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公開番号
2025148669
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2025-10-08
出願番号
2024048915
出願日
2024-03-26
発明の名称
配線基板
出願人
イビデン株式会社
代理人
個人
主分類
H05K
3/46 20060101AFI20251001BHJP(他に分類されない電気技術)
要約
【課題】高い品質を有する配線基板の提供。
【解決手段】実施形態の配線基板は、第1面と第2面と開口を有する樹脂基板と開口内に配置され、第1面とほぼ共通な面を形成する第3面と第3面と反対側の第4面を有するガラス基板と樹脂基板とガラス基板間の隙間を充填する充填用樹脂とからなるコア基板と、コア基板上に形成されるビルドアップ部、とを有する。ガラス基板は第3面から第4面に至る複数の第1スルーホール導体を有し、樹脂基板は第1面から第2面に至る複数の第2スルーホール導体を有し、第1スルーホール導体と第2スルーホール導体の主材料は銅であり、第1スルーホール導体の密度は第2スルーホール導体の密度より大きく、第1スルーホール導体の密度は、第3面の単位面積あたりの第1スルーホール導体の数であり、第2スルーホール導体の密度は、第1面の単位面積あたりの第2スルーホール導体の数である。
【選択図】図1
特許請求の範囲
【請求項1】
第1面と前記第1面と反対側の第2面と前記第1面から前記第2面に至る開口を有する樹脂基板と前記開口内に配置され、前記第1面とほぼ共通な面を形成する第3面と前記第3面と反対側の第4面を有するガラス基板と前記樹脂基板と前記ガラス基板間の隙間を充填する充填用樹脂とからなるコア基板と、
前記コア基板上に形成され、複数の導体層と複数の樹脂絶縁層を有するビルドアップ部、とを有する配線基板であって、
前記導体層と前記樹脂絶縁層は交互に積層され、
前記ガラス基板は前記第3面から前記第4面に至る複数の第1スルーホール導体を有し、
前記樹脂基板は前記第1面から前記第2面に至る複数の第2スルーホール導体を有し、
前記第1スルーホール導体と前記第2スルーホール導体の主材料は銅であり、前記第1スルーホール導体の密度は前記第2スルーホール導体の密度より大きく、前記第1スルーホール導体の密度は、前記第3面の単位面積あたりの前記第1スルーホール導体の数であり、前記第2スルーホール導体の密度は、前記第1面の単位面積あたりの前記第2スルーホール導体の数である。
続きを表示(約 970 文字)
【請求項2】
請求項1の配線基板であって、隣接する前記第1スルーホール導体間の最小間隔は、隣接する前記第2スルーホール導体間の最小間隔より小さい。
【請求項3】
請求項1の配線基板であって、隣接する前記第1スルーホール導体間の最大間隔は、隣接する前記第2スルーホール導体間の最大間隔より小さい。
【請求項4】
請求項1の配線基板であって、隣接する前記第1スルーホール導体間の最大間隔は、隣接する前記第2スルーホール導体間の最小間隔より小さい。
【請求項5】
請求項1の配線基板であって、前記ビルドアップ部を形成する導体層は電子部品を実装するための電極を有する最上の導体層を含み、前記複数の第1スルーホール導体の少なくとも一部は前記電極の直下に位置する。
【請求項6】
請求項1の配線基板であって、前記樹脂絶縁層は第5面と前記第5面と反対側の第6面を有し、前記第6面は前記第5面より前記第1面に近く、前記樹脂絶縁層は樹脂と無機粒子によって形成されており、前記無機粒子は前記樹脂に部分的に埋まっている第1無機粒子と前記樹脂に埋まっている第2無機粒子を含み、前記第1無機粒子は前記樹脂から突出する第1部分と前記樹脂に埋まっている第2部分で形成され、前記第5面は前記樹脂の上面と前記上面から露出する前記第1部分の露出面で形成されている。
【請求項7】
請求項6の配線基板であって、前記第1部分の体積と前記第1無機粒子の体積の比は0より大きく0.4以下である。
【請求項8】
請求項5の配線基板であって、前記第1スルーホール導体のそれぞれは前記電極のそれぞれの直下に位置する。
【請求項9】
請求項1の配線基板であって、前記樹脂絶縁層は第5面と前記第5面と反対側の第6面を有し、前記第6面は前記第5面より前記第1面に近く、前記樹脂絶縁層は樹脂と無機粒子によって形成されており、前記無機粒子は前記第5面を形成する第3無機粒子と前記樹脂に埋まっている第2無機粒子を含み、前記第2無機粒子の形状は略球であり、前記第3無機粒子の形状は略球欠であって、前記第3無機粒子は略平坦な面(第3平坦面)を有し、前記第3平坦面が前記第5面を形成する。
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本明細書によって開示される技術は配線基板に関する。
続きを表示(約 2,400 文字)
【背景技術】
【0002】
特許文献1は実施形態2でキャビティを有する樹脂板とキャビティ内のガラス板とからなるコア層を有する配線板を開示する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
特開2014-127701号公報
