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公開番号2025114352
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-08-05
出願番号2024008999
出願日2024-01-24
発明の名称表面処理装置、表面処理方法、間接加熱蒸着装置、及び間接加熱蒸着方法
出願人日本電子株式会社
代理人弁理士法人信友国際特許事務所
主分類C23C 14/58 20060101AFI20250729BHJP(金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般)
要約【課題】ポストアニール処理の改善を図ることができる表面処理装置、表面処理方法、間接加熱蒸着装置、及び間接加熱蒸着方法を提供する。
【解決手段】表面処理装置は、電子ビーム発生源8と、検出部40と、制御部31とを備える。電子ビーム発生源8は、基板101(モニタ用基板101)上に蒸発粒子が堆積して形成された蒸着膜に電子ビーム19を照射する。検出部40は、蒸着膜の表面の状態を検出する。制御部31は、検出部40の検出結果に応じて、電子ビーム発生源8による電子ビーム19の放出を停止させる。
【選択図】図5
特許請求の範囲【請求項１】
被蒸着物上に蒸発粒子が堆積して形成された蒸着膜に電子ビームを照射する電子ビーム発生源と、
前記蒸着膜の表面の状態を検出する検出部と、
前記検出部の検出結果に応じて、前記電子ビーム発生源による電子ビームの放出を停止させる制御部と、を備える
表面処理装置。
続きを表示（約 1,300 文字）【請求項２】
前記検出部は、前記蒸着膜に光を照射する光源と、
前記蒸着膜によって反射された反射光を受ける受光部と、
前記受光部が受けた反射光の光量を計測する光量計測部と、を有する
請求項１に記載の表面処理装置。
【請求項３】
前記被蒸着物は、製品用被蒸着物と、モニタ用被蒸着物からなり、
前記蒸着膜は、前記製品用被蒸着物と前記モニタ用被蒸着物に形成されており、
前記光源は、前記モニタ用被蒸着物に形成された蒸着膜に光を照射する
請求項２に記載の表面処理装置。
【請求項４】
電子ビーム発生源が、被蒸着物上に蒸発粒子が堆積して形成された蒸着膜に電子ビームを照射し、
検出部が、前記蒸着膜の表面の状態を検出し、
制御部が、前記検出部の検出結果に応じて、前記電子ビーム発生源による電子ビームの放出を停止させる
表面処理方法。
【請求項５】
蒸着材料が充填される容器と、
前記容器の底部を露出させて保持する容器保持部と、
前記容器の底部に電子ビームを放出する電子ビーム発生源と、
前記容器保持部を移動させる移動機構と、
前記蒸着材料の蒸発粒子が堆積されて蒸着膜が形成される被蒸着物を保持する被蒸着物保持部と、を備え、
前記容器保持部は、電子ビーム通過用開口部を有し、
前記移動機構は、前記電子ビーム発生源の上方に前記容器が位置する第１位置と、前記電子ビーム発生源の上方に前記電子ビーム通過用開口部が位置する第２位置に、前記容器保持部を移動させる
間接加熱蒸着装置。
【請求項６】
前記電子ビーム通過用開口部は、通過する電子ビームが前記被蒸着物保持部に保持された前記被蒸着物の蒸着膜に照射可能な大きさに設定されている
請求項５に記載の間接加熱蒸着装置。
【請求項７】
前記容器及び前記被蒸着物の蒸着膜の一部又は全面に、前記電子ビーム発生源から放出される電子ビームを走査する走査コイルを備える
請求項５に記載の間接加熱蒸着装置。
【請求項８】
電子ビーム発生源が、蒸着材料が充填された容器に電子ビームを放出し、被蒸着物に前記蒸着材料の蒸発粒子を堆積して蒸着膜を形成する蒸着工程と、
移動機構が、前記容器を保持する容器保持部を移動させて、前記容器保持部の電子ビーム通過用開口部を、前記電子ビーム発生源の上方に配置する移動工程と、
前記電子ビーム発生源が、前記電子ビーム通過用開口部を通過する電子ビームを放出し、前記被蒸着物の蒸着膜に照射する電子ビーム照射工程と、を有する
間接加熱蒸着方法。
【請求項９】
