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公開番号2025083663
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-06-02
出願番号2023197173
出願日2023-11-21
発明の名称熱処理装置
出願人株式会社ジェイテクトサーモシステム
代理人個人
主分類F27D 7/02 20060101AFI20250526BHJP(炉,キルン,窯;レトルト)
要約【課題】過熱水蒸気を含む雰囲気によりワークを加熱して熱処理を行うことができる装置に関して、装置構成の簡素化を図る。
【解決手段】熱処理装置1は、ワークWが配置される加熱室11と、加熱室11に設けられて加熱室11内の雰囲気を加熱するヒーター26と、を備える。加熱室11は、不活性ガス及び空気の少なくともいずれかを含むガスとして構成される雰囲気用ガスが導入されるとともに、雰囲気用ガスよりも少量の飽和水蒸気が導入されるように構成される。ヒーター26は、加熱室11に導入された雰囲気用ガスと飽和水蒸気とを加熱するとともに、加熱室11に導入された飽和水蒸気を加熱することで当該飽和水蒸気を過熱水蒸気とするように構成されている。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
過熱水蒸気を含む雰囲気によりワークを加熱して当該ワークの熱処理を行う熱処理装置であって、
前記ワークが配置される加熱室と、前記加熱室に設けられて前記加熱室内の前記雰囲気を加熱するヒーターと、を備え、
前記加熱室は、不活性ガス及び空気の少なくともいずれかを含むガスとして構成される雰囲気用ガスが導入されるとともに、前記雰囲気用ガスよりも少量の飽和水蒸気が導入されるように構成され、
前記ヒーターは、前記加熱室に導入された前記雰囲気用ガスと前記飽和水蒸気とを加熱するとともに、前記加熱室に導入された前記飽和水蒸気を加熱することで当該飽和水蒸気を過熱水蒸気とするように構成されていることを特徴とする、熱処理装置。
続きを表示（約 560 文字）【請求項２】
請求項１に記載の熱処理装置であって、
前記ワークは、セラミック製の部品であることを特徴とする、熱処理装置。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載の熱処理装置であって、
前記ヒーターを含み、前記加熱室に対して着脱自在に取り付けられるヒーターユニットを更に備え、
前記ヒーターユニットは、前記加熱室に導入される前記飽和水蒸気を前記加熱室に供給するための飽和水蒸気供給管と接続されていることを特徴とする、熱処理装置。
【請求項４】
請求項１又は請求項２に記載の熱処理装置であって、
前記加熱室に導入される前記飽和水蒸気を前記加熱室に供給するための飽和水蒸気供給管が、前記加熱室内において前記ヒーターが配置されているヒーター配置領域まで延び、前記ヒーター配置領域にて前記飽和水蒸気供給管から前記加熱室内に前記飽和水蒸気が供給されることを特徴とする、熱処理装置。
【請求項５】
請求項１又は請求項２に記載の熱処理装置であって、
前記加熱室に導入される前記飽和水蒸気を前記加熱室に供給するための飽和水蒸気供給管が、前記加熱室内で延びるように設けられ、前記加熱室内で前記飽和水蒸気を供給することを特徴とする、熱処理装置。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、過熱水蒸気を含む雰囲気によりワークを加熱してワークの熱処理を行う熱処理装置に関する。
続きを表示（約 1,300 文字）【背景技術】
【０００２】
過熱水蒸気を含む雰囲気によりワークを加熱してワークの熱処理を行う熱処理装置として、例えば、特許文献１に開示された熱処理装置１が知られている。特許文献１に開示された熱処理装置１では、ワークが配置されるワークエリア４が設けられた筐体２内において、過熱水蒸気を含む雰囲気によりワークが加熱されて熱処理される。筐体２には、筐体２の外部で生成された過熱水蒸気を導入するための導入管が接続されており、導入管から筐体２内に過熱水蒸気が供給される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２０２０－９４７６６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１の熱処理装置１では、筐体２の外部で生成された過熱水蒸気が筐体２に導入される。このため、筐体２に導入する過熱水蒸気を筐体２の外部において生成するための装置構成が必要となり、装置構成の複雑化を招くことになる。
【０００５】
本発明は、過熱水蒸気を含む雰囲気によりワークを加熱して熱処理を行うことができる装置に関して、装置構成の簡素化を図ることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
（１）上記課題を解決するため、本発明の熱処理装置は、過熱水蒸気を含む雰囲気によりワークを加熱して当該ワークの熱処理を行う熱処理装置であって、前記ワークが配置される加熱室と、前記加熱室に設けられて前記加熱室内の前記雰囲気を加熱するヒーターと、を備え、前記加熱室は、不活性ガス及び空気の少なくともいずれかを含むガスとして構成される雰囲気用ガスが導入されるとともに、前記雰囲気用ガスよりも少量の飽和水蒸気が導入されるように構成され、前記ヒーターは、前記加熱室に導入された前記雰囲気用ガスと前記飽和水蒸気とを加熱するとともに、前記加熱室に導入された前記飽和水蒸気を加熱することで当該飽和水蒸気を過熱水蒸気とするように構成されている。
【０００７】
（２）前記熱処理装置において、前記ワークは、セラミック製の部品である。
【０００８】
（３）前記熱処理装置は、前記ヒーターを含んで前記加熱室に着脱自在に取り付けられるヒーターユニットを更に備え、前記ヒーターユニットは、前記加熱室に導入される前記飽和水蒸気を前記加熱室に供給するための飽和水蒸気供給管と接続されている。
【０００９】
（４）前記熱処理装置において、前記加熱室に導入される前記飽和水蒸気を前記加熱室に供給するための飽和水蒸気供給管が、前記加熱室内において前記ヒーターが配置されているヒーター配置領域まで延び、前記ヒーター配置領域にて前記飽和水蒸気供給管から前記加熱室内に前記飽和水蒸気が供給される。
【００１０】
（５）前記熱処理装置において、前記加熱室に導入される前記飽和水蒸気を前記加熱室に供給するための飽和水蒸気供給管が、前記加熱室内で延びるように設けられ、前記加熱室内で前記飽和水蒸気を供給する。
【発明の効果】
（【００１１】以降は省略されています）

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