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公開番号2025143803
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-10-02
出願番号2024043242
出願日2024-03-19
発明の名称電気光学装置および電子機器
出願人セイコーエプソン株式会社
代理人個人,個人,個人
主分類G02F 1/1345 20060101AFI20250925BHJP(光学)
要約【課題】電源が遮断されても、不純物が表示領域に戻ることを抑える。
【解決手段】電気光学装置の素子基板12は、平面視で、表示領域A1とシール材との間の非表示領域A3に設けられた基部137と、基部137に設けられた中部134および上部133eと、素子基板12において、平面視で、基部137を避けて設けられ、中部134および上部133eとは非接触のシールド電極133fと、を含む。中部134および上部133eの一部は、断面視で、基部137からせり出したオーバーハング構造である。
【選択図】図7
特許請求の範囲【請求項１】
互いに対向配置され、シール材を介して貼り合わされた第１基板および第２基板と、
前記第１基板と前記第２基板との間で挟持された液晶層と、
前記第１基板の表示領域において、前記第１基板の前記第２基板側に設けられた画素電極と、
前記第２基板の前記第１基板側において、前記画素電極に対向して設けられた対向電極と、
前記第１基板の前記第２基板側において、平面視で、前記表示領域と前記シール材との間の非表示領域のうちの一部に設けられた基部と、
前記基部の前記第２基板側に設けられた第１電極と、
前記第１基板の前記第２基板側において、平面視で、前記非表示領域のうち、前記基部と重ならない位置に設けられ、前記第１電極と電気的に絶縁され、第１電位が印加された第２電極と、
を含み、
前記第１電極の一部は、断面視で、前記基部からせり出し、
前記第１基板の法線方向において、前記基部からせり出した前記第１電極の前記第１基板側の面は、前記第２電極の前記第２基板側の面よりも前記第２基板側に位置する
電気光学装置。
続きを表示（約 460 文字）【請求項２】
前記第１電極は、電気的にフローティング状態である
請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項３】
前記第１電極は、前記第１電位とは異なる電位が印加された
請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項４】
前記第１電極および前記第２電極は、同じ材料から構成される
請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項５】
前記第１電極および前記第２電極は、透明性を有する
請求項４に記載の電気光学装置。
【請求項６】
平面視で、前記表示領域と前記第２電極が設けられた領域との間の領域に設けられ、前記画素電極と同じ形状のダミー画素電極を有する
請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項７】
前記基部は、絶縁性を有し、
前記第２電極は、平面視で前記基部を囲む
請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれかに記載の電気光学装置を有する電子機器。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、電気光学装置および電子機器に関する。
続きを表示（約 2,400 文字）【背景技術】
【０００２】
画像を表示する液晶表示装置のような電気光学装置では、液晶層が光の入射によって光化学反応を起こし、反応生成物として劣化物が発生することが知られている。また、液晶層を封止するシール材から液晶層にイオンが染み出すことも知られている。
大画面を表示する投射型表示装置に適用される電気光学装置では、入射光の光束密度が直視型と比較して高い一方で、電気光学装置の画素サイズが相対的に小さいので、劣化物やイオンなどのような電荷を帯びた不純物が表示に悪影響を及ぼしやすい。
