特許ウォッチ

公開番号2025114477
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-08-05
出願番号2024221676
出願日2024-12-18
発明の名称塩、酸発生剤、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
出願人住友化学株式会社
代理人個人,個人
主分類G03F 7/004 20060101AFI20250729BHJP(写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ)
要約【課題】CD均一性(CDU)が良好なレジストパターンを形成する。
【解決手段】式(I)で表される塩又は式(I)を重合して得られる構造単位を含む酸発生剤。
<com:Image com:imageContentCategory="Drawing"> <com:ImageFormatCategory>JPEG</com:ImageFormatCategory> <com:FileName>2025114477000227.jpg</com:FileName> <com:HeightMeasure com:measureUnitCode="Mm">54</com:HeightMeasure> <com:WidthMeasure com:measureUnitCode="Mm">170</com:WidthMeasure> </com:Image>
【選択図】なし
特許請求の範囲【請求項１】
式（Ｉ）で表される塩又は式（ＩＰ）で表される構造単位を含む酸発生剤。
JPEG
2025114477000211.jpg
54
170
JPEG
2025114477000212.jpg
54
170
［式（Ｉ）及び式（ＩＰ）中、
Ｘは、硫黄原子又はヨウ素原子を表す。
Ｘが硫黄原子の場合、ｍ１０は１～３の整数であり、Ｘがヨウ素原子の場合、ｍ１０は１又は２である。
ｍ１は、０、１又は２を表し、Ｘが硫黄原子の場合、ｍ１＋ｍ１０＝３であり、Ｘがヨウ素原子の場合、ｍ１＋ｍ１０＝２であり、ｍ１が２以上のとき、２つのＲ
１
は、互いに同一であっても異なってもよい。
Ｒ
１
は、置換基を有してもよい炭素数１～１８の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる－ＣＨ
２
－は、－Ｏ－、－ＣＯ－、－Ｓ－、－ＳＯ－、－ＮＲ
１１
－又は－ＳＯ
２
－で置き換わっていてもよい。
Ｘが硫黄原子であり、ｍ１が２のとき、２つのＲ
１
が結合して、Ｓ
＋
を含む環を形成してもよく、該環に含まれる－ＣＨ
２
－は、－Ｏ－、－ＣＯ－、－Ｓ－、－ＳＯ－、－ＮＲ
１１
－又は－ＳＯ
２
－で置き換わっていてもよい。
Ｒ
１１
は、水素原子又は炭素数１～６のアルキル基を表す。
Ｒ
３
は、炭素数２～１２のアルキル基を表し、該アルキル基はＡｒ
３
に結合するアルカンジイル基と結合する炭素数１以上のアルキル基を含む。
Ｒ
６
は、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素数１～１８の炭化水素基を表し、該炭化水素基は、置換基を有してもよく、該炭化水素基に含まれる－ＣＨ
２
－は、－Ｏ－、－ＣＯ－、－Ｓ－、－ＳＯ－、－ＮＲ
１１
－又は－ＳＯ
２
－で置き換わっていてもよい。
Ｒ
９
は、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素数１～１８の炭化水素基を表し、該炭化水素基は、置換基を有してもよく、該炭化水素基に含まれる－ＣＨ
２
－は、－Ｏ－、－ＣＯ－、－Ｓ－、－ＳＯ－、－ＮＲ
１１
－又は－ＳＯ
２
－で置き換わっていてもよい。
Ｘが硫黄原子であり、ｍ１０が２又は３の場合、２つのＲ
９
が結合して、Ｓ
＋
を含む環を形成してもよい。該環を形成する２つのＲ
９
は、Ｓ
＋
と結合する２つのベンゼン環の間に形成される単結合であってもよい。
Ａ
３
は、炭素数１～２０の炭化水素基を表し、該炭化水素基は、置換基を有してもよく、該炭化水素基に含まれる－ＣＨ
２
－は、－Ｏ－、－ＣＯ－、－Ｓ－、－ＳＯ－、－ＮＲ
１１
－又は－ＳＯ
２
－で置き換わっていてもよい。
