TOP
|
特許
|
意匠
|
商標
特許ウォッチ
Twitter
他の特許を見る
公開番号
2025160962
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2025-10-24
出願番号
2024063733
出願日
2024-04-11
発明の名称
多孔質シリコン材料、蓄電デバイス及び多孔質シリコン材料の製造方法
出願人
株式会社豊田中央研究所
代理人
弁理士法人アイテック国際特許事務所
主分類
C01B
33/02 20060101AFI20251017BHJP(無機化学)
要約
【課題】多孔質シリコン材料の充放電特性をより向上する。
【解決手段】本開示の多孔質シリコン材料は、Si相及び20質量%以下のSi-Mo化合物を含む導電相を含み、導電相に対するSiO
2
の質量比So/Msが2.5以下であり、水銀圧入法で求めた細孔率が80体積%以下である。
【選択図】図4
特許請求の範囲
【請求項1】
Si相及び20質量%以下のSi-Mo化合物を含む導電相を含み、
前記導電相に対するSiO
2
の質量比So/Msが2.5以下であり、
水銀圧入法で求めた細孔率が80体積%以下である、
多孔質シリコン材料。
続きを表示(約 910 文字)
【請求項2】
前記導電相が5質量%以上であり、
前記SiO
2
が35質量%以下である、請求項1に記載の多孔質シリコン材料。
【請求項3】
AlとSiとMoとの全体を100at%としたときにMoの含有量が1at%以上10at%以下の範囲である、請求項1又は2に記載の多孔質シリコン材料。
【請求項4】
前記細孔率が50体積%以上である、請求項1又は2に記載の多孔質シリコン材料。
【請求項5】
水銀圧入法で求めた平均細孔径が30nm以上70nm以下の範囲である、請求項1又は2に記載の多孔質シリコン材料。
【請求項6】
正極活物質を含む正極と、
請求項1又は2に記載の多孔質シリコン材料を負極活物質として含む負極と、
前記正極と前記負極との間に介在しリチウムイオンを伝導するイオン伝導媒体と、
を備えた蓄電デバイス。
【請求項7】
AlとSiとMoとを含む原料を溶融し急冷凝固させシリコン合金の前駆体を得る前駆体工程と、
前記シリコン合金に含まれるAl成分を0.5mol/L未満の濃度の酸で除去して多孔質シリコン材料を得る多孔化工程と、
を含む多孔質シリコン材料の製造方法。
【請求項8】
前記多孔化工程では、Si相及び20質量%以下のSi-Mo化合物を含む導電相を含み、前記導電相に対するSiO
2
の質量比So/Msが2.5以下であり、水銀圧入法で求めた細孔率が80体積%以下である前記多孔質シリコン材料を得る、請求項7に記載の多孔質シリコン材料の製造方法。
【請求項9】
前記多孔化工程では、0.2mol/L以下の濃度の塩酸でAl成分を除去する、請求項7又は8に記載の多孔質シリコン材料の製造方法。
【請求項10】
前記多孔化工程では、前記導電相が5質量%以上であり、前記SiO
2
が35質量%以下である前記多孔質シリコン材料を得る、請求項7又は8に記載の多孔質シリコン材料の製造方法。
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本明細書では、多孔質シリコン材料、蓄電デバイス及び多孔質シリコン材料の製造方法
を開示する。
続きを表示(約 1,600 文字)
【背景技術】
【0002】
従来、多孔質シリコン材料の製造方法としては、AlとSiとMoとを含む原料を溶融し急冷凝固させシリコン合金の前駆体を得る前駆体工程と、シリコン合金に含まれるAl成分を除去して多孔質シリコン材料を得る多孔化工程と、を含むものが提案されている(例えば、特許文献1参照)。この製造方法では、微細なSi-Mo化合物でシリコン骨格が強化されるため、充放電特性の低下をより抑制することができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
特開2023-096585号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
しかしながら、上述の特許文献1の製造方法では、AlやMoなどを含むものとして、その強度を高め、充放電特性の低下をより抑制することができるが、まだ十分でなく更なる改良が望まれていた。
【0005】
本開示は、このような課題に鑑みなされたものであり、多孔質シリコン材料の充放電特性をより向上することができる多孔質シリコン材料、蓄電デバイス及び多孔質シリコン材料の製造方法を提供することを主目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0006】
