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公開番号2025098718
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-07-02
出願番号2023215046
出願日2023-12-20
発明の名称成形装置、成形方法、および物品製造方法
出願人キヤノン株式会社
代理人弁理士法人大塚国際特許事務所
主分類H01L 21/027 20060101AFI20250625BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】型と基板との間に組成物の液膜を精度よく形成するために有利な技術を提供する。
【解決手段】型を用いて基板上の組成物を成形する成形装置は、前記型を保持する保持部材を有し、前記型を保持している前記保持部材を駆動して前記基板上の前記組成物に前記型を接触させた後に前記保持部材による前記型の保持を解除する処理を経ることで、前記型と前記基板との間に前記組成物の液膜を形成する膜形成部と、前記膜形成部によって形成された前記液膜を硬化させる硬化部と、を備え、前記膜形成部は、前記処理の後において、前記液膜の厚さの不均一性が低減するように、前記型に部分的に接触する部材により前記型を押圧する押圧動作を行う。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
型を用いて基板上の組成物を成形する成形装置であって、
前記型を保持する保持部材を有し、前記型を保持している前記保持部材を駆動して前記基板上の前記組成物に前記型を接触させた後に前記保持部材による前記型の保持を解除する処理を経ることで、前記型と前記基板との間に前記組成物の液膜を形成する膜形成部と、
前記膜形成部によって形成された前記液膜を硬化させる硬化部と、
を備え、
前記膜形成部は、前記処理の後において、前記液膜の厚さの不均一性が低減するように、前記型に部分的に接触する部材により前記型を押圧する押圧動作を行う、ことを特徴とする成形装置。
続きを表示（約 1,200 文字）【請求項２】
前記膜形成部は、前記型に部分的に接触する前記部材として前記保持部材を用いて前記押圧動作を行う、ことを特徴とする請求項１に記載の成形装置。
【請求項３】
前記保持部材は、前記型における外周部を保持するように構成され、
前記膜形成部は、前記保持部材で前記型の前記外周部を押圧するように前記押圧動作を行う、ことを特徴とする請求項２に記載の成形装置。
【請求項４】
前記押圧動作を行うために前記型に部分的に接触する前記部材は、前記保持部材と異なる、ことを特徴とする請求項１に記載の成形装置。
【請求項５】
前記液膜のうち厚さの不均一性が生じている異常部分を検出する第１検出部を更に備え、
前記膜形成部は、前記第１検出部で検出された前記異常部分に対応する前記型の一部を押圧するように前記押圧動作を行う、ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の成形装置。
【請求項６】
前記押圧動作における前記型の押圧力を検出する第２検出部を更に備え、
前記膜形成部は、前記第２検出部の検出結果に基づいて、前記液膜の目標厚さに対応する押圧力になるように前記押圧動作を行う、ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の成形装置。
【請求項７】
前記型は、前記基板上の前記組成物に接触する第１面と、前記第１面と反対側の第２面とを有し、
前記膜形成部は、前記押圧動作において、前記型の前記第２面に接触する部材により前記型の第２面を押圧する、ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の成形装置。
【請求項８】
前記硬化部は、前記保持部材と前記型とが離隔している状態で前記液膜を硬化させる、ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の成形装置。
【請求項９】
前記型は、平坦面を有し、
前記成形装置は、前記平坦面を前記基板上の前記組成物に接触させることにより前記基板上の前記組成物を平坦化する、ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の成形装置。
【請求項１０】
型を用いて基板上の組成物を成形する成形方法であって、
前記型を保持している保持部材を駆動して前記基板上の前記組成物に前記型を接触させた後に前記保持部材による前記型の保持を解除する処理を経ることで、前記型と前記基板との間に前記組成物の液膜を形成する膜形成工程と、
前記膜形成工程で形成された前記液膜を硬化させる硬化工程と、
を含み、
前記膜形成工程は、前記処理の後において、前記液膜の厚さの不均一性が低減するように、前記型に部分的に接触する部材により前記型を押圧する押圧動作を含む、ことを特徴とする成形方法。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、成形装置、成形方法、および物品製造方法に関する。
続きを表示（約 1,700 文字）【背景技術】
【０００２】
半導体デバイス等の製造工程には、凹凸パターンを有する組成物の硬化膜を基板上に形成し、当該硬化膜をマスクとして基板をエッチングする工程が含まれる。このとき、基板上に形成された硬化膜における凹凸パターンの残膜厚（凹凸パターンの凹部と基板との間における硬化膜の厚さ）が基板全域にわたって均一でないと、エッチングを精度よく制御することが困難になりうる。そのため、基板上に平坦化膜（即ち、平坦な表面を有する膜）を形成するための平坦化技術が必要とされている。
【０００３】
平坦化技術の１つとして、平坦面を有する型を用いて基板上の組成物を成形することによって基板上の組成物を平坦化する技術が知られている。具体的には、型の平坦面を基板上の組成物に接触させた状態で当該組成物を硬化させ、硬化した組成物から型を分離させることにより、基板上の組成物を平坦化することができる。このような平坦化技術に用いられる型は、スーパーストレート或いは平面テンプレートと呼ばれることがある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開２０２２－４１５８３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
平坦化技術において、型と基板との間で拡がる組成物の表面張力により型の表面形状を基板表面の凹凸に倣わせて、均一な厚さを有する組成物の液膜を型と基板との間に形成するためには、型の厚みをなるべく薄くするとよい（例えば２００μｍ程度）。しかしながら、実際には、型の交換や搬送を行う際における型の取り扱いの容易さの観点から、型は、ある程度の厚み（例えば５００μｍ～８００μｍ程度）を有している。この場合、型の厚みの増加に応じて型の剛性が高まるため、組成物の表面張力を利用するだけでは、型の表面形状を基板表面の凹凸に倣わせて、均一な厚さを有する組成物の液膜を型と基板との間に形成することが困難になりうる。したがって、型と基板との間に組成物の液膜を精度よく形成するためには、型に外力を加えることが必要となる。特許文献１には、基板上の組成物に接触している型にガスを吹き付けることによって型に外力を加える方法が提案されているが、より効率的に型に外力を加える方法が望まれる。
【０００６】
そこで、本発明は、型と基板との間に組成物の液膜を精度よく形成するために有利な技術を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するために、本発明の一側面としての成形装置は、型を用いて基板上の組成物を成形する成形装置であって、前記型を保持する保持部材を有し、前記型を保持している前記保持部材を駆動して前記基板上の前記組成物に前記型を接触させた後に前記保持部材による前記型の保持を解除する処理を経ることで、前記型と前記基板との間に前記組成物の液膜を形成する膜形成部と、前記膜形成部によって形成された前記液膜を硬化させる硬化部と、を備え、前記膜形成部は、前記処理の後において、前記液膜の厚さの不均一性が低減するように、前記型に部分的に接触する部材により前記型を押圧する押圧動作を行う、ことを特徴とする。
【０００８】
本発明の更なる目的又はその他の側面は、以下、添付図面を参照して説明される好ましい実施形態によって明らかにされるであろう。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、例えば、型と基板との間に組成物の液膜を精度よく形成するために有利な技術を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
平坦化装置（成形装置）の構成例を示す概略図
第１実施形態の平坦化処理を説明するための図
スーパーストレートと基板との間における組成物の液膜の状態を説明するための図
押圧動作を含む平坦化処理を示すフローチャート
押圧部材の構成例を示す図
第２実施形態の平坦化処理を説明するための図
【発明を実施するための形態】
（【００１１】以降は省略されています）

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