジストなどの塗布液を塗布する場合には、図７（ａ）に示すように基板矯正機構１１２などで吸着ステージ１１０の吸着面１１０ａに基板Ｗを押し付けて吸着保持し、基板Ｗが吸着面１１０ａにならうように形状を矯正した後塗布部１２０による塗布を行う。このとき、塗布が完了して吸着ステージ１１０の吸着破壊が行われた直後に図７（ｂ）に示すように基板Ｗの形状が反った状態に戻ってしまうおそれがある。こうなった場合、基板Ｗが図示しない乾燥装置へ搬送されて基板Ｗ上の塗布膜Ｍが乾燥する前に、塗布膜Ｍを形成する塗布液が基板Ｗの端部から中央部へ流動してしまって塗布膜Ｍの膜厚分布が変化してしまうという問題があった。
【０００７】
本願発明は、上記問題点を鑑み、塗布膜形成後に塗布膜の膜厚分布が変化することを防ぐことができる塗布装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するために本発明の塗布装置は、基板を吸着保持する吸着面を有する吸着ステージと、前記吸着ステージに吸着保持された基板に塗布液を塗布し、基板上に塗布膜を形成する塗布部と、前記塗布膜が形成された後、吸着ステージによる吸着保持が維持されている基板に対し、前記塗布膜の乾燥を促進させる乾燥促進部と、を有することを特徴としている。
【０００９】
本発明の塗布装置によれば、乾燥促進部を有することによって吸着ステージによる基板の吸着を破壊する前に基板上の塗布膜を少なくとも流動性がほぼ無くなるまで乾燥させることが可能となり、仮に基板の吸着破壊直後に基板が反った場合であっても塗布膜の膜厚分布を維持することができる。
【００１０】
ここで、前記乾燥促進部は、前記塗布膜を加熱する加熱乾燥部であっても良い。
（【００１１】以降は省略されています）

関連特許