TOP特許意匠商標
特許ウォッチ Twitter
10個以上の画像は省略されています。
公開番号2025120305
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-08-15
出願番号2025094334,2022579540
出願日2025-06-05,2022-01-31
発明の名称ネガ型感光性組成物及び中空構造体の製造方法
出願人東京応化工業株式会社
代理人個人,個人,個人,個人
主分類G03F 7/027 20060101AFI20250807BHJP(写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ)
要約【課題】加熱処理による天板部の変形が抑制される、ネガ型感光性組成物及び中空構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は、エポキシ基含有化合物と、カチオン重合開始剤と、多官能(メタ)アクリレート化合物と、光ラジカル重合開始剤と、を含有する、中空構造体の天板部を形成するためのネガ型感光性組成物。
【選択図】なし
特許請求の範囲【請求項1】
エポキシ基含有化合物と、
カチオン重合開始剤と、
多官能(メタ)アクリレート化合物と、
光ラジカル重合開始剤と、
を含有する、中空構造体の天板部を形成するためのネガ型感光性組成物。
続きを表示(約 380 文字)【請求項2】
前記エポキシ基含有化合物の含有量は、前記エポキシ基含有化合物と前記多官能(メタ)アクリレート化合物との合計の含有量100質量部に対して、50質量部以上である、請求項1に記載のネガ型感光性組成物。
【請求項3】
シリカナノ粒子をさらに含有する、請求項1又は2に記載のネガ型感光性組成物。
【請求項4】
前記カチオン重合開始剤の含有量は、前記多官能(メタ)アクリレート化合物の含有量100質量部に対して、0.01~50質量部である、請求項1~3のいずれか一項に記載のネガ型感光性組成物。
【請求項5】
凹部と、この凹部の開口面を塞ぐ天板部と、からなる中空構造体の製造方法であって、
前記天板部を、請求項1~4のいずれか一項に記載のネガ型感光性組成物を用いて形成する、中空構造体の製造方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【0001】
本発明は、ネガ型感光性組成物及び中空構造体の製造方法に関する。
本願は、2021年2月8日に日本に出願された、特願2021-018152号に基づき優先権主張し、その内容をここに援用する。
続きを表示(約 1,700 文字)【背景技術】
【0002】
近年、表面弾性波(SAW)フィルター等の微小電子デバイスの開発が進められている。このような電子デバイスを封止したパッケージは、表面弾性波の伝播、電子デバイスの可動部材の可動性を確保するための中空構造を有している。
前記中空構造の形成には感光性組成物が用いられ、電極が形成された配線基板上を中空に保ったままモールド成型することによりパッケージが製造される。
【0003】
例えば、特許文献1には、基板上に形成されたMicro Electro Mechanical Systems(MEMS)を覆うようにキャビティ確保部を形成して中空構造体を作製する工程と、トランスファー成形によって中空構造体全体を封止層で封止する工程と、を有する中空パッケージの製造方法について開示されている。また、特許文献1には、エポキシ基含有化合物と、カチオン重合開始剤とを含有してなるネガ型感光性組成物が開示されている。
【0004】
前記キャビティ確保部は以下のようにして形成されている。
MEMSの周囲に感光性組成物を塗布した後、フォトマスクを介して露光、ポストエクスポージャーベーク(PEB)、現像を行い、側壁を作製する。
次に、ベースフィルムと感光性組成物層とカバーフィルムとがこの順に積層したドライフィルムレジストから、カバーフィルムを剥離したものを、前記側壁の上方にラミネートして天板部を形成し、再度フォトマスクを介して露光、PEB、現像を行い、不要な部分を除去して天板部を作製することにより、キャビティ確保部が形成される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
国際公開第2009/151050号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
中空構造体を作製する際、一般的に、感光性組成物層の硬化膜強度を高めるため、現像後の前記キャビティ確保部に対して、例えば200℃以上の高温加熱処理(キュア操作)がさらに行われる。中空構造体を作製する際のPEBの加熱処理やキュア操作の高温加熱処理によって、中空構造内部の空気が膨張し、天板部が膨らんでしまうドーミングという現象が生じることがある。
特許文献1に記載のネガ型感光性組成物等、従来のネガ型感光性組成物を中空構造体の天板部として用いると、その配合バランスによって、ドーミング現象が発生し、中空構造体を有する電子部品の低背化が困難になるという課題があった。
【0007】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、加熱処理による天板部の変形が抑制される、ネガ型感光性組成物及び中空構造体の製造方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【0008】
上記の課題を解決するために、本発明は以下の構成を採用した。
すなわち、本発明の第1の態様は、エポキシ基含有化合物と、カチオン重合開始剤と、多官能(メタ)アクリレート化合物と、光ラジカル重合開始剤と、を含有する、中空構造体の天板部を形成するためのネガ型感光性組成物である。
換言すれば、本発明の第1の態様は、エポキシ基含有化合物と、カチオン重合開始剤と、多官能(メタ)アクリレート化合物と、光ラジカル重合開始剤と、を含有するネガ型感光性組成物の、中空構造体の天板部を形成への使用である。
【0009】
本発明の第2の態様は、凹部と、この凹部の開口面を塞ぐ天板部と、からなる中空構造体の製造方法であって、前記天板部を、上記第1の態様に係るネガ型感光性組成物を用いて形成する、中空構造体の製造方法である。
【発明の効果】
【0010】
本発明によれば、加熱処理による天板部の変形が抑制される、ネガ型感光性組成物及び中空構造体の製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
(【0011】以降は省略されています)

