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公開番号2025110313
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-07-28
出願番号2024004185
出願日2024-01-15
発明の名称硬化性組成物、硬化物、積層体
出願人三菱ケミカル株式会社
代理人個人,個人,個人
主分類C08F 2/46 20060101AFI20250718BHJP(有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物)
要約【課題】硬化物の表面に微細な凹凸構造を形成し、艶消し性を発現させるとともに、活性
エネルギー線の照射量を低くしても硬化ができる硬化性組成物、前記硬化性組成物の硬化
物、および前記硬化物からなる層を有する積層体を提供する。
【解決手段】活性エネルギー線の照射によりラジカルを発生する活性基を有する重合体、
非重合体の光重合開始剤、および(メタ)アクリレートを含有する硬化性組成物。
【選択図】なし
特許請求の範囲【請求項１】
活性エネルギー線の照射によりラジカルを発生する活性基を有する重合体、非重合体の
光重合開始剤、および（メタ）アクリレートを含有する硬化性組成物。
続きを表示（約 860 文字）【請求項２】
前記活性エネルギー線の照射によりラジカルを発生する活性基が、α－ヒドロキシケト
ン基、ベンゾフェノン基、アセトフェノン基、ベンゾイン基、α－アミノケトン基、α－
ジケトン基、α－ジケトンジアルキルアセタール基、アントラキノン基、チオキサントン
基、及びホスフィンオキシド基からなる群から選ばれる１種以上である請求項１に記載の
硬化性組成物。
【請求項３】
前記活性エネルギー線の照射によりラジカルを発生する活性基を有する重合体が、パー
フルオロアルキレン基、または炭素数４以上のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸ア
ルキルエステル由来の構成単位を含む請求項１に記載の硬化性組成物。
【請求項４】
前記活性エネルギー線の照射によりラジカルを発生する活性基を有する重合体の重量平
均分子量が１，０００～５００，０００である請求項３に記載の硬化性組成物。
【請求項５】
前記非重合体の光重合開始剤の分子量が１，０００未満である請求項１に記載の硬化性
組成物。
【請求項６】
前記非重合体の光重合開始剤がアルキルフェノン型またはベンジルケタール型である請
求項１に記載の硬化性組成物。
【請求項７】
前記（メタ）アクリレートが３官能以上である請求項１に記載の硬化性組成物。
【請求項８】
前記（メタ）アクリレートがウレタンアクリレート、ハイパーブランチ体の（メタ）ア
クリレート、またはグリセリン含有（メタ）アクリレートのいずれか１種以上を含有する
請求項７に記載の硬化性組成物。
【請求項９】
請求項１または５に記載の硬化性組成物を硬化してなる硬化物。
【請求項１０】
前記硬化物が、表面に凹凸構造を有する膜状物である請求項９に記載の硬化物。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、硬化性組成物、前記硬化性組成物の硬化物、および前記硬化物からなる層を
有する積層体に関する。
続きを表示（約 2,400 文字）【背景技術】
【０００２】
基材の表面に微細な凹凸構造を形成することにより、艶消し性を付与し、意匠性や視認
性を向上させる方法として、例えば、微粒子を分散させた硬化性組成物を基材に塗布して
硬化する方法、基材に金属の薄膜を蒸着させる方法、硬化性組成物を基材に塗布して硬化
させてなる硬化物の表面に微細なしわを発現させる方法が知られている。
【０００３】
例えば特許文献１には、硬化性組成物を基材に塗布し、活性エネルギー線を照射して硬
化させた硬化物の表面に微細な凹凸構造を形成し、艶消し性を発現させる技術が記載され
ている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開２０１９－１３１７１７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、特許文献１の方法の場合、組成によっては硬化のための活性エネルギー線照射
