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公開番号2025069465
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-04-30
出願番号2025023368,2024505120
出願日2025-02-17,2023-06-08
発明の名称静電チャックおよびサセプタ
出願人日本碍子株式会社
代理人個人,個人,個人,個人
主分類H01L 21/683 20060101AFI20250422BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】接触面積を増大させることなく被加工物との吸着力が増大された静電チャックを実現する。
【解決手段】内部に埋設された電極に電圧を印加することによって載置面に載置された被加工物を静電吸着固定する静電チャックにおいて、載置面が、所定のピッチにて二次元的に離隔配置された複数の凸部と前記凸部の間の平坦な凹部とからなる凹凸構造を有してなり、凸部が、静電チャックの厚み方向に対して垂直でかつ高さが均一な平坦面を有する平坦部と、平坦部の周囲に位置し、平坦部から凹部に向かうにつれて高さが小さくなる傾斜部と、を備え、静電チャックの厚み方向に対する傾斜部の上面の傾斜角が65度以上84度以下である、ようにした。
【選択図】図2
特許請求の範囲【請求項１】
内部に埋設されたＥＳＣ電極に電圧を印加することによって載置面に載置された被加工物を静電吸着固定する静電チャックであって、
前記載置面が、所定のピッチにて二次元的に離隔配置された複数の凸部と前記凸部の間の平坦な凹部とからなる凹凸構造を有してなり、
前記凸部が、
前記静電チャックの厚み方向に対して垂直でかつ高さが均一な平坦面を有する平坦部と、
前記平坦部の周囲に位置し、前記平坦部から前記凹部に向かうにつれて高さが小さくなる傾斜部と、
を備え、
前記静電チャックの厚み方向に対する前記傾斜部の上面の傾斜角が６５度以上８４度以下である、
ことを特徴とする静電チャック。
続きを表示（約 670 文字）【請求項２】
請求項１に記載の静電チャックであって、
前記凸部は断面視テーパ状をなしている、
ことを特徴とする静電チャック。
【請求項３】
請求項２に記載の静電チャックであって、
前記凸部は前記平坦部および前記凹部の少なくとも一方と曲面にて連続している、
ことを特徴とする静電チャック。
【請求項４】
請求項１ないし請求項３のいずれかに記載の静電チャックであって、
前記平坦面が平面視円形状であり、
前記傾斜部が平面視円環状である、
ことを特徴とする静電チャック。
【請求項５】
請求項１ないし請求項３のいずれかに記載の静電チャックであって、
前記平坦面の前記凹部からの高さが１０μｍ～５０μｍである、
ことを特徴とする静電チャック。
【請求項６】
請求項１ないし請求項３のいずれかに記載の静電チャックと、
前記静電チャック内部に埋設されてなるヒータ電極と、
前記静電チャックに接合されてなり、内部に設けられた流路に冷媒が循環供給されることにより、前記被加工物の冷却が可能な冷却板と、
を備えることを特徴とするサセプタ。
【請求項７】
請求項１ないし請求項３のいずれかに記載の静電チャックと、
前記静電チャック内部に埋設されてなるヒータ電極と、
前記静電チャックに取り付けられてなる中空のシャフトと、
を備えることを特徴とするサセプタ。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、ウエハなどの被加工物を静電吸着固定する静電チャックに関し、特にその載置面の形状に関する。
続きを表示（約 1,400 文字）【背景技術】
【０００２】
半導体製造プロセスにおいて用いられる、プラズマエッチング装置などのエッチング装置や、ＰＶＤ装置、ＣＶＤ装置、イオンプレーティング装置などの成膜装置において、被加工物の固定に静電吸着力を利用した静電チャックが広く用いられている。こうした静電チャックとして、例えば半導体ウエハなどの板状の被加工物が載置される載置面を、複数の凸部（突起）を備える凹凸面とし、凸部にて被加工物を支持するとともに、凹部に冷却ガスを流すことができるように構成されたものが、すでに公知である（例えば、特許文献１および特許文献２参照）。
【０００３】
特許文献１には、載置面の凸部が柱状、円錐台状、半球状である静電チャックが、開示されてなる。
【０００４】
また、特許文献２には、載置面の突起部が、先端に位置し緩やかな曲面で盛り上がっている頂面を含む先端部と、底面側から先端部に向かうほど断面直径が小さい柱部と、柱部と底面とを緩やかな曲線で接続する裾野部とを有する態様が、開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
特開２０１０－１２３８４３号公報
特開２０１７－１９１９４９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
特許文献１および特許文献２に開示されているような静電チャックにおいては、被加工物と載置面の凸部とが擦れることによってパーティクルが発生することがある。係るパーティクルの発生は、不良発生の要因となるので、可能な限り低減することが望ましい。被加工物と突起との接触面積が小さいほど、パーティクルは発生しにくいが、係る接触面積を小さくしすぎると、吸着力が不足する。吸着力が不足していると、例えば、凹部を流れる冷却用のガスによりウエハが持ち上げられてしまうことがある。
【０００７】
本発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、接触面積を増大させることなく被加工物との吸着力が増大された静電チャックを実現することを、目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するため、本発明の第１の態様は、内部に埋設されたＥＳＣ電極に電圧を印加することによって載置面に載置された被加工物を静電吸着固定する静電チャックであって、前記載置面が、所定のピッチにて二次元的に離隔配置された複数の凸部と前記凸部の間の平坦な凹部とからなる凹凸構造を有してなり、前記凸部が、前記静電チャックの厚み方向に対して垂直でかつ高さが均一な平坦面を有する平坦部と、前記平坦部の周囲に位置し、前記平坦部から前記凹部に向かうにつれて高さが小さくなる傾斜部と、を備え、前記静電チャックの厚み方向に対する前記傾斜部の上面の傾斜角が６５度以上８４度以下である、ことを特徴とする。
【０００９】
本発明の第２の態様は、第１の態様に係る静電チャックであって、前記凸部は断面視テーパ状をなしている、ことを特徴とする。
【００１０】
本発明の第３の態様は、第２の態様に係る静電チャックであって、前記凸部は前記平坦部および前記凹部の少なくとも一方と曲面にて連続している、ことを特徴とする。
（【００１１】以降は省略されています）

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