このため、非表示領域に設けられた電極に位相の異なる交流信号を印加することで、不純物を表示領域から非表示領域に移動させる技術が提案されている（例えば特許公報１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２０１７－７８７９２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上記技術では、電気光学装置の電源が遮断されると、非表示領域に移動した不純物が表示領域に戻って、表示品位を低下させる、という課題がある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記課題を解決するために、本開示の一態様に係る電気光学装置は、互いに対向配置され、シール材を介して貼り合わされた第１基板および第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間で挟持された液晶層と、前記第１基板の表示領域において、前記第１基板の前記第２基板側に設けられた画素電極と、前記第２基板の前記第１基板側において、前記画素電極に対向して設けられた対向電極と、前記第１基板の前記第２基板側において、平面視で、前記表示領域と前記シール材との間の非表示領域のうちの一部に設けられた基部と、前記基部の前記第２基板側に設けられた第１電極と、前記第１基板の前記第２基板側において、平面視で、前記非表示領域のうち、前記基部と重ならない位置に設けられ、前記第１電極と電気的に絶縁され、第１電位が印加された第２電極と、を含み、前記第１電極の一部は、断面視で、前記基部からせり出し、前記第１基板の法線方向において、前記基部からせり出した前記第１電極の前記第１基板側の面は、前記第２電極の前記第２基板側の面よりも前記第２基板側に位置する。
【図面の簡単な説明】
【０００６】
第１実施形態に係る液晶表示装置の構成を示す平面図である。
液晶表示装置を図１におけるＢ－ｂ線で破断した断面図である。
液晶表示装置における画素回路の等価回路を示す図である。
液晶表示装置におけるデータ信号等における電位を示す図である。
液晶表示装置における素子基板の要部構成を示す平面図である。
液晶表示装置における素子基板の要部構成を示す平面図である。
液晶表示装置における素子基板の要部構成を図５におけるＣ－ｃ線で破断して示す部分断面図である。
液晶表示装置の製造プロセスを簡易的に示す図である。
液晶表示装置の製造プロセスを簡易的に示す図である。
液晶表示装置におけるイオン性不純物の捕捉を示す図である。
第２実施形態に係る液晶表示装置における素子基板の要部構成を示す部分断面図である。
液晶表示装置におけるイオン性不純物の捕捉を示す図である。
液晶表示装置を適用した投射型表示装置を示す図である。
比較例に係る液晶表示装置におけるイオン性不純物の捕捉を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【０００７】
以下、実施形態に係る電気光学装置について液晶表示装置を例にとって説明する。なお、以下の各図において、各部の寸法および縮尺は、実際のものと適宜に異ならせてある。また、以下に述べる実施の形態は、好適な具体例であるから、技術的に好ましい種々の限定が付されているが、本開示の範囲は、以下の説明において特に本開示を限定する旨の記載がない限り、これらの形態に限られるものではない。
【０００８】
図１は、第１実施形態に係る液晶表示装置１０の構成を示す平面図であり、図２は、液晶表示装置１０を図１におけるＢ－ｂ線で破断した断面図である。図２に示されるように、液晶表示装置１０は、素子基板１２と対向基板１５とがシール材１６によってほぼ一定のセル厚を保ちつつ、貼り合わせられている。素子基板１２および対向基板１５としては、それぞれガラスや石英などの光透過性および絶縁性を有する基材が用いられる。
【０００９】
素子基板１２において対向基板１５との対向面には複数の画素電極１２０が設けられる。複数の画素電極１２０は、平面視において図１に示されるようにＸ方向およびＹ方向に沿ってマトリクス状に配列する。平面視において複数の画素電極１２０が配列する領域が表示領域Ａ１である。
なお、Ｘ方向とは、矩形形状の表示領域Ａ１のうちの長手方向をいい、後述する走査線の延在方向である。Ｙ方向とは、矩形形状の表示領域Ａ１のうちの短手方向をいい、後述するデータ線の延在方向である。また、平面視とは、素子基板１２および対向基板１５における一方の基板から、他方の基板を眺めることをいい、具体的に、素子基板１２の平面視とは、対向基板１５から眺めることをいう。
対向基板１５において素子基板１２との対向面には、対向電極１５０が設けられる。
【００１０】
液晶層１４０は、素子基板１２および対向基板１５で液晶が挟持された層である。液晶層１４０には、例えばＶＡ（Vertical Alignment）方式のように、液晶分子の長軸方向が電圧無印加状態において基板面の垂直方向に配向する液晶が充填される。
（【００１１】以降は省略されています）

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