量を高くする必要があり、この場合、例えば十分な凹凸構造が形成されず光学特性が劣る
可能性や、加工速度を上げた場合に硬化不足を起こす可能性がある。
【０００６】
本発明は、上記課題を改善するためになされたもので、硬化物の表面に微細な凹凸構造
を形成し、艶消し性を発現させるとともに、活性エネルギー線の照射量を低くしても硬化
ができ、加工速度を上げることも可能な硬化性組成物を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、以下の態様を有する。
［１］活性エネルギー線の照射によりラジカルを発生する活性基を有する重合体、非重
合体の光重合開始剤、および（メタ）アクリレートを含有する硬化性組成物。
［２］前記活性エネルギー線の照射によりラジカルを発生する活性基が、α－ヒドロキ
シケトン基、ベンゾフェノン基、アセトフェノン基、ベンゾイン基、α－アミノケトン基
、α－ジケトン基、α－ジケトンジアルキルアセタール基、アントラキノン基、チオキサ
ントン基、及びホスフィンオキシド基からなる群から選ばれる１種以上である、前記［１
］の硬化性組成物。
［３］前記活性エネルギー線の照射によりラジカルを発生する活性基を有する重合体が
、パーフルオロアルキレン基、または炭素数４以上のアルキル基を有する（メタ）アクリ
ル酸アルキルエステル由来の構成単位を含む、前記［１］または［２］の硬化性組成物。
［４］前記活性エネルギー線の照射によりラジカルを発生する活性基を有する重合体の
重量平均分子量が１０００～５０００００である、前記［１］～［３］の硬化性組成物。
［５］前記非重合体の光重合開始剤の分子量が１０００未満である、前記［１］～［４
］の硬化性組成物。
［６］前記非重合体の光重合開始剤がアルキルフェノン型またはベンジルケタール型で
ある、前記［１］～［５］の硬化性組成物。
［７］前記（メタ）アクリレートが３官能以上である、前記［１］～［６］の硬化性組
成物。
［８］前記（メタ）アクリレートがウレタンアクリレート、ハイパーブランチ体の（メ
タ）アクリレート、またはグリセリン含有（メタ）アクリレートのいずれか１種以上を含
有する、前記［１］～［７］の硬化性組成物。
［９］前記［１］～［８］の硬化性組成物を硬化してなる硬化物。
［１０］前記硬化物が、表面に凹凸構造を有する膜状物である前記［９］の硬化物。
［１１］前記硬化物のヘイズが３％以上である前記［９］または［１０］の硬化物。
［１２］前記硬化物の２０°グロスが８０以下である前記［９］～［１１］の記載の硬化
物。
［１３］前記硬化物の算術平均粗さ（Ｒａ）が０．０１μｍ以上である前記［９］～［１
２］の硬化物。
［１４］活性エネルギー線の照射によりラジカルを発生する活性基を有する重合体、非重
合体の光重合開始剤、および（メタ）アクリレートを含有する硬化性組成物の塗膜を形成
し、前記塗膜に活性エネルギー線を照射する、硬化物の製造方法。
［１５］基材表面に前記［９］～［１３］の硬化物が積層してなる積層体。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、低い活性エネルギー線の照射量でも硬化する硬化性組成物、当該硬化
性組成物を硬化してなり艶消し性を有する硬化物、及び基材の表面に当該硬化物が積層し
てなる積層体を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、本発明の実施の形態について詳細に説明する。
本発明において、「（メタ）アクリレート」は、アクリレート又はメタクリレートの総
称である。
数値範囲を示す「～」は、その前後に記載された数値を下限値及び上限値として含むこ
とを意味する。本明細書に開示の数値範囲は、その下限値および上限値を任意に組み合わ
せて新たな数値範囲とすることができる。
【００１０】
＜硬化性組成物＞
本発明の硬化性組成物は、活性エネルギー線の照射によりラジカルを発生する活性基を
有する重合体、非重合体の光重合開始剤、および（メタ）アクリレートを含有するもので
ある。
（【００１１】以降は省略されています）

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