Ａｒ
３
は、炭素数６～１０の芳香族炭化水素基又は炭素数４～９の複素環式芳香族炭化水素基を表す。
ｍ３は、０～５のいずれかの整数を表し、ｍ３が２以上のとき、複数の括弧内の基は互いに同一であっても異なってもよい。
ｍ６は、０～４のいずれかの整数を表し、ｍ６が２以上のとき、複数のＲ
６
は互いに同一であっても異なってもよい。
ｍ９は、０～５のいずれかの整数を表し、ｍ９が２以上のとき、複数のＲ
９
続きを表示（約 3,400 文字）【請求項２】
少なくとも１つのｍ３が１以上の整数であり、
Ａ
３
が、＊＊－Ｘ
０３
－Ｌ
０３
－又は＊＊－Ｌ
０３
－Ｘ
０３
－であり、
Ｘ
０３
は、－Ｏ－、－ＣＯ－、－Ｓ－又は－ＳＯ
２
－を表し、
Ｌ
０３
は、単結合又は炭素数１～１８の炭化水素基（該炭化水素基は、置換基を有してもよく、該炭化水素基に含まれる－ＣＨ
２
－は、－Ｏ－、－ＣＯ－、－Ｓ－又は－ＳＯ
２
－で置き換わっていてもよい。）を表し、
＊＊は、Ｘ
＋
と結合するベンゼン環との結合部位を表す請求項１に記載の酸発生剤。
【請求項３】
Ｘ
０３
が、－Ｏ－又は－Ｓ－である請求項２に記載の酸発生剤。
【請求項４】
Ｌ
０３
が、単結合又は炭素数１～６のアルカンジイル基（該アルカンジイル基に含まれる－ＣＨ
２
－は、－Ｏ－又は－ＣＯ－で置き換わっていてもよい。）である請求項２に記載の酸発生剤。
【請求項５】
式（Ｉ）で表される塩又は式（ＩＰ）で表される構造単位のカチオンが、式（Ｉ－Ｃ－１）又は式（Ｉ－Ｃ－２）で表されるカチオンである請求項１に記載の酸発生剤。
JPEG
2025114477000213.jpg
74
170
［式（Ｉ－Ｃ－１）及び式（Ｉ－Ｃ－２）中、
Ｒ
３
、Ｒ
６
、Ｒ
９
及びｍ６の符号は、式（Ｉ）と同じ意味を表す。
Ｘ
０３
は、－Ｏ－、－ＣＯ－、－Ｓ－又は－ＳＯ
２
－を表し、
Ｌ
０３
は、単結合又は炭素数１～１８の炭化水素基（該炭化水素基は、置換基を有してもよく、該炭化水素基に含まれる－ＣＨ
２
－は、－Ｏ－、－ＣＯ－、－Ｓ－又は－ＳＯ
２
－で置き換わっていてもよい。）を表す。
ｍ３Ａ、ｍ３Ｂ及びｍ３Ｃは、それぞれ独立に、０～５のいずれかの整数を表し、ｍ３Ａ、ｍ３Ｂ及びｍ３Ｃがそれぞれ２以上のとき、それぞれの括弧内の基は、互いに同一であっても異なっていてもよい。
ｍ９Ａ、ｍ９Ｂ及びｍ９Ｃは、それぞれ独立に、０～５のいずれかの整数を表し、ｍ９Ａ、ｍ９Ｂ及びｍ９Ｃがそれぞれ２以上のとき、それぞれの括弧内の基は、互いに同一であっても異なっていてもよい。
ｍ３Ａ、ｍ３Ｂ、ｍ３Ｃ、ｍ９Ａ、ｍ９Ｂ及びｍ９Ｃは、それぞれ１≦ｍ３Ａ＋ｍ９Ａ≦５、０≦ｍ３Ｂ＋ｍ９Ｂ≦５及び０≦ｍ３Ｃ＋ｍ９Ｃ≦５を満たし、ｍ３Ａ＝０のとき、１以上のＲ
９
のうち１つのＲ
９
は、炭素数２～１２の直鎖状のアルキル基を表す。
Ｘ
７
は、単結合、－ＣＨ
２
－、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－ＳＯ－又は－ＳＯ
２
－を表す。］
【請求項６】
式（Ｉ）で表される塩又は式（ＩＰ）で表される構造単位のカチオンが、式（Ｉ－Ｃ－３）で表されるカチオンである請求項１に記載の酸発生剤。
JPEG
2025114477000214.jpg
65
170
［式（Ｉ－Ｃ－３）中、
Ｒ
３
、Ｒ
６
、Ｒ
９
及びｍ６の符号は、式（Ｉ）と同じ意味を表す。
Ｘ
０３
は、－Ｏ－、－ＣＯ－、－Ｓ－又は－ＳＯ
２
－を表し、
Ｌ
０３
は、単結合又は炭素数１～１８の炭化水素基（該炭化水素基は、置換基を有してもよく、該炭化水素基に含まれる－ＣＨ
２
－は、－Ｏ－、－ＣＯ－、－Ｓ－又は－ＳＯ
２
－で置き換わっていてもよい。）を表す。
ｍ３Ａ及びｍ３Ｂは、それぞれ独立に、０～５のいずれかの整数を表し、ｍ３Ａ及びｍ３Ｂがそれぞれ２以上のとき、それぞれの括弧内の基は、互いに同一であっても異なっていてもよい。
ｍ９Ａ及びｍ９Ｂは、それぞれ独立に、０～５のいずれかの整数を表し、ｍ９Ａ及びｍ９Ｂがそれぞれ２以上のとき、それぞれの括弧内の基は、互いに同一であっても異なっていてもよい。
ｍ３Ａ、ｍ３Ｂ、ｍ９Ａ及びｍ９Ｂは、それぞれ１≦ｍ３Ａ＋ｍ９Ａ≦５及び０≦ｍ３Ｂ＋ｍ９Ｂ≦５を満たし、ｍ３Ａ＝０のとき、１以上のＲ
９
のうち少なくとも１つのＲ
