TOP特許意匠商標
特許ウォッチ Twitter
公開番号2025073423
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-05-13
出願番号2023184201
出願日2023-10-26
発明の名称膜形成用組成物、硬化膜、硬化膜の製造方法、積層体の製造方法及びCO2分離方法
出願人東京応化工業株式会社
代理人個人,個人
主分類C09D 183/04 20060101AFI20250502BHJP(染料;ペイント;つや出し剤;天然樹脂;接着剤;他に分類されない組成物;他に分類されない材料の応用)
要約【課題】膜厚が均一な膜を形成できる膜形成用組成物、当該膜形成用組成物の硬化膜、当該硬化膜の製造方法、前述の硬化膜の製造方法を用いた積層体の製造方法及び当該製造方法により製造された積層体を用いたCO2分離方法を提供すること。
【解決手段】ポリジメチルシロキサンと、硬化剤と、ヒドロキサム酸及びその塩から選択される少なくとも一種のヒドロキサム酸類とを含み、前記ヒドロキサム酸類の含有量は、前記ポリジメチルシロキサンの質量に対して0質量%超5質量%未満である、膜形成用組成物とする。
【選択図】なし
特許請求の範囲【請求項1】
ポリジメチルシロキサンと、硬化剤と、ヒドロキサム酸及びその塩から選択される少なくとも一種のヒドロキサム酸類とを含み、
前記ヒドロキサム酸類の含有量は、前記ポリジメチルシロキサンの質量に対して0質量%超5質量%未満である、膜形成用組成物。
続きを表示(約 760 文字)【請求項2】
前記ポリジメチルシロキサンの質量平均分子量が、90000以上である、請求項1に記載の膜形成用組成物。
【請求項3】
CO

分離膜形成用組成物である、請求項1に記載の膜形成用組成物。
【請求項4】
請求項1~3のいずれか1項に記載の膜形成用組成物の硬化物からなる硬化膜であって、
前記ヒドロキサム酸類の含有量は、前記硬化膜の質量に対して、0質量%超5質量%未満である、硬化膜。
【請求項5】
表面粗さRaは、硬化膜の膜厚の10%以下である、請求項4に記載の硬化膜。
【請求項6】
膜厚は、10nm以上2000nm以下である、請求項4に記載の硬化膜。
【請求項7】
CO

分離膜である、請求項4に記載の硬化膜。
【請求項8】
請求項1~3のいずれか1項に記載の膜形成用組成物の塗布膜を形成する、塗布膜形成工程と、
前記塗布膜を硬化させて硬化膜を形成する、硬化工程を有し、
前記硬化工程において、前記硬化膜中の前記ヒドロキサム酸類の含有量が、0質量%超5質量%未満に調整される、硬化膜の製造方法。
【請求項9】
前記硬化膜が、CO

分離膜である、請求項8に記載の硬化膜の製造方法。
【請求項10】
CO

分離膜と支持基材とが積層された積層体の製造方法であって、
請求項9に記載の硬化膜の製造方法により前記CO

分離膜を製造する、CO

分離膜製造工程を有する積層体の製造方法。
(【請求項11】以降は省略されています)

発明の詳細な説明【技術分野】
【0001】
本発明は、膜形成用組成物、硬化膜、硬化膜の製造方法、積層体の製造方法及びCO

分離方法に関する。
続きを表示(約 1,300 文字)【背景技術】
【0002】
気候変動等による地球温暖化を抑制するために、二酸化炭素(CO

)を、CO

分離膜を用いて分離して回収する技術が開発されている(例えば、特許文献1)。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
特開2018-15678号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
CO

分離膜の製造には、例えば、ポリジメチルシロキサン(PDMS)を含む膜形成用組成物が用いられている。
しかしながら、CO

分離膜が薄膜である場合、液状ポリマーであるポリジメチルシロキサンを含む膜形成用組成物を用いると、ポリジメチルシロキサンが凝集することにより形成される膜に凹凸が生じやすく、膜厚が均一なCO

分離膜を製造し難いという問題がある。
なお、CO

分離膜に限らず、ポリジメチルシロキサンを含む膜形成用組成物を用いて製造されるその他の膜においても、同様に、形成される膜表面の凹凸が生じやすく、膜厚が均一な膜を製造し難いという問題がある。
【0005】
本発明は、上記の課題に鑑みなされたものであって、ポリジメチルシロキサンを含み、膜厚が均一な膜を形成できる膜形成用組成物、当該膜形成用組成物の硬化膜、当該硬化膜の製造方法、前述の硬化膜の製造方法を用いた積層体の製造方法及び当該製造方法により製造された積層体を用いたCO

