TOP特許意匠商標
特許ウォッチ Twitter
公開番号2025125663
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-08-28
出願番号2024021738
出願日2024-02-16
発明の名称ガスセンサ及びガスセンサ装置
出願人日本特殊陶業株式会社
代理人弁理士法人グランダム特許事務所
主分類G01N 27/12 20060101AFI20250821BHJP(測定;試験)
要約【課題】対象ガスを精度良く検知し得るガスセンサ及びガスセンサ装置を提供する。
【解決手段】ガスセンサ10は、互いに離隔して配される一対の電極(第1電極71、第2電極72)を有する少なくとも1つの電極対70と、一対の電極(第1電極71、第2電極72)の間を電気的に接続する感応膜60と、感応膜60を加熱する発熱部40と、を備える。感応膜60は、酸化物半導体と酸化物半導体よりも活性温度が高い固体電解質体との混合物を含む。電極(第1電極71、第2電極72)と混合物は、直接接触している。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項1】
互いに離隔して配される一対の電極を有する少なくとも1つの電極対と、
一対の前記電極の間を電気的に接続する感応膜と、
前記感応膜を加熱する発熱部と、
を備えるガスセンサであって、
前記感応膜は、酸化物半導体と前記酸化物半導体よりも活性温度が高い固体電解質体との混合物を含み、
前記電極と前記混合物は、直接接触し、又は電子伝導性とイオン電導性とを有する混合伝導体を介して電気的に接続される、
ガスセンサ。
続きを表示(約 640 文字)【請求項2】
前記混合物における前記酸化物半導体と前記固体電解質体の体積比は、3:7-7:3である、
請求項1に記載のガスセンサ。
【請求項3】
請求項1又は請求項2に記載のガスセンサと、
一対の前記電極の間に電圧を印加する電圧印加部と、
前記発熱部の加熱動作と、前記電圧印加部による電圧の印加動作と、を制御する制御部を備えるガスセンサ装置であって、
前記制御部は、
前記酸化物半導体で電子又はホールが伝導する温度である第1温度となるように前記発熱部によって前記感応膜を加熱させるとともに、前記電圧印加部によって一対の前記電極の間に電圧を印加させ、一対の前記電極間に流れる電流又は一対の前記電極間の抵抗値に基づいて対象ガスの濃度を検出する第1制御と、
前記第1温度よりも高く前記固体電解質体でイオンが伝導する温度である第2温度となるように前記発熱部によって前記感応膜を加熱させるとともに、前記電圧印加部によって一対の前記電極の間に電圧を印加させる第2制御と、を行う、
ガスセンサ装置。
【請求項4】
前記制御部は、
前記第1制御では、前記電圧印加部によって一対の前記電極の間に第1電圧値の電圧を印加させ、
前記第2制御では、前記電圧印加部によって一対の前記電極の間に前記第1電圧値よりも大きい第2電圧の電圧を印加させる、
請求項3に記載のガスセンサ装置。

