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公開番号2025079955
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-05-23
出願番号2023192850
出願日2023-11-13
発明の名称感光性樹脂組成物、感光性樹脂皮膜、感光性ドライフィルム及びパターン形成方法
出願人信越化学工業株式会社
代理人個人,個人,個人
主分類G03F 7/075 20060101AFI20250516BHJP(写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ)
要約【課題】銅の変色なく厚膜で微細なパターン形成を容易に行うことができ、かつ、銅マイグレーション耐性や、基材に対する密着性、信頼性に優れる樹脂皮膜を形成することができる感光性樹脂組成物、感光性樹脂皮膜、感光性ドライフィルム、及びこれらを用いるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】(A)酸架橋性基を有するシリコーン樹脂、(B)オキサゾリン化合物またはその誘導体、及び(C)光酸発生剤を含むものであることを特徴とする感光性樹脂組成物。
【選択図】なし
特許請求の範囲【請求項１】
（Ａ）酸架橋性基を有するシリコーン樹脂、
（Ｂ）オキサゾリン化合物またはその誘導体、及び
（Ｃ）光酸発生剤
を含むものであることを特徴とする感光性樹脂組成物。
続きを表示（約 2,500 文字）【請求項２】
前記（Ａ）シリコーン樹脂が、下記式（Ａ１）で表されるものであることを特徴とする請求項１に記載の感光性樹脂組成物。
TIFF
2025079955000037.tif
24
166
（式中、Ｒ
１
～Ｒ
４
は、それぞれ独立に、炭素数１～８のヒドロカルビル基である。ｋは、１～６００の整数である。ａ及びｂは、各繰り返し単位の組成比（モル比）を表し、０＜ａ＜１、０＜ｂ＜１及びａ＋ｂ＝１を満たす数である。Ｘは、エポキシ基及び／又はフェノール性ヒドロキシ基を含む２価の有機基である。）
【請求項３】
前記（Ａ）シリコーン樹脂が、下記式（ａ１）～（ａ４）及び（ｂ１）～（ｂ４）で表される繰り返し単位を含むものであることを特徴とする請求項２に記載の感光性樹脂組成物。
TIFF
2025079955000038.tif
132
166
［式中、Ｒ
１
～Ｒ
４
は、それぞれ独立に、炭素数１～８のヒドロカルビル基である。ｋは、１～６００の整数である。ａ
１
～ａ
４
及びｂ
１
～ｂ
４
は、各繰り返し単位の組成比（モル比）を表し、０≦ａ
１
＜１、０≦ａ
２
＜１、０≦ａ
３
＜１、０≦ａ
４
＜１、０≦ｂ
１
＜１、０≦ｂ
２
＜１、０≦ｂ
３
＜１、０≦ｂ
４
＜１、０＜ａ
１
＋ａ
２
＋ａ
３
＜１、０＜ｂ
１
＋ｂ
２
＋ｂ
３
＜１、及びａ
１
＋ａ
２
＋ａ
３
＋ａ
４
＋ｂ
１
＋ｂ
２
＋ｂ
３
＋ｂ
４
＝１を満たす数である。Ｘ
１
は、下記式（Ｘ１）で表される２価の基である。Ｘ
２
は、下記式（Ｘ２）で表される２価の基である。Ｘ
３
は、下記式（Ｘ３）で表される２価の基である。Ｘ
４
は、下記式（Ｘ４）で表される２価の基である。
TIFF
2025079955000039.tif
34
166
（式中、Ｙ
１
は、単結合、メチレン基、プロパン－２，２－ジイル基、１，１，１，３，３，３－ヘキサフルオロプロパン－２，２－ジイル基又はフルオレン－９，９－ジイル基である。Ｒ
１１
及びＲ
１２
は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基である。Ｒ
１３
及びＲ
１４
は、それぞれ独立に、炭素数１～４の飽和ヒドロカルビル基又は炭素数１～４の飽和ヒドロカルビルオキシ基である。ｐ
１
及びｐ
２
は、それぞれ独立に、０～７の整数である。ｑ
１
及びｑ
２
は、それぞれ独立に、０～２の整数である。破線は、結合手である。）
TIFF
2025079955000040.tif
28
166
（式中、Ｙ
２
は、単結合、メチレン基、プロパン－２，２－ジイル基、１，１，１，３，３，３－ヘキサフルオロプロパン－２，２－ジイル基又はフルオレン－９，９－ジイル基である。Ｒ
