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公開番号
2025136095
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2025-09-19
出願番号
2024034298
出願日
2024-03-06
発明の名称
真空処理装置、および、ベッセル
出願人
日新電機株式会社
代理人
弁理士法人 HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK
主分類
H01L
21/677 20060101AFI20250911BHJP(基本的電気素子)
要約
【課題】真空搬送用容器の開閉の自動化を、動作の不具合の発生、機構の摩耗の発生を低減しつつ実現する。
【解決手段】真空処理装置(1)のロードロック室(10)は、基体(91)と蓋体(92)により区画される内部空間に被処理物を真空に保持した状態で収容し得るベッセル(90)を受け入れ、蓋体の少なくとも2か所の係合部(922)で係合し蓋体を引き上げることでベッセル固定部(12)に保持された基体から蓋体を離脱させる開閉機構部(13)を有している。
【選択図】図1
特許請求の範囲
【請求項1】
ロードロック室と、真空処理室と、を備えた真空処理装置であって、
前記ロードロック室は、
基体と蓋体とを有し、前記基体と前記蓋体により区画される内部空間に前記真空処理室で処理するための被処理物を真空に保持した状態で収容し得るベッセルを受け入れて、前記被処理物の取り出しおよび収容のために前記蓋体の前記基体に対する脱着を行うように構成されており、
前記基体を保持するベッセル固定部と、
前記蓋体に設けられた少なくとも2か所の係合部で前記蓋体に係合し、前記蓋体に係合した状態で前記蓋体を引き上げることで前記ベッセル固定部に保持された前記基体から前記蓋体を離脱させ、また、引き上げた前記蓋体を前記ベッセル固定部に保持された前記基体上に載置することで前記基体に前記蓋体を装着させる開閉機構部と、を有している真空処理装置。
続きを表示(約 1,200 文字)
【請求項2】
前記開閉機構部は、前記基体から前記蓋体を離脱させるときに、係合した前記係合部によって引き上げるタイミングを異ならせる、請求項1に記載の真空処理装置。
【請求項3】
前記ロードロック室の真空引きを行う真空ポンプ部と、
前記ロードロック室へのガス導入を行うガス導入部と、
各部を制御する制御部と、を更に備えた請求項1に記載の真空処理装置。
【請求項4】
前記制御部は、
前記ベッセルを前記ロードロック室から外部へ取り出し可能とするために、真空状態の前記ロードロック室に前記ガス導入を行う場合に、
前記基体上に載置された前記蓋体を、前記開閉機構部により前記基体に押し付けさせた状態で、真空状態の前記ロードロック室への前記ガス導入部による前記ガス導入を実行させる、請求項3に記載の真空処理装置。
【請求項5】
前記制御部は、
前記開閉機構部が前記蓋体を前記基体に押し付ける力が所定の範囲内であることを検知した後に、前記ガス導入部に前記ガス導入を開始させる、請求項4に記載の真空処理装置。
【請求項6】
前記制御部は、
前記基体および前記蓋体の位置が所定の範囲内であることを検知した後に、前記ガス導入部に前記ガス導入を開始させる、請求項5に記載の真空処理装置。
【請求項7】
前記ロードロック室の露点を検知する露点計を更に備えた請求項3に記載の真空処理装置。
【請求項8】
前記制御部は、
外部から前記ロードロック室に前記ベッセルを導入した場合に、
前記真空ポンプ部による前記ロードロック室の前記真空引きと、
前記ガス導入部による前記ロードロック室への前記ガス導入と、
前記露点計による露点の検知と、を、
前記露点計が検知した露点が所定の値以下になるまでこの順に繰り返し実行させ、
前記露点計が検知した露点が所定の値以下になった場合に、更に前記真空ポンプ部による前記ロードロック室の前記真空引きを実行させてから、
前記開閉機構部によって、前記基体から前記蓋体を離脱させる、請求項7に記載の真空処理装置。
【請求項9】
前記制御部は、
前記ロードロック室が外部に開放されている場合に、
前記露点計が検知した露点に基づいて、
前記ガス導入部による前記ロードロック室への前記ガス導入におけるガス流量を調整させる、請求項7に記載の真空処理装置。
【請求項10】
前記ベッセル固定部に保持された前記ベッセルの画像を取得する画像取得部を更に備え、
前記制御部は、