前記電子ビーム照射工程において、
検出部が、前記蒸着膜の表面の状態を検出し、
制御部が、前記検出部の検出結果に応じて、前記電子ビーム発生源による電子ビームの放出を停止させる
請求項８に記載の間接加熱蒸着方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、表面処理装置、表面処理方法、間接加熱蒸着装置、及び間接加熱蒸着方法に関する。
続きを表示（約 1,500 文字）【背景技術】
【０００２】
真空蒸着には、抵抗加熱式、電子ビーム加熱式、間接加熱式などがある。抵抗加熱式は、電気抵抗を利用して、蒸着材料を加熱し、蒸発させる。電子ビーム加熱式は、蒸着材料に電子ビームを直接照射して、蒸着材料を加熱し、蒸発させる。間接加熱式は、蒸着材料を充填した容器を電子ビーム衝撃（ボンバード）により加熱して、蒸着材料を加熱し、蒸発させる。
【０００３】
間接加熱式は、電子ビーム加熱式と比較して、被蒸着物（例えば、基板）への反射電子やＸ線によるダメージの低減、及びスプラッシュの低減に効果がある。また、間接加熱式は、抵抗加熱式と比較して、蒸着レートの安定性が高いため、高品質の金属や金属化合物、有機物蒸着に使用される。
【０００４】
間接加熱式を採用した間接加熱蒸着源は、例えば、特許文献１に記載されている。特許文献１に記載された間接加熱蒸着源は、容器と、電子源と、容器保持部と、移動機構と、冷却台とを備える。電子源は、容器の底部に熱電子を放出する。容器保持部は、容器の底部を露出させて保持する。移動機構は、容器保持部を駆動させて、容器を水平方向に移動させる。冷却台は、移動機構により電子源の上方から水平方向に移動した容器の底部が接触する上面を有し、容器を冷却する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
特開２０１８－１６８３６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、特許文献１に記載されたような間接加熱蒸着源を用いて、蒸発粒子が堆積した被蒸着物は、例えば、結晶性を向上させるために、ポストアニール処理（熱処理）が行われる。このポストアニール処理には、さらなる改善が求められている。
【０００７】
本発明の目的は、上記の問題点を考慮し、ポストアニール処理の改善を図ることができる表面処理装置、表面処理方法、間接加熱蒸着装置、及び間接加熱蒸着方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決し、本発明の目的を達成するため、本発明の一側面を反映した表面処理装置は、電子ビーム発生源と、検出部と、制御部とを備える。電子ビーム発生源は、被蒸着物上に蒸発粒子が堆積して形成された蒸着膜に電子ビームを照射する。検出部は、蒸着膜の表面の状態を検出する。制御部は、検出部の検出結果に応じて、電子ビーム発生源による電子ビームの放出を停止させる。
【０００９】
また、本発明の一側面を反映した表面処理方法は、電子ビーム発生源が、被蒸着物上に蒸発粒子が堆積して形成された蒸着膜に電子ビームを照射する。次に、検出部が、蒸着膜の表面の状態を検出する。そして、制御部が、検出部の検出結果に応じて、電子ビーム発生源による電子ビームの放出を停止させる。
【００１０】
また、本発明の一側面を反映した間接加熱蒸着装置は、蒸着材料が充填される容器と、容器の底部を露出させて保持する容器保持部と、容器の底部に電子ビームを放出する電子ビーム発生源と、容器保持部を移動させる移動機構と、蒸着材料の蒸発粒子が堆積されて蒸着膜が形成される被蒸着物を保持する被蒸着物保持部とを備える。容器保持部は、容器を保持する部分とは別の場所に電子ビーム通過用開口部を有している。移動機構は、電子ビーム発生源の上方に容器が位置する第１位置と、電子ビーム発生源の上方に電子ビーム通過用開口部が位置する第２位置に、容器保持部を移動させる。
（【００１１】以降は省略されています）

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