この特許をJ-PlatPat(特許庁公式サイト)で参照する

関連特許

東京応化工業株式会社
ポリイミド樹脂前駆体、及び感光性組成物
1か月前
東京応化工業株式会社
ポリイミド樹脂前駆体、及び感光性組成物
1か月前
東京応化工業株式会社
処理液、基板の処理方法、及び半導体基板の製造方法
2か月前
東京応化工業株式会社
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、及び化合物
1か月前
東京応化工業株式会社
ポリマー、ポリマーの製造方法、及び非感光性液状組成物
18日前
東京応化工業株式会社
ポリマー、ポリマーの製造方法、及び非感光性液状組成物
18日前
東京応化工業株式会社
ポリマー、ポリマーの製造方法、及び非感光性液状組成物
18日前
東京応化工業株式会社
レジスト材料、パターン形成方法、及び、パターン化構造体
1か月前
東京応化工業株式会社
膜形成用組成物、硬化膜の製造方法、及びかご型シルセスキオキサン
1か月前
東京応化工業株式会社
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び高分子化合物
1か月前
東京応化工業株式会社
ダイシング用保護膜組成物、ウエハの製造方法、及びウエハの加工方法
1か月前
東京応化工業株式会社
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び高分子化合物
2か月前
東京応化工業株式会社
相分離構造形成用樹脂組成物、及び相分離構造を含む構造体の製造方法
1か月前
東京応化工業株式会社
相分離構造形成用樹脂組成物、及び相分離構造を含む構造体の製造方法
1か月前
東京応化工業株式会社
保護膜形成剤、保護膜、保護膜の製造方法、及び半導体チップの製造方法
1か月前
東京応化工業株式会社
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、及び酸拡散制御剤
24日前
東京応化工業株式会社
中空構造体、感光性組成物、感光性組成物の製造方法、感光性組成物の検査方法
9日前
東京応化工業株式会社
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、ラジカル重合開始剤、重合体
19日前
東京応化工業株式会社
検査方法、樹脂組成物の製造方法、及びレジスト組成物又は熱硬化性組成物の製造方法
2か月前
東京応化工業株式会社
膜形成用組成物、硬化膜の製造方法、かご型シルセスキオキサン、及び環状シロキサン
1か月前
東京応化工業株式会社
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、高分子化合物、及び酸拡散制御剤
2か月前
東京応化工業株式会社
相分離構造形成用樹脂組成物、相分離構造を含む構造体の製造方法、及びブロックコポリマー
2か月前
東京応化工業株式会社
相分離構造形成用樹脂組成物、相分離構造を含む構造体の製造方法、及びブロックコポリマー
2か月前
東京応化工業株式会社
ネガ型感光性組成物及び中空構造体の製造方法
16日前
東京応化工業株式会社
容器入り半導体製造用薬液、容器入り半導体製造用薬液の製造方法、及び半導体製造用薬液の保存方法
1か月前
東京応化工業株式会社
化学増幅型ポジ型感光性樹脂組成物、感光性ドライフィルム、及びパターン化されたレジスト膜の製造方法
1か月前
東京応化工業株式会社
化学増幅型ポジ型感光性樹脂組成物、感光性ドライフィルム、及びパターン化されたレジスト膜の製造方法
1か月前
東京応化工業株式会社
ネガ型感光性樹脂組成物、パターン化された樹脂膜の製造方法、及びパターン化されたポリイミド樹脂膜の製造方法
1か月前
東京応化工業株式会社
ネガ型感光性樹脂組成物、パターン化された樹脂膜の製造方法、及びパターン化されたポリイミド樹脂膜の製造方法
1か月前
東京応化工業株式会社
ダイシング用保護膜組成物、ウエハの製造方法、及びウエハの加工方法
1か月前
東京応化工業株式会社
ネガ型感光性樹脂組成物、パターン化された樹脂膜の製造方法、及びパターン化されたポリイミド樹脂膜の製造方法、並びにポリイミド樹脂前駆体
1か月前
個人
監視用カメラ
2か月前
平和精機工業株式会社
雲台
5日前
日本精機株式会社
車両用投影装置
3か月前
日本精機株式会社
車両用投影装置
3か月前
株式会社リコー
画像形成装置
3か月前
続きを見る