前記画像取得部が取得した前記画像に基づいて、前記開閉機構部が係合するための前記係合部の位置を検出する、請求項3に記載の真空処理装置。
(【請求項11】以降は省略されています)
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本開示は、真空処理装置、および、ベッセルに関する。
続きを表示(約 1,700 文字)
【背景技術】
【0002】
プラズマ処理装置等の、真空室内で被処理物に対する所要の処理を行う真空処理装置が知られている。また、被処理物を真空に保った状態で収容し、真空処理装置本体に搬出入し得る真空搬送用容器を、真空処理装置に適用することも提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
特開2005-170665号公報
特開2007-281106号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
このような技術においては、被処理物の出し入れのために、真空搬送用容器を真空処理装置本体内で開閉する必要がある。真空処理装置の処理効率を高く保つため、このような真空搬送用容器の開閉の自動化を、動作の不具合の発生、機構の摩耗の発生を低減しつつ実現する技術が求められる。
【課題を解決するための手段】
【0005】
上記の課題を解決するために、本開示の一側面は、ロードロック室と、真空処理室と、を備えた真空処理装置であって、前記ロードロック室は、基体と蓋体とを有し、前記基体と前記蓋体により区画される内部空間に前記真空処理室で処理するための被処理物を真空に保持した状態で収容し得るベッセルを受け入れて、前記被処理物の取り出しおよび収容のために前記蓋体の前記基体に対する脱着を行うように構成されており、前記基体を保持するベッセル固定部と、前記蓋体に設けられた少なくとも2か所の係合部で前記蓋体に係合し、前記蓋体に係合した状態で前記蓋体を引き上げることで前記ベッセル固定部に保持された前記基体から前記蓋体を離脱させ、また、引き上げた前記蓋体を前記ベッセル固定部に保持された前記基体上に載置することで前記基体に前記蓋体を装着させる開閉機構部と、を有している。
【0006】
上記の課題を解決するために、本開示の別の一側面は、上記一側面の真空処理装置に適用される前記ベッセルであって、前記蓋体の平面形状は略正方形または略長方形であり、前記開閉機構部が係合するための前記係合部の少なくとも一部が、当該平面形状のひとつの対角線に沿って2か所に設けられている。
【発明の効果】
【0007】
本開示の一態様によれば、真空搬送用容器の開閉の自動化を、動作の不具合の発生、機構の摩耗の発生を低減しつつ実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【0008】
本開示の実施形態1に係る真空処理装置の概要を示す図である。
上記真空処理装置の機能構成を示すブロック図である。
本開示の実施形態1に係るベッセルの概要を示すための、正面方向から視た断面を表した図である。
上記ベッセルの基体を示す平面図である。
上記ベッセルの蓋体を示す平面図である。
上記真空処理装置のロードロック室の概要を示す図である。開閉機構部の昇降ロッドが上昇している状態を示す。
上記真空処理装置のロードロック室からベッセルを外部に取り出す場合の、ロードロック室へのガス導入の手順を説明するためのフローチャートである。
本開示の実施形態2に係る真空処理装置の概要を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【0009】
〔実施形態1〕
以下、本発明の一実施形態について詳細に説明する。ただし、以下の説明は、本発明に係る真空処理装置1の一例を説明するものであり、本発明の技術的範囲は、以下の説明および図の内容に限定されるものではない。なお以下では、鉛直線上向きをZ軸の正の向き、X軸およびY軸が水平面内にあるものとして、方向および向きを表す。
【0010】
<真空処理装置1の構成概要>
図1は、本開示の実施形態1に係る真空処理装置1の要部構成を説明する図である。図2は、真空処理装置1の機能構成を示すブロック図である。なお図2に示される露点計15は、図1に不図示である通り、実施形態1に係る真空処理装置1には備えられていなくてもよい。
(【0011】以降は省略されています)
この特許をJ-PlatPat(特許庁公式サイト)で参照する
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