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公開番号2025107607
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-07-18
出願番号2025078300,2024557691
出願日2025-05-08,2024-03-25
発明の名称ペリクル膜およびペリクル
出願人リンテック株式会社
代理人弁理士法人樹之下知的財産事務所
主分類G03F 1/62 20120101AFI20250711BHJP(写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ)
要約【課題】縮小された空隙構造を備える場合であっても、EUV透過性を担保できるペリクル膜を提供すること。
【解決手段】多孔質構造を有するペリクル膜10であって、前記ペリクル膜10は、カーボンナノチューブを含み、前記カーボンナノチューブの長さが、1μm以上、250μm以下であり、前記ペリクル膜の単位面積当たりの重量は、0.71μg/cm2以上、1μg/cm2以下であり、前記多孔質構造の表面において測定される、空隙の平均空隙径が、30nm以上、60nm以下であり、かつ、空隙間の平均最隣接重心間距離が、50nm以上、70nm以下であり、波長550nmにおける光線透過率が50%以上、84.1%以下である、ペリクル膜10。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項1】
多孔質構造を有するペリクル膜であって、
前記ペリクル膜は、カーボンナノチューブを含み、
前記カーボンナノチューブの長さが、1μm以上、250μm以下であり、
前記ペリクル膜の単位面積当たりの重量は、0.71μg/cm

以上、1μg/cm

以下であり、
前記多孔質構造の表面において測定される、空隙の平均空隙径が、30nm以上、60nm以下であり、かつ、空隙間の平均最隣接重心間距離が、50nm以上、70nm以下であり、
波長550nmにおける光線透過率が50%以上、84.1%以下である、
ペリクル膜。
続きを表示(約 340 文字)【請求項2】
請求項1に記載のペリクル膜において、
前記カーボンナノチューブの断面直径が、0.2nm以上、50nm以下である、
ペリクル膜。
【請求項3】
請求項1又は請求項2に記載のペリクル膜において、
前記ペリクル膜は、前記カーボンナノチューブが堆積してなる多孔質構造体である、
ペリクル膜。
【請求項4】
請求項1又は請求項2に記載のペリクル膜において、
自立性を有する、
ペリクル膜。
【請求項5】
請求項1又は請求項2に記載のペリクル膜と、
枠部及び前記枠部に囲まれた開口部を有し、前記ペリクル膜を支持する支持体と、
を備える、
ペリクル。

発明の詳細な説明【技術分野】
【0001】
本発明は、ペリクル膜およびペリクルに関する。
続きを表示(約 1,400 文字)【背景技術】
【0002】
半導体デバイス等の製造工程では、例えば、半導体ウエハ等の基板にフォトレジストを塗布し、フォトレジストを塗布した基板上に、フォトマスクを用いて光を照射し、フォトレジストを除去することにより、基板上に目的とする回路パターンが形成される。
【0003】
フォトマスク上に異物が付着した状態で光が照射されると、付着した異物によって、基板上に形成された回路パターンに支障を来す場合がある。このため、フォトマスク上への異物の付着を抑制するために、異物を捕捉させるためのペリクル膜を備えたペリクルが使用される場合がある。ペリクルは、フォトマスクの上方に、ペリクル膜がフォトマスクに接しない距離で配置される。
【0004】
近年、より微細な回路パターンを形成するために、極端紫外線(EUV:Extreme Ultra Violet)の使用が検討されている。EUVは、波長1nm以上、100nm以下の光を指す。EUVとしては、例えば、具体的には、13.5nm±0.3nm程度の光線が使用されつつある。EUVがペリクル膜に照射された場合、EUVはペリクル膜を透過するものの、照射されたEUVの一部はペリクル膜に吸収される。吸収されたEUVの光エネルギーは熱エネルギーに変換されることにより、ペリクル膜の温度が上昇する。このため、ペリクル膜には、EUVの透過性、耐熱性および耐久性等が求められる。
【0005】
EUVを使用して回路パターンを形成する工程に使用されるペリクルにおいて、ペリクルが備えるペリクル膜に用いられる材料の一つとして、カーボンナノチューブが検討されている。
【0006】
例えば、特許文献1には、少なくとも表層側に、炭素の少なくとも一部がケイ素に置き換えられた炭化ケイ素層を含有するカーボンナノチューブを含むペリクル膜が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0007】
国際公開第2021-172104号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0008】
特許文献1に開示されるカーボンナノチューブを含むペリクル膜は、強度およびEUV透過性に優れるとされている。しかしながら、特許文献1に開示されるペリクル膜は、ペリクル膜の表面における空隙特性については言及されていない。空隙特性は、異物捕集性およびEUV透過性に影響を及ぼしやすい。例えば、EUV透過性の向上のために、空隙径および空隙間の平均最隣接重心間距離などの空隙構造を拡大させすぎると、異物捕集性は低下する。このため、ペリクル膜には、空隙構造を縮小させつつ、高いEUV透過性を担保することが要求されていた。
【0009】
本発明は、カーボンナノチューブを含むペリクル膜において、縮小された空隙構造を備える場合であっても、EUV透過性を担保できるペリクル膜、及び当該ペリクル膜を用いたペリクルを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【0010】
[1]
多孔質構造を有するペリクル膜であって、
前記ペリクル膜は、カーボンナノチューブを含み、
前記多孔質構造の表面において測定される、空隙の平均空隙径が、60nm以下であり、かつ、空隙間の平均最隣接重心間距離が、70nm以下である、
ペリクル膜。
(【0011】以降は省略されています)

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