２１
及びＲ
２２
は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基である。Ｒ
２３
及びＲ
【請求項４】
更に、（Ｄ）架橋剤を含むものであることを特徴とする請求項１に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項５】
前記（Ｄ）架橋剤が、１分子中に平均して２個以上のメチロール基及び／又はアルコキシメチル基を含む、メラミン化合物、グアナミン化合物、グリコールウリル化合物及びウレア化合物から選ばれる含窒素化合物、ホルムアルデヒド又はホルムアルデヒド－アルコールにより変性されたアミノ縮合物、１分子中に平均して２個以上のメチロール基又はアルコキシメチル基を有するフェノール化合物、並びに１分子中に平均して２個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物から選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする請求項４に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項６】
更に、（Ｅ）溶剤を含むものであることを特徴とする請求項１に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項７】
請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の感光性樹脂組成物から得られる感光性樹脂皮膜。
【請求項８】
支持フィルムと、該支持フィルム上に請求項７に記載の感光性樹脂皮膜とを備えるものであることを特徴とする感光性ドライフィルム。
【請求項９】
（ｉ）請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の感光性樹脂組成物を用いて基板上に感光性樹脂皮膜を形成する工程、
（ｉｉ）前記感光性樹脂皮膜を露光する工程、及び
（ｉｉｉ）前記露光した感光性樹脂皮膜を、現像液を用いて現像してパターンを形成する工程
を含むことを特徴とするパターン形成方法。
【請求項１０】
（ｉ’）請求項８に記載の感光性ドライフィルムを用いて基板上に感光性樹脂皮膜を形成する工程、
（ｉｉ）前記感光性樹脂皮膜を露光する工程、及び
（ｉｉｉ）前記露光した感光性樹脂皮膜を、現像液を用いて現像してパターンを形成する工程
を含むことを特徴とするパターン形成方法。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、感光性樹脂組成物、感光性樹脂皮膜、感光性ドライフィルム、及び、これらを用いるパターン形成方法に関する。
続きを表示（約 2,800 文字）【背景技術】
【０００２】
従来、感光性を有する半導体素子保護膜や多層プリント基板用絶縁膜として、感光性ポリイミド組成物、感光性エポキシ樹脂組成物、感光性シリコーン組成物等が利用されてきた。このような基板や回路の保護に適用される感光性材料として、これらの中でも特に可とう性に優れる感光性シリコーン組成物が提案されている（特許文献１）。この感光性シリコーン組成物は、低温で硬化可能であり、耐湿接着性等の信頼性に優れた皮膜を形成することができるが、Ｎ－メチル－２－ピロリドンのような溶解力の強いフォトレジスト剥離液等への耐薬品性に劣るという問題があった。
【０００３】
それに対し、シルフェニレン骨格含有シリコーン型ポリマーを主成分とした感光性シリコーン組成物が提案されている（特許文献２）。前記感光性シリコーン組成物は、フォトレジスト剥離液等への耐薬品性が向上するが、パターン形成による微細化のレベルや銅のマイグレーション耐性に関して更なる向上が望まれている。また、前記感光性シリコーン組成物を用いて銅上でパターン形成をした際に銅の腐食による変色が見られており、この点でも改善が望まれている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開２００２－８８１５８号公報
