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公開番号2025069806
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-05-01
出願番号2023179756
出願日2023-10-18
発明の名称ウエハ保持台、およびウエハ保持台の使用方法
出願人住友電気工業株式会社
代理人個人,個人
主分類H01L 21/683 20060101AFI20250423BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】真空吸着されたウエハを迅速に冷却できるウエハ保持台を提供する。
【解決手段】ウエハが載せられる上面を有する円板状の基体と、前記ウエハを前記上面に吸着するための真空経路と、前記ウエハを冷却するガス冷媒を流すためのガス流路と、を備え、前記ガス流路は、前記上面に開口する流路溝と、前記基体の内部に配置され、前記流路溝の第一の端部につながるガス導入路と、前記基体の内部に配置され、前記流路溝の第二の端部につながるガス排出路と、を備える、ウエハ保持台。
【選択図】図2
特許請求の範囲【請求項１】
ウエハが載せられる上面を有する円板状の基体と、
前記ウエハを前記上面に吸着するための真空経路と、
前記ウエハを冷却するガス冷媒を流すためのガス流路と、を備え、
前記ガス流路は、
前記上面に開口する流路溝と、
前記基体の内部に配置され、前記流路溝の第一の端部につながるガス導入路と、
前記基体の内部に配置され、前記流路溝の第二の端部につながるガス排出路と、を備える、
ウエハ保持台。
続きを表示（約 820 文字）【請求項２】
前記基体の内部に配置され、前記基体を冷却する冷媒を循環させるための冷媒流路を備える、請求項１に記載のウエハ保持台。
【請求項３】
前記基体の内部、または前記基体の下面に配置されたヒータを備える、請求項１または請求項２に記載のウエハ保持台。
【請求項４】
前記ガス流路は、前記ウエハを全面にわたって冷却する第一ガス流路であり、
前記第一ガス流路における前記流路溝は、前記上面の全面にわたって形成されている、請求項１または請求項２に記載のウエハ保持台。
【請求項５】
前記流路溝は、前記上面において同心状に配置された複数のＣ字溝によって構成されている、請求項４に記載のウエハ保持台。
【請求項６】
前記ガス流路は、前記ウエハを部分的に冷却する第二ガス流路であり、
前記第二ガス流路における前記流路溝は、前記上面の一部に形成されている、請求項１または請求項２に記載のウエハ保持台。
【請求項７】
前記基体は、上面視において複数の加熱ゾーンを備え、
前記流路溝は、前記複数の加熱ゾーンのそれぞれに配置されている、請求項６に記載のウエハ保持台。
【請求項８】
前記ガス導入路と前記ガス排出路は、前記基体の側面に開口している、請求項１または請求項２に記載のウエハ保持台。
【請求項９】
前記ガス導入路と前記ガス排出路は、前記基体の下面に開口している、請求項１または請求項２に記載のウエハ保持台。
【請求項１０】
請求項１または請求項２に記載のウエハ保持台を用いて、
前記ガス排出路から気体を吸引して前記ガス流路の内部を負圧にすることで、前記ガス導入路から前記ガス冷媒を前記流路溝に導入する、
ウエハ保持台の使用方法。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示は、ウエハ保持台、およびウエハ保持台の使用方法に関する。
続きを表示（約 1,100 文字）【背景技術】
【０００２】
特許文献１は、プローバ用のウエハ保持台を開示する。プローバは、複数の回路が形成された半導体のウエハを個々のチップに切断する前に、各チップの電気性能を測定する検査装置である。特許文献１に開示されるウエハ保持台は、金属製の円板である基体を備える。この基体は、ウエハが載せられる上面と、ウエハを上面に吸着する真空経路を備える。
【０００３】
プローバでは、ウエハを加熱したり冷却したりした上で、複数の電極ピンを備えるプローブカードをウエハで構成された半導体に押し付けて、半導体に通電する。通電によって半導体が発熱する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開２００７－１４９７２７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
近年の半導体の需要の増加に伴い、半導体の生産性を向上することが望まれている。例えば、検査工程において発熱した半導体の温度を迅速に冷却できれば、検査工程に要する時間を短縮することができ、半導体の生産性を向上させることができる。
【０００６】
本開示の目的の一つは、真空吸着されたウエハを迅速に冷却できるウエハ保持台、およびウエハ保持台の使用方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本開示のウエハ保持台は、ウエハが載せられる上面を有する円板状の基体と、前記ウエハを前記上面に吸着するための真空経路と、前記ウエハを冷却するガス冷媒を流すためのガス流路と、を備える。前記ガス流路は、前記上面に開口する流路溝と、前記基体の内部に配置され、前記流路溝の第一の端部につながるガス導入路と、前記基体の内部に配置され、前記流路溝の第二の端部につながるガス排出路と、を備える。
【発明の効果】
【０００８】
本開示のウエハ保持台は、真空吸着されたウエハを迅速に冷却できる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
図１は、実施形態１に記載されるウエハ保持台の模式断面図である。
図２は、実施形態１に記載されるウエハ保持台の基体の概略上面図である。
図３は、図２のＩＩＩ－ＩＩＩ断面図である。
図４は、実施形態２に記載されるウエハ保持台の基体の概略上面図である。
図５は、変形例に記載されるウエハ保持台の模式断面図である。
図６は、試験例の試験結果を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
［本開示の実施形態の説明］
最初に本開示の実施態様を列記して説明する。
（【００１１】以降は省略されています）

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