分離方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本発明者らは、ポリジメチルシロキサンと、硬化剤と、ヒドロキサム酸及びその塩から選択される少なくとも一種のヒドロキサム酸類とを含み、ヒドロキサム酸類の含有量が、ポリジメチルシロキサンの質量に対して0質量%超5質量%未満である、膜形成用組成物により、上記の課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。具体的には、本発明は以下のようなものを提供する。
【0007】
[1]ポリジメチルシロキサンと、硬化剤と、ヒドロキサム酸及びその塩から選択される少なくとも一種のヒドロキサム酸類とを含み、
前記ヒドロキサム酸類の含有量は、前記ポリジメチルシロキサンの質量に対して0質量%超5質量%未満である、膜形成用組成物。
【0008】
[2]前記ポリジメチルシロキサンの質量平均分子量が、90000以上である、上記[1]に記載の膜形成用組成物。
【0009】
[3]CO

分離膜形成用組成物である、上記[1]又は[2]に記載の膜形成用組成物。
【0010】
[4]上記[1]~[3]のいずれか1つに記載の膜形成用組成物の硬化物からなる硬化膜であって、
前記ヒドロキサム酸類の含有量は、前記硬化膜の質量に対して、0質量%超5質量%未満である、硬化膜。
(【0011】以降は省略されています)

この特許をJ-PlatPatで参照する

関連特許

東京応化工業株式会社
感光性樹脂組成物
2日前
東京応化工業株式会社
洗浄液及び洗浄方法
2日前
東京応化工業株式会社
洗浄液及び洗浄方法
2日前
東京応化工業株式会社
ポリ酸塩又はその混合物
2日前
東京応化工業株式会社
レジスト材料、及び、その製造方法
1か月前
東京応化工業株式会社
積層体の製造方法及びCO2分離方法
4日前
東京応化工業株式会社
剥離用組成物、及び接着剤を剥離する方法
1か月前
東京応化工業株式会社
剥離用組成物、及び接着剤を剥離する方法
1か月前
東京応化工業株式会社
レジスト組成物、レジストパターン形成方法
1か月前
東京応化工業株式会社
レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
24日前
東京応化工業株式会社
処理液、基板の処理方法、及び半導体基板の製造方法
5日前
東京応化工業株式会社
処理液、基板の処理方法、及び半導体基板の製造方法
1か月前
東京応化工業株式会社
処理液、基板の処理方法、及び半導体基板の製造方法
5日前
東京応化工業株式会社
レジスト組成物、レジストパターン形成方法及び化合物
25日前
東京応化工業株式会社
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、及び化合物
23日前
東京応化工業株式会社
積層フィルムの製造方法、積層フィルム及びCO2分離方法
4日前
東京応化工業株式会社
感光性組成物、積層体の製造方法、硬化パターン形成方法及び積層体
3日前
東京応化工業株式会社
感光性組成物、積層体の製造方法、硬化パターン形成方法及び積層体
3日前
東京応化工業株式会社
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び高分子化合物
1か月前
東京応化工業株式会社
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、及び高分子化合物
4日前
東京応化工業株式会社
膜形成用組成物、硬化膜、硬化膜の製造方法、積層体の製造方法及びCO2分離方法
4日前
東京応化工業株式会社
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、酸発生剤、及び酸拡散制御剤
1か月前
東京応化工業株式会社
レジスト組成物精製品の製造方法、レジストパターン形成方法、及びレジスト組成物精製品
1か月前
東京応化工業株式会社
ネガ型感光性組成物、感光性レジストフィルム、中空構造体の製造方法、及びパターン形成方法
3日前
東京応化工業株式会社
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び酸拡散制御剤
1か月前
個人
消火塗料
1か月前
個人
粘着テープ
25日前
ベック株式会社
被覆材
1か月前
ぺんてる株式会社
固形描画材
23日前
日榮新化株式会社
粘着テープ
1か月前
三商株式会社
屋外用塗料組成物
1か月前
アイカ工業株式会社
パテ組成物
23日前
株式会社エフコンサルタント
被覆材
17日前
アイカ工業株式会社
塗材仕上げ工法
2か月前
日榮新化株式会社
掲示パネルセット
1か月前
東ソー株式会社
ホットメルト接着剤
1か月前
続きを見る