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公開番号
2025086688
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2025-06-09
出願番号
2023200868
出願日
2023-11-28
発明の名称
基板処理装置
出願人
東京エレクトロン株式会社
代理人
個人
,
個人
主分類
H01L
21/683 20060101AFI20250602BHJP(基本的電気素子)
要約
【課題】冷却性を向上する基板処理装置を提供する。
【解決手段】処理容器と、前記処理容器内に設けられ、第1接触面を有し、回転可能に構成される載置台と、第2接触面を有し、昇降可能に構成される冷凍装置と、前記載置台を回転させる回転装置と、前記冷凍装置を昇降し、前記第2接触面と前記第1接触面とを熱的に接続または離隔可能な昇降装置と、を備え、前記冷凍装置は、冷凍機と、一端が前記冷凍機と熱的に接続され、他端に前記第2接触面を有するコールドリンクと、を有し、前記コールドリンクの体積は、前記載置台の体積よりも大きい、基板処理装置。
【選択図】図1
特許請求の範囲
【請求項1】
処理容器と、
前記処理容器内に設けられ、第1接触面を有し、回転可能に構成される載置台と、
第2接触面を有し、昇降可能に構成される冷凍装置と、
前記載置台を回転させる回転装置と、
前記冷凍装置を昇降し、前記第2接触面と前記第1接触面とを熱的に接続または離隔可能な昇降装置と、を備え、
前記冷凍装置は、
冷凍機と、
一端が前記冷凍機と熱的に接続され、他端に前記第2接触面を有するコールドリンクと、を有し、
前記コールドリンクの体積は、前記載置台の体積よりも大きい、
基板処理装置。
続きを表示(約 750 文字)
【請求項2】
前記コールドリンクは、前記第2接触面を有する頭部と、前記頭部と前記冷凍機とを熱的に接続する軸部と、を有し、
前記コールドリンクの前記頭部の体積は、前記コールドリンクの前記軸部の体積よりも大きい、
請求項1に記載の基板処理装置。
【請求項3】
前記コールドリンクは、前記第2接触面を有する頭部と、前記頭部と前記冷凍機とを熱的に接続する軸部と、を有し、
前記コールドリンクの前記頭部の体積は、前記載置台の体積よりも大きい、
請求項1に記載の基板処理装置。
【請求項4】
前記第1接触面と前記第2接触面とは、平面である、
請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の基板処理装置。
【請求項5】
前記第1接触面と前記第2接触面とが接触する接触領域において、その内側に前記第1接触面と前記第2接触面とが非接触となる部分を有せず、全面で接触する、
請求項4に記載の基板処理装置。
【請求項6】
前記載置台は、チャック電極と、前記チャック電極に電力を導入する電極導入部と、を有する静電チャックを有し、
前記電極導入部は、前記載置台の側面に設けられる、
請求項4に記載の基板処理装置。
【請求項7】
前記基板処理装置は、前記処理容器内にプラズマを生成して、基板に処理を施す基板処理装置であって、
前記電極導入部は、導電部材が絶縁部材で覆われる、
請求項6に記載の基板処理装置。
【請求項8】
前記コールドリンクに入射する輻射熱を反射する反射部材をさらに備える、
請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の基板処理装置。
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本開示は、基板処理装置に関する。
続きを表示(約 1,500 文字)
【背景技術】
【0002】
特許文献1には、真空チャンバ内で被処理物を冷却しながら回転自在に保持する保持装置であって、被処理物が設置されるステージと、ステージを回転自在に支持する回転駆動手段と、ステージを冷却する冷却手段とを備え、被処理物が設置されるステージ面側を上として、回転駆動手段が、真空チャンバの壁面に第1の真空シールを介して貫装される筒状の回転軸体と、ステージ下方に空間が画成されるように回転軸体の上端部とステージの下面とを連結する連結部材と、回転軸体を回転駆動する駆動モータとを有し、冷却手段が、ステージ下方の空間に当該ステージの下面に隙間を存して対向配置される冷却パネルと、回転軸体に内挿されて冷却パネルの下面に当接する伝熱軸体と、伝熱軸体を冷却する冷凍機とを有することを特徴とする保持装置が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
特許6559347号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
本開示の一態様は、冷却性を向上する基板処理装置を提供する。
【課題を解決するための手段】
【0005】
本開示の一の態様によれば、処理容器と、前記処理容器内に設けられ、第1接触面を有し、回転可能に構成される載置台と、第2接触面を有し、昇降可能に構成される冷凍装置と、前記載置台を回転させる回転装置と、前記冷凍装置を昇降し、前記第2接触面と前記第1接触面とを熱的に接続または離隔可能な昇降装置と、を備え、前記冷凍装置は、冷凍機と、一端が前記冷凍機と熱的に接続され、他端に前記第2接触面を有するコールドリンクと、を有し、前記コールドリンクの体積は、前記載置台の体積よりも大きい、基板処理装置が提供される。
【発明の効果】
【0006】
本開示の一態様によれば、冷却性を向上する基板処理装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【0007】
一実施形態に係る基板処理装置の載置台の回転時における一例の構成を示す断面図。
載置台の回転時及び冷却時における一例の構成を示す部分拡大断面図。
載置台の斜視図の一例。
チャック電極への給電構造を説明する模式図の一例。
電極導入部の断面模式図の一例。
【発明を実施するための形態】
【0008】
以下、図面を参照して本開示を実施するための形態について説明する。各図面において、同一構成部分には同一符号を付し、重複した説明を省略する場合がある。
【0009】
本明細書において平行、直角、直交、水平、垂直、上下、左右などの方向には、実施形態の効果を損なわない程度のずれが許容される。角部の形状は、直角に限られず、弓状に丸みを帯びてもよい。平行、直角、直交、水平、垂直、円、一致には、略平行、略直角、略直交、略水平、略垂直、略円、略一致が含まれてもよい。
【0010】
[基板処理装置]
一実施形態に係る基板処理装置1の一例について、図1及び図2を用いて説明する。図1は、一実施形態に係る基板処理装置1の載置台20の回転時における一例の構成を示す断面図である。図2は、載置台20の回転時及び冷却時における一例の構成を示す部分拡大断面図である。(a)は、載置台20の回転時を示し、(b)は載置台20の冷却時を示す。
(【0011】以降は省略されています)
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