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公開番号2025162898
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-10-28
出願番号2024066397
出願日2024-04-16
発明の名称(ポリ)グリセリン系アルコキシシラン含有組成物
出願人阪本薬品工業株式会社
代理人
主分類C08L 71/00 20060101AFI20251021BHJP(有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物)
要約【課題】
本発明は、厚膜を硬化することができ、かつ、膜硬度の高いアルコキシシラン含有組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】
(A)平均重合度が1~100の(ポリ)グリセリン骨格を有する化合物であり、アルコキシシリル基を有する(ポリ)グリセリン系アルコキシシラン、および(B)親水性フィラーを含有することを特徴とする(ポリ)グリセリン系アルコキシシラン含有組成物が上記課題を解決する。
【選択図】なし
特許請求の範囲【請求項1】
下記成分(A)および(B)を含有することを特徴とする(ポリ)グリセリン系アルコキシシラン含有組成物。
(A)平均重合度が1~100の(ポリ)グリセリン骨格を有する化合物であり、アルコキシシリル基を有する(ポリ)グリセリン系アルコキシシラン
(B)親水性フィラー
続きを表示(約 87 文字)【請求項2】
成分(A):(B)=100:0.00025~100:20であることを特徴とする請求項1に記載の(ポリ)グリセリン系アルコキシシラン含有組成物。

発明の詳細な説明【技術分野】
【0001】
本発明は、アルコキシシラン含有組成物に関する。
続きを表示(約 1,600 文字)【背景技術】
【0002】
エチルシリケートやメチルトリメトキシシランなどの多官能性のアルコキシシラン化合物は、コロイダルシリカやメチロール化メラミン、ポリビニルアルコールなどと組み合わせて、アルコキシシラン系コーティング組成物としてすでに製品化されている。
【0003】
膜厚が1μmを超えるアルコキシシランの硬化膜は、UVカット材料、IRカット材料などの光学材料を含有・分散するためのマトリックス材料や、ハードコート材料として使用できる可能性がある。しかし、従来のアルコキシシランの硬化膜は、硬化時の内部応力が大きく、クラックが生じやすいため、膜厚1μmを超える硬化膜の作製は非常に困難であった。これまでに、膜厚が1μmを超えるシリカ膜の作製として、ポリビニルピロリドン(PVP)のような親水性ポリマーを膜中に含有させる方法やフェニル基を有するアルコキシシランを出発原料として用いる方法があるが、これらの方法で作製される膜は、強度が十分でなかった(特許文献1)。これに対して非特許文献1では、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(GPTMS)とテトラエトキシシラン(TEOS)を併用することにより、1μmを超える膜厚と優れた膜強度をもつ硬化膜が提案されている。しかし、その硬化膜の厚さは1.2μmであり、従来の膜厚とさほど変わらず、1.2μmを超える膜厚の硬化は示すことができておらず、厚膜硬化が十分に達成されていない。そのため、厚膜硬化が可能で、硬化時に高い硬度の硬化膜が得られるアルコキシシラン含有組成物を得る方法が求められている。
【0004】
また、厚膜の硬化膜を得る際には、ベース樹脂とフィラーの親和性が重要となる。フィラーは、表面に多くの水酸基が存在するため、ベース樹脂とフィラーの親和性が悪いと、凝集や分散不良が生じることが知られている。(非特許文献2)特に、厚膜での硬化を行う場合には、硬化前の樹脂組成物系中でフィラーの凝集や分散不良が生じると、硬化後に塗膜の表面平滑性が悪化することで外観不良など、薄膜時には見られなかった課題が顕著に現れる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
特開2005-145795号公報
【非特許文献】
【0006】
M.SAITO,NEW GLASS,Vol.24,No.3(2009)
永田員也,日本ゴム協会誌,第78巻,第6号(2005)
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0007】
本発明は、厚膜を硬化することができ、かつ、膜硬度の高いアルコキシシラン含有組成物を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0008】
本発明者らが鋭意検討した結果、(A)平均重合度が1~100の(ポリ)グリセリン骨格を有する化合物であり、アルコキシシリル基を有する(ポリ)グリセリン系アルコキシシラン、および(B)親水性フィラーを含有することを特徴とする(ポリ)グリセリン系アルコキシシラン含有組成物が上記課題を解決することを見出し、本発明を完成するに至った。
【発明の効果】
【0009】
本発明の組成物は、汎用の硬化方法で厚膜の塗膜を形成することができ、高硬度で平滑な塗膜が得られる。
【発明を実施するための形態】
【0010】
以下、実施形態に基づいて本発明を説明するが、本発明の範囲はこの実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を損なわない範囲で変更が加えられた形態も本発明に属する。なお、範囲を表す「~」は上限と下限を含むものである。また、「(ポリ)」は、(ポリ)に続く構造の単量体及び/または2以上の繰り返し単位を持つ多量体であることを示すものである。
(【0011】以降は省略されています)

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