特開２００８－１８４５７１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、前記事情に鑑みなされたもので、銅の変色なく厚膜で微細なパターン形成を容易に行うことができ、かつ、銅マイグレーション耐性や、基材に対する密着性に優れ、電気・電子部品保護用皮膜や基板接着用皮膜等としての信頼性に優れる樹脂皮膜（樹脂層）を形成することができる感光性樹脂組成物、感光性樹脂皮膜、感光性ドライフィルム、及びこれらを用いるパターン形成方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するために、本発明では、
（Ａ）酸架橋性基を有するシリコーン樹脂、
（Ｂ）オキサゾリン化合物またはその誘導体、及び
（Ｃ）光酸発生剤
を含むものであることを特徴とする感光性樹脂組成物を提供する。
【０００７】
このような本発明の感光性樹脂組成物であれば、銅の変色なく厚膜で微細なパターン形成を容易に行うことができ、かつ、銅マイグレーション耐性や、基材に対する密着性に優れ、電気・電子部品保護用皮膜や基板接着用皮膜等としての信頼性に優れる樹脂皮膜（樹脂層）を形成することができる。
【０００８】
この場合、前記（Ａ）シリコーン樹脂が、下記式（Ａ１）で表されるものであることが好ましい。
TIFF
2025079955000001.tif
24
166
（式中、Ｒ
１
～Ｒ
４
は、それぞれ独立に、炭素数１～８のヒドロカルビル基である。ｋは、１～６００の整数である。ａ及びｂは、各繰り返し単位の組成比（モル比）を表し、０＜ａ＜１、０＜ｂ＜１及びａ＋ｂ＝１を満たす数である。Ｘは、エポキシ基及び／又はフェノール性ヒドロキシ基を含む２価の有機基である。）
【０００９】
このような（Ａ）成分であれば、良好な樹脂皮膜を形成することができる。また、得られた樹脂皮膜は、積層体、基板等への良好な密着性、良好なパターン形成能、耐クラック性及び耐熱性を有する。
【００１０】
更に、前記（Ａ）シリコーン樹脂が、下記式（ａ１）～（ａ４）及び（ｂ１）～（ｂ４）で表される繰り返し単位を含むものであることが好ましい。
TIFF
2025079955000002.tif
132
166
［式中、Ｒ
１
～Ｒ
４
は、それぞれ独立に、炭素数１～８のヒドロカルビル基である。ｋは、１～６００の整数である。ａ
１
～ａ
４
及びｂ
１
～ｂ
４
は、各繰り返し単位の組成比（モル比）を表し、０≦ａ
１
＜１、０≦ａ
２
＜１、０≦ａ
３
＜１、０≦ａ
４
＜１、０≦ｂ
１
＜１、０≦ｂ
２
＜１、０≦ｂ
３
＜１、０≦ｂ
４
＜１、０＜ａ
１
＋ａ
２
＋ａ
３
＜１、０＜ｂ
１
＋ｂ
２
＋ｂ
３
＜１、及びａ
１
＋ａ
２
＋ａ
３
＋ａ
４
＋ｂ
１
＋ｂ
２
＋ｂ
３
＋ｂ
４
＝１を満たす数である。Ｘ
１
は、下記式（Ｘ１）で表される２価の基である。Ｘ
２
は、下記式（Ｘ２）で表される２価の基である。Ｘ
３
は、下記式（Ｘ３）で表される２価の基である。Ｘ
４
は、下記式（Ｘ４）で表される２価の基である。
TIFF
2025079955000003.tif
34
166
（式中、Ｙ
１
は、単結合、メチレン基、プロパン－２，２－ジイル基、１，１，１，３，３，３－ヘキサフルオロプロパン－２，２－ジイル基又はフルオレン－９，９－ジイル基である。Ｒ
１１
及びＲ
１２
は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基である。Ｒ
１３
及びＲ
１４
は、それぞれ独立に、炭素数１～４の飽和ヒドロカルビル基又は炭素数１～４の飽和ヒドロカルビルオキシ基である。ｐ
１
及びｐ
２
は、それぞれ独立に、０～７の整数である。ｑ
１
及びｑ
２
は、それぞれ独立に、０～２の整数である。破線は、結合手である。）
TIFF
2025079955000004.tif
28
166
（式中、Ｙ
２
は、単結合、メチレン基、プロパン－２，２－ジイル基、１，１，１，３，３，３－ヘキサフルオロプロパン－２，２－ジイル基又はフルオレン－９，９－ジイル基である。Ｒ
２１
及びＲ
２２
は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基である。Ｒ
２３
及びＲ
（【００１１】以降は省略されています）

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