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公開番号2025113831
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-08-04
出願番号2024008195
出願日2024-01-23
発明の名称成膜装置、および搬送方法
出願人株式会社アルバック
代理人個人,個人
主分類C23C 14/56 20060101AFI20250728BHJP(金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般)
要約【課題】真空下でLi金属の表面を有する基板を搬送してもシワの発生を抑制することができる。
【解決手段】Li金属層を有する基板を搬送するローラであって、Li金属との静止摩擦係数が、2.50以下であり、表面のヤング率が2.5GPa以下である。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
Ｌｉ金属層を有する基板を搬送するローラであって、
Ｌｉ金属との静止摩擦係数が、２．５０以下であり、
表面のヤング率が２．５ＧＰａ以下である、ローラ。
続きを表示（約 730 文字）【請求項２】
Ｌｉ金属との動摩擦係数が１．２０以下である、請求項１に記載のローラ。
【請求項３】
表面が、ポリプロピレン、ポリエチレン、およびポリテトラフルオロエチレンからなる群から選択される１種以上からなる、請求項１または２に記載のローラ。
【請求項４】
前記表面がポリプロピレンからなる、請求項３に記載のローラ。
【請求項５】
表面自由エネルギーが４０ｍＮ／ｍ以下である、請求項３に記載のローラ。
【請求項６】
基板を搬送する搬送部と、
前記搬送部によって搬送される前記基板の成膜領域にＬｉ金属を成膜する成膜部と、
を備え、
前記搬送部は、複数のローラを備え、
前記複数のローラのうち少なくとも１つは、前記Ｌｉ金属との静止摩擦係数が２．５０以下であり、表面のヤング率が２．５ＧＰａ以下である、シワ防止ローラを有する成膜装置。
【請求項７】
前記シワ防止ローラと前記Ｌｉ金属との動摩擦係数が１．２０以下である、請求項６に記載の成膜装置。
【請求項８】
前記シワ防止ローラの表面が、ポリプロピレン、ポリエチレン、およびポリテトラフルオロエチレンからなる群から選択される１種以上からなる、請求項６または７に記載の成膜装置。
【請求項９】
前記シワ防止ローラの表面がポリプロピレンからなる、請求項６または７に記載の成膜装置。
【請求項１０】
前記シワ防止ローラの表面の表面自由エネルギーが４０ｍＮ／ｍ以下である、請求項６または７に記載の成膜装置。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明はローラ、成膜装置、および搬送方法に関する。
続きを表示（約 1,300 文字）【背景技術】
【０００２】
スマートフォンなどのモバイル機器に搭載される電池として、リチウム電池が注目されている。リチウム電池の製造工程において、Ｌｉ金属をフレキシブル基板上に成膜した後の搬送において、シワが発生することが問題となっている。特に蒸着後から巻取に至る搬送経路におけるシワの発生が課題である。
【０００３】
フレキシブル基板、例えば、ウェブ状の基板の搬送において、円筒形状のローラが用いられている。フレキシブル基板の搬送において、ローラ上で、フレキシブル基板に生じた圧縮応力が、フレキシブル基板の臨界座屈応力を超えた場合、シワが発生する。このシワが発生する現象は、モデル化されており、フレキシブル基板の搬送方向および幅方向のヤング率、フレキシブル基板のポアソン比、フレキシブル基板の厚み、フレキシブル基板の幅、張力、静止摩擦係数をパラメータとし、当該モデルに代入することでシワの発生を理論的に予測できるとされている。
【０００４】
上記のモデルのパラメータのうち、生産対象であるフレキシブル基板の物性値は、装置制御のパラメータではなく、張力もフレキシブル基板の種類、理的気相成長（ＰＶＤ）などの表面処理工程に依存したパラメータとなる。そのため、当該モデルのパラメータとして摩擦係数を調整することが好ましい。
【０００５】
摩擦係数を調整する搬送技術として、特許文献１には、紙など薄物体を捲回して搬送するガイドローラにおいて、ガイドローラと被搬送物が接する外周面に、ガイドローラ軸と平行に紙との摩擦係数の低い低摩擦係数部材と、紙との摩擦係数が高い高摩擦係数部材を交互に配することを特徴とするガイドローラが開示されている。
【０００６】
摩擦係数を調整する搬送技術として、特許文献２には、フレキシブル基板（１０）を誘導するためのローラデバイス（１００）であって、当該ローラデバイスが、前記フレキシブル基板（１０）に接触するための支持面（１１０）を備え、前記支持面（１１０）が、電気陰性ポリマーを含むコーティング（１２０）を有する、ローラデバイス（１００）が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
特開平７－２５７７９８号公報
特開２０２３－７８１３２号公報
【非特許文献】
【０００８】
笠原章，金龍成，土佐正弘，吉原一紘，「高真空領域における摩擦力の測定」，Ｊ．Ｖａｃ．Ｓｏｃ．Ｊｐｎ．，ｖｏｌ．４３、Ｎｏ．１０，Ｐ．９８６－９９１（２０００）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかし、特許文献１および特許文献２の技術を用いても、真空下でＬｉ金属の表面を有するフレキシブル基板を搬送する場合に、シワの発生を十分に抑制することができなかった。
【００１０】
本発明は、上記事情を鑑みなされた発明であり、真空下でＬｉ金属の表面を有する基板を搬送してもシワの発生を抑制することができる、ローラ、成膜装置、および搬送方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
（【００１１】以降は省略されています）

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