上述した目的を達成するために鋭意研究したところ、本発明者らは、AlとSiとMoとを含むシリコン合金を作製し、Alを除去する際の条件をより好適ものとすることによって、充放電特性をより向上することができることを見いだし、本開示の多孔質シリコン材料、蓄電デバイス及び多孔質シリコン材料の製造方法を完成するに至った。
【0007】
即ち、本開示の多孔質シリコン材料は、
Si相及び20質量%以下のSi-Mo化合物を含む導電相を含み、
前記導電相に対するSiO
2
の質量比So/Msが2.5以下であり、
水銀圧入法で求めた細孔率が80体積%以下であるものである。
【0008】
本開示の蓄電デバイスは、
正極活物質を含む正極と、
上述した多孔質シリコン材料を負極活物質として含む負極と、
前記正極と前記負極との間に介在しリチウムイオンを伝導するイオン伝導媒体と、
を備えたものである。
【0009】
本開示の多孔質シリコン材料の製造方法は、
AlとSiとMoとを含む原料を溶融し急冷凝固させシリコン合金の前駆体を得る前駆体工程と、
前記シリコン合金に含まれるAl成分を0.5mol/L未満の濃度の酸で除去して多孔質シリコン材料を得る多孔化工程と、
を含むものである。
【発明の効果】
【0010】
本開示は、多孔質シリコン材料において、充放電特性をより向上することができる。このような効果が得られる理由は以下のように推察される。例えば、リチウムイオン二次電池用のシリコン負極は、理論容量が黒鉛等に比して高い値を示すが、充放電時の体積変化によって、その構造を保つことが困難なことがあった。この多孔質シリコン材料では、ナノサイズなどの微細な細孔を有し、微細なSi-Mo化合物でシリコン骨格が強化されることによって、その構造を強化することができ、充放電特性の低下をより抑制することができる。一方、この多孔質シリコン材料は、Alの除去処理を行うが、このとき、Siが酸化されることがあり、その抵抗率が高くなることがあった。本開示では、Alの除去処理条件を調整することによって、Si-Mo化合物を含む導電相を構造内に十分存在させ、且つSiの酸化をより抑制することによって、抵抗率の低減を図り、充放電特性をより向上することができる。
【図面の簡単な説明】
(【0011】以降は省略されています)
特許ウォッチbot のツイートを見る
この特許をJ-PlatPat(特許庁公式サイト)で参照する
関連特許
株式会社タクマ
固体炭素化設備
13日前
三菱重工業株式会社
加熱装置
13日前
株式会社トクヤマ
酸性次亜塩素酸水の製造方法
1日前
東ソー株式会社
CHA型ゼオライトの製造方法
23日前
東ソー株式会社
CHA型ゼオライトの製造方法
23日前
日揮触媒化成株式会社
珪酸液およびその製造方法
16日前
デンカ株式会社
窒化ケイ素粉末
15日前
デンカ株式会社
窒化ケイ素粉末
15日前
株式会社三井E&S
アンモニア改質装置
23日前
住友化学株式会社
無機アルミニウム化合物粉末
今日
デンカ株式会社
窒化ケイ素粉末の製造方法
20日前
三菱ケミカル株式会社
槽の洗浄方法及びシリカ粒子の製造方法
21日前
大阪瓦斯株式会社
酸化物複合体
21日前
デンカ株式会社
セラミックス粉末の製造方法
20日前
JFEエンジニアリング株式会社
ドライアイス製造システム
1日前
アサヒプリテック株式会社
濃縮方法
21日前
トヨタ自動車株式会社
光触媒を用いた水素ガス製造装置
13日前
大阪瓦斯株式会社
水素製造装置及びその運転方法
21日前
トヨタ自動車株式会社
光触媒を用いた水素ガス製造装置
21日前
トヨタ自動車株式会社
光触媒を用いた水素ガス製造装置
8日前
デンカ株式会社
窒化ホウ素粉末の製造方法
21日前
アサヒプリテック株式会社
濃縮方法
21日前
トヨタ自動車株式会社
光触媒を用いた水素ガス製造装置
21日前
日揮触媒化成株式会社
粉体及びその製造方法、並びに樹脂組成物
20日前
株式会社レゾナック
球状アルミナ粉末
20日前
日本電気株式会社
繊維状カーボンナノホーン集合体の接着分離方法
16日前
東ソー株式会社
アルカリ金属の除去方法
22日前
日揮触媒化成株式会社
シリカ微粒子分散液およびその製造方法
27日前
デンカ株式会社
窒化ホウ素粉末、及び樹脂成形体
16日前
デンカ株式会社
窒化ホウ素粉末、及び樹脂成形体
16日前
エヌ・イーケムキャット株式会社
ゼオライトの製造方法
15日前
株式会社大阪チタニウムテクノロジーズ
四塩化チタン製造方法
20日前
デンカ株式会社
窒化ケイ素粉末、及びその製造方法
20日前
日揮触媒化成株式会社
多孔質の三次粒子を含む粉体、及びその製造方法
16日前
デンカ株式会社
窒化ケイ素粉末、及びその製造方法
20日前
大阪瓦斯株式会社
水素製造装置及び水素製造装置の運転方法
21日前
続きを見る
他の特許を見る