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公開番号2025156258
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-10-14
出願番号2025056806
出願日2025-03-28
発明の名称感光性樹脂積層体、及びその製造方法
出願人旭化成株式会社
代理人個人,個人,個人,個人,個人,個人
主分類G03F 7/029 20060101AFI20251002BHJP(写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ)
要約【課題】画像性の良好なレジストパターンを実現できる上、露光後に得られる線幅のばらつきを抑制でき、保存後の品質をも確保可能な感光性樹脂積層体を提供。
【解決手段】仮支持層と感光性樹脂組成物を含む感光性樹脂層とを含む感光性樹脂積層体であって、
感光性樹脂組成物は:
(A)アルカリ可溶性高分子
(B)エチレン性不飽和二重結合を有する化合物
(C)光重合開始剤
(D)アントラセン化合物及び
(E)波長550～700nmの範囲内に吸収極大を有する色素を含み、
(C)成分の含有量は感光性樹脂層の固形分に対して5.6質量%以上、感光性樹脂層は膜厚25μmにおける402nmの透過率が30～70%かつ感光性樹脂層単位膜厚当たりの399と405nmの透過率差絶対値が0.7以下で、感光性樹脂積層体を50℃、湿度45～55%で72時間保存するとき、(E)成分吸収極大波長の保存前後の透過率差が10未満である感光性樹脂積層体。
【選択図】なし
特許請求の範囲【請求項１】
仮支持層と、感光性樹脂組成物を含む感光性樹脂層と、を含む、感光性樹脂積層体であって、
前記感光性樹脂組成物は、下記成分：
（Ａ）アルカリ可溶性高分子、
（Ｂ）エチレン性不飽和二重結合を有する化合物、
（Ｃ）光重合開始剤、
（Ｄ）アントラセン化合物、及び
（Ｅ）波長５５０～７００ｎｍの範囲内に吸収極大を有する色素、
を含み、
前記（Ｃ）成分の含有量は、前記感光性樹脂層の固形分に対して５．６質量％以上であり、
前記感光性樹脂層は、膜厚２５μｍにおける４０２ｎｍの透過率が３０～７０％であり、かつ、前記感光性樹脂層の膜厚ｔ（μｍ）と、前記感光性樹脂層における、３９９ｎｍの透過率Ｔ
３９９
（％）、及び４０５ｎｍの透過率Ｔ
４０５
（％）と、が下記式（１）：
｜（Ｔ
４０５
－Ｔ
３９９
）／ｔ｜≦０．７・・・（１）
を満たし、
前記感光性樹脂積層体を、５０℃、及び湿度４５～５５％の条件下で７２時間保存するとき、前記（Ｅ）成分の吸収極大波長における、前記保存前の透過率Ｔ１（％）、及び前記保存後の透過率Ｔ２（％）と、が下記式（２）：
Ｔ２－Ｔ１＜１０・・・（２）
を満たす、感光性樹脂積層体。
続きを表示（約 820 文字）【請求項２】
前記感光性樹脂積層体において、前記（Ｅ）成分の吸収極大波長における透過率Ｔ１（％）が３０～８０％である、請求項１に記載の感光性樹脂積層体。
【請求項３】
前記(Ａ)成分と、前記(Ｂ)成分と、の合計含有量が、前記感光性樹脂組成物の固形分に対して、８０質量％以上である、請求項１に記載の感光性樹脂積層体。
【請求項４】
前記(Ａ)成分と、前記(Ｂ)成分と、の含有量の比｛(Ａ)成分／(Ｂ)成分｝が、１．００～１．３０である、請求項１に記載の感光性樹脂積層体。
【請求項５】
前記感光性樹脂組成物は、下記成分：
（Ｆ）１分子中に２つ以上のフェノール性水酸基を有する化合物、
を更に含む、請求項１に記載の感光性樹脂積層体。
【請求項６】
前記（Ｃ）成分は、ビイミダゾール系化合物を含む、請求項１に記載の感光性樹脂積層体。
【請求項７】
前記（Ｅ）成分として、互いに異なる複数の化合物を含む、請求項１に記載の感光性樹脂積層体。
【請求項８】
前記（Ｅ）として、ダイアモンドグリーン、及びビクトリアピュアブルーを少なくとも含み、
