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公開番号2025094284
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-06-25
出願番号2022050140
出願日2022-03-25
発明の名称ウエハの製造方法
出願人株式会社村田製作所
代理人個人,個人
主分類H01L 21/02 20060101AFI20250618BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】下部基板上の酸化膜の欠損が抑制されたウエハの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係るウエハの製造方法は、準備工程と、被覆部形成工程と、エッチング工程とを含む。準備工程においては、下部基板と、下部基板の厚み方向において下部基板と隣り合う上部基板と、酸化膜とを備えた基板接合体が準備される。酸化膜は、下部基板と上部基板との間にある内膜部と、下部基板の外表面を覆う下膜部と、上部基板の外表面を覆い下膜部に接続する上膜部とを有する。被覆部形成工程においては、下膜部の少なくとも一部と、上膜部の一部と、下膜部と上膜部との環状の接続部とを覆う環状の被覆部が形成される。エッチング工程においては、上膜部が酸化膜を溶解するエッチング液によってエッチングされる。
【選択図】図5
特許請求の範囲【請求項１】
下部基板と、前記下部基板の厚み方向において前記下部基板と隣り合う上部基板と、前記下部基板と前記上部基板との間にある内膜部、前記下部基板の外表面を覆う下膜部、及び前記上部基板の外表面を覆い前記下膜部に接続する上膜部を有する酸化膜とを備えた基板接合体が準備される準備工程と、
前記下膜部の少なくとも一部と、前記上膜部の一部と、前記下膜部と前記上膜部との環状の接続部とを覆う環状の被覆部が形成される被覆部形成工程と、
前記上膜部が、前記酸化膜を溶解するエッチング液によってエッチングされるエッチング工程と、
を含む、
ウエハの製造方法。
続きを表示（約 830 文字）【請求項２】
前記被覆部は、前記下膜部の表面の全面を覆う、請求項１に記載のウエハの製造方法。
【請求項３】
前記上部基板は、前記厚み方向に沿って見て前記接続部よりも外側に突出した突出部を有し、
前記上膜部の表面は、下向きの成分を有する下向き領域を有し、
前記下膜部の表面は、前記厚み方向に沿って見て前記上膜部と重複し且つ前記上膜部の下向き領域に接続する重複領域を有し、
前記被覆部形成工程は、
感光によって現像液に対して可溶化する感光性樹脂が、前記下膜部の重複領域と前記上膜部の下向き領域とに跨って塗布される塗布工程と、
前記感光性樹脂を感光する光が、前記基板接合体に対して前記厚み方向に沿って下向きに照射される露光工程と、
前記感光性樹脂のうち感光した部分が現像液によって溶解され、前記被覆部が形成される現像工程と、
を含む、
請求項１又は２に記載のウエハの製造方法。
【請求項４】
前記塗布工程において、前記感光性樹脂は、前記上膜部に注がれて前記上膜部の表面の全面と前記下膜部の重複領域とにスピンコートされ、
前記エッチング工程において、前記上膜部は、上方からスピンエッチングされる、
請求項３のウエハの製造方法。
【請求項５】
前記塗布工程において、前記基板接合体は、前記感光性樹脂に浸漬される、請求項３に記載のウエハの製造方法。
【請求項６】
前記上部基板は、前記厚み方向に沿って見て前記接続部よりも外側に突出した突出部を有し、
前記上膜部の表面は、下向きの成分を有する下向き領域を有し、
前記被覆部形成工程において、前記被覆部を構成する樹脂が、前記下膜部に注がれて前記下膜部の表面の全面と前記上膜部の下向き領域とにスピンコートされる、
請求項２に記載のウエハの製造方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、重ねられた２つの基板を備えるウエハの製造方法に関する。
続きを表示（約 1,900 文字）【背景技術】
【０００２】
従来、この種のウエハの製造方法として、例えば特許文献１に記載のものが知られている。特許文献１に記載の製造方法では、ベースウエハ（以下、下部基板という。）とボンドウエハ（以下、上部基板という。）とが準備される。上部基板の表面には、酸化膜が形成されている。次に、下部基板と上部基板とが熱処理によって接合され、貼り合わせウエハが形成される。熱処理が酸素を含む雰囲気下で行われると、下部基板の表面にも酸化膜が形成される。以下、下部基板の表面にも酸化膜が形成された貼り合わせウエハを基板接合体という。
【０００３】
次に、上部基板の外周部が、ウエハの厚み方向に下部基板に到達しない深さまで研削される。このことにより、酸化膜のうち、上部基板の研削された部分に形成されていた部分が除去される。上部基板の外周部のうち研削されなかった未研削部分は、基板を腐食させるエッチング液によってエッチングされる。このとき、未研削部分上の酸化膜は、エッチングされずにウエハに残存する。未研削部分上の残存した酸化膜は、酸化膜を腐食させるエッチング液によってエッチングされる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開２００６－２７００３９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１に記載のウエハの製造方法では、未研削部分上の酸化膜がエッチングされるときに、エッチング液が下部基板上の酸化膜のうち上部基板の近傍部分に到達し、下部基板上の酸化膜がエッチングされてしまうおそれがある。下部基板上の酸化膜のエッチングによる欠損を抑制するという観点において、ウエハの製造方法には、未だ改善の余地がある。
【０００６】
したがって、本発明の目的は、前記の課題を解決することにあって、下部基板上の酸化膜の欠損が抑制されたウエハの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
前記の目的を達成するために、本発明の一態様に係るウエハの製造方法は、
下部基板と、前記下部基板の厚み方向において前記下部基板と隣り合う上部基板と、前記下部基板と前記上部基板との間にある内膜部、前記下部基板の外表面を覆う下膜部、及び前記上部基板の外表面を覆い前記下膜部に接続する上膜部を有する酸化膜とを備えた基板接合体が準備される準備工程と、
前記下膜部の少なくとも一部と、前記上膜部の一部と、前記下膜部と前記上膜部との環状の接続部とを覆う環状の被覆部が形成される被覆部形成工程と、
前記上膜部が、前記酸化膜を溶解するエッチング液によってエッチングされるエッチング工程と、
を含む。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、下部基板上の酸化膜の欠損が抑制されたウエハを製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
本発明の実施形態に係るウエハの製造方法の第１の例を示す平面図。
本発明の実施形態に係るウエハの製造方法によって製造されるウエハの図１におけるIII－III線に対応する断面図。
図１におけるIII－III線に沿った断面図。
図３に続く工程を示す断面図。
図４に続く工程を示す断面図。
図５に示す工程を示す拡大断面図。
本発明の実施形態に係るウエハの製造方法の第２の例を示す図であって、図１におけるIII－III線に対応する断面図。
図７に続く工程を示す断面図。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
本発明の一態様に係るウエハの製造方法は、
下部基板と、前記下部基板の厚み方向において前記下部基板と隣り合う上部基板と、前記下部基板と前記上部基板との間にある内膜部、前記下部基板の外表面を覆う下膜部、及び前記上部基板の外表面を覆い前記下膜部に接続する上膜部を有する酸化膜とを備えた基板接合体が準備される準備工程と、
前記下膜部の少なくとも一部と、前記上膜部の一部と、前記下膜部と前記上膜部との環状の接続部とを覆う環状の被覆部が形成される被覆部形成工程と、
前記上膜部が、前記酸化膜を溶解するエッチング液によってエッチングされるエッチング工程と、
を含む。
（【００１１】以降は省略されています）

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