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公開番号2025128519
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-09-03
出願番号2024025223
出願日2024-02-22
発明の名称乾燥装置
出願人東レエンジニアリング株式会社
代理人弁理士法人サンクレスト国際特許事務所
主分類F26B 3/30 20060101AFI20250827BHJP(乾燥)
要約【課題】基材が第一乾燥部から第二乾燥部に移行する際に、塗膜の温度が低下することを抑える。
【解決手段】乾燥装置10は、基材Wに塗布された塗膜Pを乾燥させる第一乾燥部11と、前記第一乾燥部11から移行した前記基材Wの前記塗膜Pを更に乾燥させる第二乾燥部12と、を有する。前記第一乾燥部11は、前記塗膜Pを加熱する第一加熱装置21と、前記第一乾燥部11の雰囲気温度を高める、又は、前記第一乾燥部11で前記基材W若しくは前記塗膜Pを加熱する第二加熱装置22と、を有する。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
基材に塗布された塗膜を乾燥させる第一乾燥部と、
前記第一乾燥部から移行した前記基材の前記塗膜を更に乾燥させる第二乾燥部と、
を有し、
前記第一乾燥部は、
前記塗膜を加熱する第一加熱装置と、
前記第一乾燥部の雰囲気温度を高める、又は、前記第一乾燥部で前記基材若しくは前記塗膜を加熱する第二加熱装置と、
を有する、
乾燥装置。
続きを表示（約 930 文字）【請求項２】
前記第一加熱装置は、前記塗膜に赤外線を照射する赤外線加熱装置を含む、
請求項１に記載の乾燥装置。
【請求項３】
前記赤外線加熱装置は、前記塗膜に赤外線レーザを照射するレーザ照射器を含む、
請求項２に記載の乾燥装置。
【請求項４】
前記第一乾燥部は、前記基材が通る第一処理室を内部に有する第一筐体を有し、
前記第二乾燥部は、前記基材が通る第二処理室を内部に有する第二筐体を有し、
前記第一筐体と前記第二筐体とは隣接している、
請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の乾燥装置。
【請求項５】
前記第二加熱装置は、前記第一処理室に設けられ熱風を供給する供給ノズルを含む、
請求項４に記載の乾燥装置。
【請求項６】
前記供給ノズルは、前記第一処理室に設けられていて、前記第二処理室に向かう方向の速度成分を有する熱風を噴出する、
請求項５に記載の乾燥装置。
【請求項７】
前記供給ノズルは、前記第一加熱装置による前記塗膜に対する加熱領域よりも、前記基材の移動方向の上流側に位置する、
請求項６に記載の乾燥装置。
【請求項８】
前記第二加熱装置は、前記基材のうち、前記塗膜の塗布面の反対面側に位置し前記基材を加熱する、
請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の乾燥装置。
【請求項９】
前記第一乾燥部は、前記基材が通る第一処理室を内部に有する第一筐体を有し、
前記第一加熱装置は、前記第一処理室を通る前記基材の前記塗膜に赤外線を照射する赤外線加熱装置を含み、
前記赤外線加熱装置は、前記第一筐体の外に位置し、
前記第一筐体は、前記赤外線を通過させる開口を有する、
請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の乾燥装置。
【請求項１０】
前記第二加熱装置は、熱風を供給する前段の供給ノズルを含み、
前記第二乾燥部は、熱風を供給する後段の供給ノズルを含む、
請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の乾燥装置。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、乾燥装置に関する。
続きを表示（約 1,500 文字）【背景技術】
【０００２】
二次電池が有する電極は、様々な工程を経て製造される。その様々な工程のうちの一つとして、液体状の電極材料を基材に塗布し、その基材に形成された塗膜を乾燥させる工程が存在する。そのような工程を含む電極の製造方法が、特許文献１に開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２０１６－２５０５１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
図４は、基材に塗布された塗膜を乾燥させる従来の乾燥装置の説明図である。乾燥装置９０は、複数のステージ（処理領域）を有して構成され、基材Ｗを各ステージに搬送して塗膜Ｐの乾燥処理を行う。つまり、乾燥装置９０は、第一ステージとして、塗膜Ｐを加熱して乾燥させる第一乾燥部９１と、第二ステージとして、第一乾燥部９１から移行した基材Ｗの塗膜Ｐを更に加熱して乾燥させる第二乾燥部９２とを有する。
【０００５】
第一乾燥部９１は、赤外線加熱装置９１１を有する。赤外線加熱装置９１１は、赤外線により塗膜Ｐを加熱する。赤外線を塗膜Ｐに照射する場合、塗膜Ｐの表面温度を高めることは可能であるが、塗膜Ｐの全体にわたって温度が上昇していない場合がある。
第一乾燥部９１から基材Ｗが移行する第二乾燥部９２では、例えば熱風を用いて塗膜Ｐの乾燥が行われる。前記のとおり、第一乾燥部９１において塗膜Ｐの全体が温度上昇しておらず、このため、基材Ｗが第二乾燥部９２に移行する際、塗膜Ｐの温度は大きく低下する。
【０００６】
図５は、塗膜Ｐの表面の温度を示すグラフである。図５の横軸は、第一乾燥部９１及び第二乾燥部９２における塗膜Ｐの温度の測定位置を示す。測定位置Ｑ１は、赤外線の照射領域（加熱領域Ｓ１）に含まれ（図４参照）、この測定位置Ｑ１で塗膜Ｐの表面の温度は高くなる。
測定位置Ｑ２は、赤外線の照射領域から外れた位置である。測定位置Ｑ２で、塗膜Ｐの表面の温度は急激に低下する（図５参照）。これは、前記のとおり赤外線によって塗膜Ｐの表面は高温となっているが、塗膜Ｐの全体の温度が高められていないためである。
【０００７】
測定位置Ｑ３は、第二乾燥部９２の上流側位置である。第二乾燥部９２では熱風が与えられて高温となっている。測定位置Ｑ３で、一旦温度が低下した塗膜Ｐの温度が上昇する。
図５に示すように、基材Ｗが第二乾燥部９２に移行する際に、塗膜Ｐの温度は大きく低下し、エネルギーのロスが大きくなるという課題がある。
【０００８】
そこで、本発明は、基材が第一乾燥部から第二乾燥部に移行する際に、塗膜の温度が低下することを抑えることが可能となる乾燥装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の乾燥装置は、基材に塗布された塗膜を乾燥させる第一乾燥部と、前記第一乾燥部から移行した前記基材の前記塗膜を更に乾燥させる第二乾燥部と、を有し、前記第一乾燥部は、前記塗膜を加熱する第一加熱装置と、前記第一乾燥部の雰囲気温度を高める、又は、前記第一乾燥部で前記基材若しくは前記塗膜を加熱する第二加熱装置と、を有する。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の乾燥装置によれば、第一乾燥部から第二乾燥部に基材が移行する際に、塗膜の温度の低下が抑えられる。その結果、エネルギーのロスの低減が可能となる。
【図面の簡単な説明】
（【００１１】以降は省略されています）

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