９
は、炭素数２～１２の直鎖状のアルキル基を表す。］
【請求項７】
式（Ｉ）で表される塩又は式（ＩＰ）で表される構造単位のカチオンが、式（Ｉ－Ｃ－４）で表されるカチオンである請求項１に記載の酸発生剤。
JPEG
2025114477000215.jpg
57
170
［式（Ｉ－Ｃ－４）中、
Ｒ
３
、Ｒ
６
、Ｒ
９
及びｍ６の符号は、式（Ｉ）と同じ意味を表す。
Ｘ
０３
は、－Ｏ－、－ＣＯ－、－Ｓ－又は－ＳＯ
２
－を表し、
Ｌ
０３
は、単結合又は炭素数１～１８の炭化水素基（該炭化水素基は、置換基を有してもよく、該炭化水素基に含まれる－ＣＨ
２
－は、－Ｏ－、－ＣＯ－、－Ｓ－又は－ＳＯ
２
－で置き換わっていてもよい。）を表す。
ｍ３Ａは、０～５のいずれかの整数を表し、ｍ３Ａが２以上のとき、複数の括弧内の基は、互いに同一であっても異なっていてもよい。
ｍ９Ａは、０～５のいずれかの整数を表し、ｍ９Ａが２以上のとき、複数のＲ
９
は、互いに同一であっても異なっていてもよい。
ｍ３Ａ及びｍ９Ａは、それぞれ１≦ｍ３Ａ＋ｍ９Ａ≦５を満たし、ｍ３Ａ＝０のとき、１以上のＲ
９
のうち少なくとも１つのＲ
９
は、炭素数２～１２の直鎖状のアルキル基を表す。
Ｘ
７
は、単結合、－ＣＨ
２
－、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－ＳＯ－又は－ＳＯ
２
－を表す。］
【請求項８】
少なくとも１つのｍ３が１以上の整数であり、
Ａｒ
３
が、ベンゼン環、ナフタレン環、フラン環又はチオフェン環である請求項１に記載の酸発生剤。
【請求項９】
ｍｍが１であり、
Ｙ
ｂ１
が、シクロヘキサンジイル基、アダマンタンジイル基、ノルボルナンジイル基、アダマンタンラクトンジイル基又はノルボルナンラクトンジイル基である請求項１に記載の酸発生剤。
【請求項１０】
Ｘ
１０
が、単結合又は式（Ｘ
１０
－１）～式（Ｘ
１０
－１０）のいずれかで表される基である請求項１に記載の酸発生剤。
JPEG
2025114477000216.jpg
42
170
［式（Ｘ
１０
－１）～式（Ｘ
１０
－１０）中、
＊、＊＊は結合部位であり、＊はＲ
１０
と結合する炭素原子との結合部位を表す。
Ｒｘは、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数１～６のフッ化アルキル基、炭素数１～１８のアルキル基又は炭素数１～６のアルコキシ基を表す。
ｍｘは、０～４のいずれかの整数を表す。
Ｘ
２０
は、－Ｏ－又は－ＮＲ
２１
－を表す。
Ｒ
２１
は、水素原子又は炭素数１～６のアルキル基を表す。］
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、塩、酸発生剤、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法に関する。
続きを表示（約 640 文字）【背景技術】
【０００２】
特許文献１には、下記構造単位を含む樹脂を含有するレジスト組成物が記載されている。
【０００３】
JPEG
2025114477000001.jpg
50
170
【０００４】
特許文献２には、下記構造単位を含む樹脂を含有するレジスト組成物が記載されている。
【０００５】
JPEG
2025114477000002.jpg
45
170
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
特開２０１３－０８２８９３号公報
特開２０２３－１３１５７６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
良好なＣＤ均一性（ＣＤＵ）でレジストパターンを製造することができる技術が求められている。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、以下の発明を含む。
［発明１］
式（Ｉ）で表される塩又は式（ＩＰ）で表される構造単位を含む酸発生剤。
【０００９】
JPEG
2025114477000003.jpg
55
170
【００１０】
JPEG
2025114477000004.jpg
55
170
（【００１１】以降は省略されています）

関連特許