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公開番号2025074535
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-05-14
出願番号2023185388
出願日2023-10-30
発明の名称紫外線処理装置及び紫外線処理方法
出願人ウシオ電機株式会社
代理人弁理士法人南青山国際特許事務所
主分類B01J 19/12 20060101AFI20250507BHJP(物理的または化学的方法または装置一般)
要約【課題】紫外線照射によりヒドロキシ基を効率的に形成することが可能な紫外線処理装置及び紫外線処理方法を提供すること。
【解決手段】本発明の一形態に係る紫外線処理装置は、紫外線光源と、処理室と、ガス供給部と、温度差発生機構と、ステージとを具備する。前記処理室は、前記紫外線光源から紫外線が入射する。前記ガス供給部は、前記処理室に混合用ガスと水蒸気とを含む水蒸気混合ガスを供給する。前記温度差発生機構は、前記処理室内の前記水蒸気混合ガスに温度差を発生させる。前記ステージは、前記処理室において、前記紫外線が照射され、前記温度差による前記水蒸気混合ガスの対流により前記水蒸気の濃度が相対的に高くなる領域でワークを保持する。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
紫外線光源と、
前記紫外線光源から紫外線が入射する処理室と、
前記処理室に混合用ガスと水蒸気とを含む水蒸気混合ガスを供給するガス供給部と、
前記処理室内の前記水蒸気混合ガスに温度差を発生させる温度差発生機構と、
前記処理室において、前記紫外線が照射され、前記温度差による前記水蒸気混合ガスの対流により前記水蒸気の濃度が相対的に高くなる領域でワークを保持するステージと
を具備する紫外線処理装置。
続きを表示（約 1,000 文字）【請求項２】
請求項１に記載の紫外線処理装置であって、
前記混合用ガスは、不活性ガスである
紫外線処理装置。
【請求項３】
請求項１に記載の紫外線処理装置であって、
前記処理室は、前記水蒸気混合ガスが供給される処理空間を含み、
前記温度差発生機構は、前記処理空間に接する部材を局所的に加熱又は冷却する
紫外線処理装置。
【請求項４】
請求項３に記載の紫外線処理装置であって、さらに、
前記紫外線光源からの前記紫外線を前記処理空間に入射する入射窓を具備し、
前記ステージは、前記処理空間を挟んで前記入射窓に対向して配置され前記ワークを保持する保持面を有する
紫外線処理装置。
【請求項５】
請求項４に記載の紫外線処理装置であって、
前記処理空間は、水平方向に延在する上面及び下面で挟まれた空間であり、
前記混合用ガスは、水よりも分子量が大きいガスであり、
前記保持面は、前記処理空間の前記上面を構成し、
前記入射窓は、前記処理空間の前記下面を構成する
紫外線処理装置。
【請求項６】
請求項５に記載の紫外線処理装置であって、
前記混合用ガスは、窒素ガス、ネオンガス、アルゴンガス、クリプトンガス、及びキセノンガスのうちいずれか１つである
紫外線処理装置。
【請求項７】
請求項４に記載の紫外線処理装置であって、
前記処理空間は、水平方向に延在する上面及び下面で挟まれた空間であり、
前記混合用ガスは、水よりも分子量が小さいガスであり、
前記保持面は、前記処理空間の前記下面を構成し、
前記入射窓は、前記処理空間の前記上面を構成する
紫外線処理装置。
【請求項８】
請求項７に記載の紫外線処理装置であって、
前記混合用ガスは、水素ガス又はヘリウムガスのいずれかである
紫外線処理装置。
【請求項９】
請求項４に記載の紫外線処理装置であって、
前記入射窓と前記ワークとの間隔は、０．１ｍｍ以上３ｍｍ以下である
紫外線処理装置。
【請求項１０】
請求項４に記載の紫外線処理装置であって、
前記処理室及び前記ステージは、前記処理空間において前記保持面を含む面が実質的に平面となるように構成される
紫外線処理装置。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、紫外線を照射してワークを処理する紫外線処理装置及び紫外線処理方法に関する。
続きを表示（約 1,400 文字）【背景技術】
【０００２】
従来、紫外線を照射して基板等のワークを処理する方法が開発されている。ワークに紫外線を照射する際には、ワークの周辺に各種のガスが供給される。例えば特許文献１には、ワークが配置された処理室に、処理用ガスとして複数種類のガスを導入することが可能な構成について記載されている。また特許文献２及び特許文献３には、水蒸気を含むガスを処理室に導入する処理装置が記載されている。水蒸気を導入すると、紫外線が水分子と反応し、ワークの表面等にヒドロキシ基が形成される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２００３－１４４９１３号公報
国際公開第２００２／０３６２５９号
特開２００８－４３９２５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ヒドロキシ基を形成することで、ワーク表面に設けられた絶縁層等を改質することが可能である。例えば絶縁層に形成されたヒドロキシ基は、絶縁層に対する金属の密着性を高めるといった効果を発揮する。このため、紫外線照射によりヒドロキシ基を効率的に形成する技術が求められている。
【０００５】
以上のような事情に鑑み、本発明の目的は、紫外線照射によりヒドロキシ基を効率的に形成することが可能な紫外線処理装置及び紫外線処理方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的を達成するため、本発明の一形態に係る紫外線処理装置は、紫外線光源と、処理室と、ガス供給部と、温度差発生機構と、ステージとを具備する。
前記処理室は、前記紫外線光源から紫外線が入射する。
前記ガス供給部は、前記処理室に混合用ガスと水蒸気とを含む水蒸気混合ガスを供給する。
前記温度差発生機構は、前記処理室内の前記水蒸気混合ガスに温度差を発生させる。
前記ステージは、前記処理室において、前記紫外線が照射され、前記温度差による前記水蒸気混合ガスの対流により前記水蒸気の濃度が相対的に高くなる領域でワークを保持する。
【０００７】
この紫外線処理装置では、処理室に供給される水蒸気混合ガスに温度差を発生させることで、水蒸気混合ガスが対流する。この対流により水蒸気の濃度が相対的に高くなる領域にワークが保持される。これにより、ワークの近傍に十分な量の水蒸気が供給されるため、紫外線照射によりヒドロキシ基を効率的に形成することが可能となる。これにより、例えば配線基板における金属の密着性の向上等を図ることが可能となる。
【０００８】
前記混合用ガスは、不活性ガスであってもよい。
【０００９】
前記処理室は、前記水蒸気混合ガスが供給される処理空間を含んでもよい。この場合、前記温度差発生機構は、前記処理空間に接する部材を局所的に加熱又は冷却してもよい。
【００１０】
前記紫外線処理装置は、さらに、前記紫外線光源からの前記紫外線を前記処理空間に入射する入射窓を具備してもよい。この場合、前記ステージは、前記処理空間を挟んで前記入射窓に対向して配置され前記ワークを保持する保持面を有してもよい。
（【００１１】以降は省略されています）

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