発明の詳細な説明【技術分野】
【0001】
本発明は、ガスセンサ及びガスセンサ装置に関する。
続きを表示(約 1,700 文字)【背景技術】
【0002】
特許文献1のガス検出装置は、金属酸化物半導体ガスセンサと、金属酸化物半導体ガスセンサを駆動温度に加熱する加熱部と、金属酸化物半導体ガスセンサの抵抗値を測定するための信号電圧印加手段と、を備えている。このガス検出装置は、信号電圧印加手段によって信号電圧を変化させることによってガス感度を変化させる構成となっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
特開2000-283943号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
特許文献1のガス検出装置では、駆動下で金属酸化物半導体ガスセンサに吸着した酸素等によって感度が変化することが想定される。そのため、金属酸化物半導体ガスセンサに印加する電圧を調整したとしても、感度が安定しない懸念がある。そこで、対象ガスを精度良く検知し得る構成が求められている。
【0005】
本開示は、対象ガスを精度良く検知し得るガスセンサ及びガスセンサ装置を提供する。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本開示のガスセンサは、
互いに離隔して配される一対の電極を有する少なくとも1つの電極対と、
一対の前記電極の間を電気的に接続する感応膜と、
前記感応膜を加熱する発熱部と、
を備えるガスセンサであって、
前記感応膜は、酸化物半導体と前記酸化物半導体よりも活性温度が高い固体電解質体との混合物を含み、
前記電極と前記混合物は、直接接触し、又は電子伝導性とイオン電導性とを有する混合伝導体を介して電気的に接続される。
【発明の効果】
【0007】
本開示に係る技術は、対象ガスを精度良く検知し得る。
【図面の簡単な説明】
【0008】
図1は、第1実施形態のガスセンサを概略的に示す側断面図である。
図2は、図1のガスセンサの一部拡大図である。
図3は、絶縁層上に形成された第1電極及び第2電極を概略的に示す平面図である。
図4は、ガスセンサの一部を概略的に示す模式図である。
図5(A)は、ガスセンサが対象ガスに暴露される前の酸化物半導体の空乏層を説明する説明図であり、図5(B)は、ガスセンサが対象ガスに暴露された後の酸化物半導体の空乏層を説明する説明図である。
図6は、ガスセンサの製造工程を説明する工程図である。
図7は、図6に続くガスセンサの製造工程を説明する工程図である。
【発明を実施するための形態】
【0009】
以下では、本開示の実施形態が列記されて例示される。
〔1〕互いに離隔して配される一対の電極を有する少なくとも1つの電極対と、
一対の前記電極の間を電気的に接続する感応膜と、
前記感応膜を加熱する発熱部と、
を備えるガスセンサであって、
前記感応膜は、酸化物半導体と前記酸化物半導体よりも活性温度が高い固体電解質体との混合物を含み、
前記電極と前記混合物は、直接接触し、又は電子伝導性とイオン電導性とを有する混合伝導体を介して電気的に接続される、
ガスセンサ。
【0010】
この構成によれば、感応膜が酸化物半導体と固体電解質体との混合物を含むため、酸化物半導体の濃度検出作用(対象ガス濃度に起因する抵抗変化)によって対象ガスの濃度検出ができるとともに、感応膜に吸着したイオンを固体電解質体のイオン移動作用によって除去できる。特に、酸化物半導体の活性温度と固体電解質体の活性温度とが異なるため、適当な温度調整によって、酸化物半導体の濃度検出作用と固体電解質体のイオン移動作用とを使い分けられる。したがって、ガスセンサは、感応膜に吸着したイオンを除去して感度劣化を防ぎつつ、対象ガスを精度良く検知できる。
(【0011】以降は省略されています)

この特許をJ-PlatPat(特許庁公式サイト)で参照する

関連特許

日本特殊陶業株式会社
回収装置
2日前
日本特殊陶業株式会社
保持装置
2日前
日本特殊陶業株式会社
保持装置
11日前
日本特殊陶業株式会社
保持部材
11日前
日本特殊陶業株式会社
ガスセンサ
13日前
日本特殊陶業株式会社
ガスセンサ
13日前
日本特殊陶業株式会社
部品の製造方法
17日前
日本特殊陶業株式会社
耐プラズマ性部材
5日前
日本特殊陶業株式会社
耐プラズマ性部材
5日前
日本特殊陶業株式会社
ガスセンサ及びガスセンサ装置
3日前
日本特殊陶業株式会社
固体酸化物形電解セルおよびその利用
9日前
日本特殊陶業株式会社
多孔質セラミックス構造体、および触媒構造体
24日前
日本特殊陶業株式会社
ノネナールの検知センサ、および見守りシステム
3日前
日本特殊陶業株式会社
磁性コイル、磁性部材、および無線給電用デバイス
5日前
日本特殊陶業株式会社
磁性複合材料、磁性部材、および無線給電用デバイス
23日前
日本特殊陶業株式会社
保持装置
16日前
日本特殊陶業株式会社
セラミックスサセプタ及びセラミックスサセプタの製造方法
17日前
個人
微小振動検出装置
2日前
ユニパルス株式会社
力変換器
23日前
株式会社イシダ
X線検査装置
2日前
株式会社豊田自動織機
産業車両
1か月前
株式会社ミツトヨ
測定器
1か月前
横浜ゴム株式会社
音響窓
25日前
三菱電機株式会社
計測器
17日前
日置電機株式会社
測定装置
24日前
株式会社辰巳菱機
システム
11日前
個人
センサーを備えた装置
27日前
株式会社国際電気
試験装置
1か月前
日本精機株式会社
施工管理システム
27日前
IPU株式会社
距離検出装置
23日前
株式会社FRPカジ
FRP装置
13日前
株式会社東芝
センサ
2日前
株式会社東芝
センサ
26日前
学校法人立命館
液面レベルセンサ
10日前
富士レビオ株式会社
嵌合システム
16日前
株式会社カワタ
サンプリング装置
6日前
続きを見る