両者の質量比（前記ダイアモンドグリーン／前記ビクトリアピュアブルー）が、１．０～２０．０である、請求項１に記載の感光性樹脂積層体。
【請求項９】
前記（Ｄ）成分は、９，１０－ジブトキシアントラセン、９，１０－ジフェニルアントラセン、及び１０－フェニル－９－アントラセンボロン酸から成る群から選択される少なくとも１つを含む、請求項１に記載の感光性樹脂積層体。
【請求項１０】
前記ビイミダゾール系化合物の含有量は、前記感光性樹脂層の固形分に対して５．６質量％以上である、請求項６に記載の感光性樹脂積層体。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示は、感光性樹脂積層体、及びその製造方法等に関する。
続きを表示（約 3,300 文字）【背景技術】
【０００２】
電子機器における微細配線（導体パターン）は、例えば、フォトリソグラフィープロセスを用いて製造される。フォトリソグラフィープロセスは、例えば、以下の工程：
感光性樹脂積層体における感光性樹脂層を基板に積層し、そして露光、及び現像を経ることで、レジストパターンを形成する工程、
上記レジストパターンを形成した基板に対して、エッチング又はめっき処理を行うことにより、導体パターンを形成する工程、及び、
基板上のレジストパターンを除去する工程、
を有する。
【０００３】
ここで、感光性樹脂層は感光性樹脂組成物を含む。感光性樹脂組成物としては、例えば、アルカリ可溶性高分子、エチレン性不飽和結合を有する化合物、及び光重合開始剤を含むものが知られている（例えば、特許文献１、及び２参照）。感光性樹脂層としては、ネガ型のもの、及びポジ型のものが知られており、このうちネガ型の場合、感光性樹脂層の未露光部を現像により除去することで露光部によってレジストパターンが形成される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
国際公開第２０２２／２０２４８５号
特開２０２３－１０３９８８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
電子機器の小型化、及び高密度化が近年進んでいるため、レジストパターンには、良好な解像性を実現できること、かつ、基板との良好な密着性を実現できること、が求められており、更には、良好な抜け性を実現できること（言い換えれば、未露光部のレジストを好適に除去できること）、等も求められている。従って、これらの特性の向上を図る点で、従来技術には改善の余地があった。
加えて、露光後に得られる線幅（パターン幅）のばらつきを抑制する点でも、従来技術には改善の余地があった。
【０００６】
また、感光性樹脂積層体は、所定期間の保管（輸送を含む）を経て使用される実情があるため、感光性樹脂積層体に含まれる感光性樹脂層の経時的な安定性をいかにして確保するかの課題について、解決が待たれていた。
【０００７】
本発明の目的は、レジストパターンに近年特に要求される特性を満足する該レジストパターンを実現できる上、露光後に得られる線幅のばらつきを抑制でき、更に、保存後の品質をも確保可能な、感光性樹脂積層体を提供することにある。
また、本発明の目的は、かかる感光性樹脂積層体を製造するための製造方法、並びにかかる感光性樹脂積層体を用いた、レジストパターンの形成方法、及び導体パターンの作製方法、を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の一態様は、以下のとおりである。
［１］
仮支持層と、感光性樹脂組成物を含む感光性樹脂層と、を含む、感光性樹脂積層体であって、
前記感光性樹脂組成物は、下記成分：
（Ａ）アルカリ可溶性高分子、
（Ｂ）エチレン性不飽和二重結合を有する化合物、
（Ｃ）光重合開始剤、
（Ｄ）アントラセン化合物、及び
（Ｅ）波長５５０～７００ｎｍの範囲内に吸収極大を有する色素、
を含み、
前記（Ｃ）成分の含有量は、前記感光性樹脂層の固形分に対して５．６質量％以上であり、
