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公開番号2025074808
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-05-14
出願番号2023185866
出願日2023-10-30
発明の名称異物ライブラリ生成装置、異物ライブラリ生成方法、分析支援装置及びデータ構造
出願人オムロン株式会社
代理人弁理士法人秀和特許事務所
主分類G01N 21/956 20060101AFI20250507BHJP(測定;試験)
要約【課題】不良が発生した条件をより容易に分析し、工程改善の効率化と可能とする。
【解決手段】異物を含む基板を撮像した基板画像から、前記異物を含む領域の画像である異物画像を生成する異物画像生成部と、前記異物画像を記憶する異物画像記憶部と、前記異物に関する異物関連情報を、前記異物画像に関連付けて記憶する異物関連情報記憶部と、を備えたことを特徴とする異物ライブラリ生成装置。
【選択図】図1

特許請求の範囲【請求項１】
異物を含む基板を撮像した基板画像から、前記異物を含む領域の画像である異物画像を生成する異物画像生成部と、
前記異物画像を記憶する異物画像記憶部と、
前記異物に関連する異物関連情報を、前記異物画像に関連付けて記憶する異物関連情報記憶部と、
を備えたことを特徴とする異物ライブラリ生成装置。
続きを表示（約 1,100 文字）【請求項２】
前記異物画像生成部は、前記基板画像の目視により前記異物を含む不良が確認された前記基板画像から前記異物画像を生成することを特徴とする請求項１に記載の異物ライブラリ生成装置。
【請求項３】
前記異物画像生成部は、前記基板に対する前記異物の有無を検査する検査装置において、前記異物を含む不良と判断された前記基板画像から前記異物画像を生成することを特徴とする請求項１に記載の異物ライブラリ生成装置。
【請求項４】
前記異物関連情報は、前記異物の特性に関する異物特性情報を含むことを特徴とする請求項１に記載の異物ライブラリ生成装置。
【請求項５】
前記異物関連情報は、前記基板と前記異物との関係に関する関係情報を含むことを特徴とする請求項１に記載の異物ライブラリ生成装置。
【請求項６】
基板の生産工程の分析を支援する分析支援装置であって、
異物を含む基板を撮像した基板画像から生成された、前記異物を含む領域の画像である異物画像を記憶した異物画像記憶部と、
前記異物の種別情報を含む、前記異物に関連する異物関連情報を、前記異物画像に関連付けて記憶した異物関連情報記憶部と、
前記基板の生産工程の分析に用いられる分析支援情報であって、前記異物画像記憶部に記憶された少なくともいずれか一つの前記異物画像に関連する前記異物関連情報を含む分析支援情報を生成する分析支援情報生成部と、
を備えたことを特徴とする分析支援装置。
【請求項７】
情報を表示する表示部と、
指示の入力を受け付ける指示入力部と、
を備え、
前記表示部は、複数の前記異物画像を、前記異物関連情報に関連付けて表示し、
前記指示入力部によって、前記表示部に表示された複数の前記異物画像から、いずれかの前記異物画像の選択を受け付け、
前記表示部は、前記指示入力部によって受け付けられた前記選択に係る前記異物画像に関連付けられた前記異物関連情報を表示することを特徴とする請求項６に記載の分析支援装置。
【請求項８】
前記分析支援情報は、前記異物画像記憶部に記憶された複数の前記異物画像に関連する前記異物関連情報を統計処理した統計情報を含むことを特徴とする請求項６に記載の分析支援装置。
【請求項９】
前記分析支援情報は、前記基板の生産工程を改善するための推奨情報を含むことを特徴とする請求項６に記載の分析支援装置。
【請求項１０】
前記基板の生産工程を改善するための工程改善情報を生成し、外部装置に送信する改善情報提供部を備えたことを特徴とする請求項６に記載の分析支援装置。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、異物ライブラリ生成装置、異物ライブラリ生成方法、分析支援装置及びデータ構造に関する。
続きを表示（約 1,300 文字）【背景技術】
【０００２】
プリント基板（以下、単に「基板」という。）にはんだ付けされた実装部品について、そのはんだ付け状態の良否等を検査するのに用いられる基板検査装置に関して、基板全体の品質担保のために、全面異物検査をしたいというニーズが高まっている。
【０００３】
検査において異物不良が発生した場合には、工程改善が必要になるが、その際に以下のようなデータがなければ原因分析をするのが困難になる。
・発生した不良の不良モード（はんだボール、チップ飛び等）
・発生した不良の位置座標（ランドの近く、部品の近く等）
・プリント工程、実装工程、リフロー後工程のいずれの工程で検出された不良か
・不良が検出されたタイミングのプリント印刷機、実装機、リフロー炉のそれぞれの設定何か（不良発生前後で変化点はあるか）
【０００４】
例えば、特許文献１には、実際に撮影された不良品画像データを記憶部に記憶しておき、良品画像に不良の特徴を転写し、疑似的な不良品画像を生成する技術が開示されている。
また、特許文献２には、転写した画像を用いて検査基準を最適化する技術が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
特開２０２２－１０８８５５号公報
特開２０２３－５１１０２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、それらの基礎となる不良のデータが十分に蓄積されるしくみは提供されていなかった。
【０００７】
本発明は、上記のような問題に鑑みてなされたものであり、不良が発生した条件をより容易に分析し、工程改善の効率化が可能となる技術を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記の課題を解決するための本発明は、
異物を含む基板を撮像した基板画像から、前記異物を含む領域の画像である異物画像を生成する異物画像生成部と、
前記異物画像を記憶する異物画像記憶部と、
前記異物に関連する異物関連情報を、前記異物画像に関連付けて記憶する異物関連情報記憶部と、
を備えたことを特徴とする異物ライブラリ生成装置である。
【０００９】
これによれば、異物画像と異物関連情報とを関連付けて記憶した異物ライブラリとして
、異物不良に関するデータを十分に蓄積することができ、異物画像記憶部に記憶された異物画像を特定することにより、この異物画像に関連づけて、異物関連情報記憶部に記憶された異物関連情報を抽出することが可能となるので、異物画像に基づいて、異物不良が発生した条件を、より容易に分析するための異物関連情報を提供し、工程改善の効率化を実現することができる。
【００１０】
また、本発明において、
前記異物画像生成部は、前記基板画像の目視により前記異物を含む不良が確認された前記基板画像から前記異物画像を生成するようにしてもよい。
（【００１１】以降は省略されています）

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