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公開番号2025078444
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-05-20
出願番号2023191016
出願日2023-11-08
発明の名称水質測定用希釈装置及び希釈方法
出願人栗田工業株式会社
代理人個人,個人
主分類G01N 33/18 20060101AFI20250513BHJP(測定;試験)
要約【課題】希釈倍率を高精度に制御することができる水質測定用希釈装置を提供する。
【解決手段】原液を希釈用水で希釈して試料水を調製するための水質測定用希釈装置であって、容器10と、該容器に原液を供給する原液供給部と、該容器10に希釈用水を供給する希釈供給部と、該容器内の液を循環させる循環部と、該容器内の液を流出させるための流出部と、該容器内の水位を検出する圧力センサ9とを有した水質測定用希釈装置であって、前記流出部はポンプ14を備えており、且つポンプ14を停止させた状態で重力により前記容器10内から液を流出させることが可能である水質測定用希釈装置。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
原液を希釈用水で希釈して試料水を調製するための水質測定用希釈装置であって、
容器と、
該容器に原液を供給する原液供給部と、
該容器に希釈用水を供給する希釈用水供給部と、
該容器内の液を循環させる循環部と、
該容器内の液を流出させるための流出部と、
該容器内の水位を検出する圧力センサと
を有した水質測定用希釈装置であって、
前記流出部はポンプを備えており、且つポンプを停止させた状態で重力により前記容器内から液を流出させることが可能である水質測定用希釈装置。
続きを表示（約 710 文字）【請求項２】
前記循環部は、前記流出部の前記ポンプによって循環送水を行うものである請求項１の水質測定用希釈装置。
【請求項３】
請求項１又は２の水質測定用希釈装置によって原液を希釈用水で希釈して試料水を調製する希釈方法であって、
前記容器内に原液を第１規定量導入する原液導入工程と、
該容器内に希釈用水を第２規定量導入する希釈用水導入工程と、
該容器内の液を循環させて撹拌する撹拌工程と、
該容器内から希釈された液を取り出す取出工程と
を有しており、
前記原液導入工程は、前記第１規定量よりも過剰量の原液を前記容器内に導入する工程と、
該容器内から過剰分の一部を、前記ポンプを作動させて排出するポンプ排出工程と、
その後、該ポンプを停止し、前記圧力センサで検出される該容器内の原液量が前記第１規定量となるように容器内の原液を重力によって流出させる重力排出工程と
を有する希釈方法。
【請求項４】
前記原液導入工程を行った後、前記循環部の残留液を前記水質測定用希釈装置外に排出し、その後、前記希釈用水導入工程を行う請求項３の希釈方法。
【請求項５】
前記原液導入工程、希釈用水導入工程及び撹拌工程を行った後、前記容器内の液量が前記第１規定量となるように排液する排液工程を行い、
その後、該容器内に希釈用水を導入して第２希釈工程を行う請求項４の希釈方法。
【請求項６】
前記排液工程後、前記希釈用水を導入する前に、前記循環部から残留水を排出する請求項５の希釈方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は水質測定用希釈装置に係り、特に原液を希釈して水質測定を行うための水質測定用希釈装置に関する。また、本発明は、この水質測定用希釈装置を用いた希釈方法に関する。
続きを表示（約 1,400 文字）【背景技術】
【０００２】
水中の残留塩素濃度を自動測定する技術として、Ｎ，Ｎ－ジエチル－１，４－フェニレンジアミン試薬（ＤＰＤ試薬）を使用する吸光光度法により水中の残留塩素濃度を測定する、バッチ式自動連続残留塩素濃度測定装置が知られている。当該装置によって測定可能な残留塩素濃度は８ｍｇ／Ｌ以下である。そのため、当該装置は、８ｍｇ／Ｌ超の高濃度領域の測定には適していない。
【０００３】
高濃度の残留塩素を定量可能な水質測定用希釈装置として、特許文献１には、原水及び希釈水を含む試料水を調製する希釈装置と、前記試料水の残留塩素濃度を測定する残留塩素濃度測定装置と、を含み、前記希釈装置が、前記試料水が収容される容器と、前記容器内の第１の液面を検知する第１の液面検知部と、前記容器内の第２の液面を検知する第２の液面検知部と、前記第１の液面検知部が前記第１の液面を検知するまで、前記容器に前記原水を注入する原水注入部と、前記第２の液面検知部が前記第２の液面を検知するまで、前記容器に前記希釈水を注入し、前記原水の希釈を行う希釈水注入部と、を備える、水質測定装置が記載されている。
【０００４】
特許文献１の水質測定用希釈装置では、希釈装置によって、原水の希釈、及び必要に応じて原水の再稀釈を行って試料水を調製し、試料水を試料水貯留部を経て、残留塩素濃度測定装置へ移送し、残留塩素濃度の測定を行う。この水質測定装置において、原水の希釈は、１回又は２回以上行われる。希釈を２回以上行うことにより、高濃度の原水を十分に希釈することができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
特開２０２３－８７１６０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
特許文献１の水質測定用希釈装置において、液面検出部として静電容量センサや光センサを使用すると、希釈容器の汚れや希釈容器の壁面を伝う水滴などのために液面検出に誤差が生じ、希釈濃度が変動することがあった。
【０００７】
特許文献１には、圧力式液面レベルセンサを水位検出に用いることも記載されている。しかし、特許文献１では、原水の計量時に、液面検知部が液面を検知するまで、原水タンク内の原水を容器に上部から注入する。
【０００８】
このように、上部より原水を供給すると、容器内を落下する原水によって容器内の液面が揺れる。このように液面が揺れると圧力に変動が起きるため、特許文献１において圧力式液面レベルセンサを用いた場合でも検出水位に誤差が生じる。
【０００９】
本発明は、希釈倍率を高精度に制御することができる水質測定用希釈装置及び希釈方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の水質測定用希釈装置は、原液を希釈用水で希釈して試料水を調製するための水質測定用希釈装置であって、容器と、該容器に原液を供給する原液供給部と、該容器に希釈用水を供給する希釈用水供給部と、該容器内の液を循環させる循環部と、該容器内の液を流出させるための流出部と、該容器内の水位を検出する圧力センサとを有した水質測定用希釈装置であって、前記流出部はポンプを備えており、且つポンプを停止させた状態で重力により前記容器内から液を流出させる。
（【００１１】以降は省略されています）

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