前記感光性樹脂層は、膜厚２５μｍにおける４０２ｎｍの透過率が３０～７０％であり、かつ、前記感光性樹脂層の膜厚ｔ（μｍ）と、前記感光性樹脂層における、３９９ｎｍの透過率Ｔ
３９９
（％）、及び４０５ｎｍの透過率Ｔ
４０５
（％）と、が下記式（１）：
｜（Ｔ
４０５
－Ｔ
３９９
）／ｔ｜≦０．７・・・（１）
を満たし、
前記感光性樹脂積層体を、５０℃、及び湿度４５～５５％の条件下で７２時間保存するとき、前記（Ｅ）成分の吸収極大波長における、前記保存前の透過率Ｔ１（％）、及び前記保存後の透過率Ｔ２（％）と、が下記式（２）：
Ｔ２－Ｔ１＜１０・・・（２）
を満たす、感光性樹脂積層体。
［２］
前記感光性樹脂積層体において、前記（Ｅ）成分の吸収極大波長における透過率Ｔ１（％）が３０～８０％である、項目１に記載の感光性樹脂積層体。
［３］
前記(Ａ)成分と、前記(Ｂ)成分と、の合計含有量が、前記感光性樹脂組成物の固形分に対して、８０質量％以上である、項目１又は２に記載の感光性樹脂積層体。
［４］
前記(Ａ)成分と、前記(Ｂ)成分と、の含有量の比｛(Ａ)成分／(Ｂ)成分｝が、１．００～１．３０である、項目１～３のいずれか１項に記載の感光性樹脂積層体。
［５］
前記感光性樹脂組成物は、下記成分：
（Ｆ）１分子中に２つ以上のフェノール性水酸基を有する化合物、
を更に含む、項目１～４のいずれか１項に記載の感光性樹脂積層体。
［６］
前記（Ｃ）成分は、ビイミダゾール系化合物を含む、項目１～５のいずれか１項に記載の感光性樹脂積層体。
［７］
前記（Ｅ）成分として、互いに異なる複数の化合物を含む、項目１～６のいずれか１項に記載の感光性樹脂積層体。
［８］
前記（Ｅ）として、ダイアモンドグリーン、及びビクトリアピュアブルーを少なくとも含み、
両者の質量比（前記ダイアモンドグリーン／前記ビクトリアピュアブルー）が、１．０～２０．０である、項目１～７のいずれか１項に記載の感光性樹脂積層体。
［９］
前記（Ｄ）成分は、９，１０－ジブトキシアントラセン、９，１０－ジフェニルアントラセン、及び１０－フェニル－９－アントラセンボロン酸から成る群から選択される少なくとも１つを含む、項目１～８のいずれか１項に記載の感光性樹脂積層体。
［１０］
前記ビイミダゾール系化合物の含有量は、前記感光性樹脂層の固形分に対して５．６質量％以上である、項目１～９のいずれか１項に記載の感光性樹脂積層体。
［１１］
前記ビイミダゾール系化合物の含有量は、前記感光性樹脂層の固形分に対して６．０質量％以上である、項目１～１０のいずれか１項に記載の感光性樹脂積層体。
［１２］
前記（Ｃ）成分は、ビイミダゾール系化合物、及びピラゾリン系化合物を含む、項目１～１１のいずれか１項に記載の感光性樹脂積層体。
［１３］
感光性樹脂積層体の製造方法であって、
下記成分：
（Ａ）アルカリ可溶性高分子、
【発明の効果】
【０００９】
レジストパターンに近年特に要求される特性である、解像性、密着性、及び抜け性を総合して「画像性」として取り扱うことに着目すると、本発明によれば、画像性の良好なレジストパターンを実現できる上、露光後に得られる線幅のばらつきを抑制でき、更に、保存後の品質をも確保可能な、感光性樹脂積層体を提供することができる。
また、本発明によれば、かかる感光性樹脂積層体を製造するための製造方法、並びにかかる感光性樹脂積層体を用いた、レジストパターンの形成方法、及び導体パターンの作製方法、を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
本実施例に関連する、描画パターンの構成を示す平面図。
本実施例に関連する、描画パターンの構成を示す平面図。
本実施例に関連する、描画パターンの構成を示す平面図。
【発明を実施するための形態】
（【００１１】以降は省略されています）

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