【発明の概要】
【0004】
[特許文献1の課題]
特許文献1の実施形態2のコア層はガラス板と樹脂板で形成されている。両者の熱膨張係数が異なるためガラス板と樹脂板の境界でコア層が反りやすいと考えられる。
【課題を解決するための手段】
【0005】
本発明の配線基板は、第1面と前記第1面と反対側の第2面と前記第1面から前記第2面に至る開口を有する樹脂基板と前記開口内に配置され、前記第1面とほぼ共通な面を形成する第3面と前記第3面と反対側の第4面を有するガラス基板と前記樹脂基板と前記ガラス基板間の隙間を充填する充填用樹脂とからなるコア基板と、前記コア基板上に形成され、複数の導体層と複数の樹脂絶縁層を有するビルドアップ部、とを有する。前記導体層と前記樹脂絶縁層は交互に積層され、前記ガラス基板は前記第3面から前記第4面に至る複数の第1スルーホール導体を有し、前記樹脂基板は前記第1面から前記第2面に至る複数の第2スルーホール導体を有し、前記第1スルーホール導体と前記第2スルーホール導体の主材料は銅であり、前記第1スルーホール導体の密度は前記第2スルーホール導体の密度より大きく、前記第1スルーホール導体の密度は、前記第3面の単位面積あたりの前記第1スルーホール導体の数であり、前記第2スルーホール導体の密度は、前記第1面の単位面積あたりの前記第2スルーホール導体の数である。
【0006】
銅の熱膨張係数はガラスの熱膨張係数より大きい。本発明の実施形態の配線基板を形成するガラス基板は第1スルーホール導体を有する。そのため、実施形態のガラス基板の熱膨張係数はガラスの熱膨張係数より大きい。そして、第1スルーホール導体の密度は第2スルーホール導体の密度より大きい。そのため、実施形態はガラス基板の熱膨張係数と樹脂基板の熱膨張係数との間の差を小さくすることができる。樹脂基板が第2スルーホール導体を有するため、実施形態は第1スルーホール導体の数を減らすことができる。実施形態はガラス基板のサイズを小さくすることができる。実施形態はコア基板のサイズを小さくすることができる。実施形態は配線基板の反りを小さくすることができる。
【図面の簡単な説明】
【0007】
実施形態の配線基板を模式的に示す断面図。
実施形態の配線基板の一部を模式的に示す拡大断面図。
実施形態の配線基板の一部を模式的に示す拡大断面図。
【発明を実施するための形態】
【0008】
[実施形態]
図1は実施形態の配線基板2を示す断面図である。図2と図3は実施形態の配線基板2の一部を示す拡大断面図である。図1に示されるように、配線基板2はコア基板4と第1ビルドアップ部20Fと第2ビルドアップ部20Bとソルダーレジスト層80F、80Bと接合部材90Fを有する。
【0009】
第9面4aと第9面4aと反対側の第10面4bを有するコア基板4は樹脂基板10とガラス基板12と充填用樹脂14からなる。樹脂基板10は第1面10aと第1面10aと反対側の第2面10bと第1面10aから第2面10bに至る開口11を有する。第9面4aと第1面10aはほぼ共通な面を形成し、第10面4bと第2面10bはほぼ共通な面を形成する。樹脂基板10は樹脂製である。樹脂の例はエポキシ樹脂である。樹脂基板10はシリカ等の無機粒子を含んでもよい。樹脂基板10はガラスクロス等の補強材を含んでもよい。開口11の平面形状は略矩形である。ガラス基板12は開口11内に配置されている。ガラス基板12は第3面12aと第3面12aと反対側の第4面12bを有する。第3面12aは第1面10aとほぼ共通な面を形成する。第4面12bは第2面10bとほぼ共通な面を形成する。ガラス基板12はガラス製である。充填用樹脂14は樹脂基板10とガラス基板12間の隙間を充填する。充填用樹脂14の例はエポキシ樹脂である。充填用樹脂14はシリカ等の無機粒子を含んでもよい。
【0010】
ガラス基板12は第3面12aから第4面12bに至る複数の第1貫通孔160と複数の第1スルーホール導体16を有する。各第1貫通孔160内に第1スルーホール導体16が形成されている。樹脂基板10は第1面10aから第2面10bに至る複数の第2貫通孔180と複数の第2スルーホール導体18を有する。各第2貫通孔180内に第2スルーホール導体18が形成されている。第1スルーホール導体16と第2スルーホール導体18の主材料は銅である。第1スルーホール導体16の密度は第2スルーホール導体18の密度より大きい。第1スルーホール導体16の密度は第3面12aの単位面積あたりの第1スルーホール導体16の数である。第2スルーホール導体18の密度は第1面10aの単位面積あたりの第2スルーホール導体18の数である。例えば、第1スルーホール導体16の密度は第1スルーホール導体16の総数を第3面12aの面積で割ることで求めることができる。各第1貫通孔160の部分は第3面12aの面積に含まれる。例えば、第2スルーホール導体18の密度は第2スルーホール導体18の総数を第1面10aの面積で割ることで求めることができる。各第2貫通孔180の部分は第1面10aの面積に含まれる。
(【0011】以降は省略されています)
この特許をJ-PlatPat(特許庁公式サイト)で参照する
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