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公開番号2025086227
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-06-06
出願番号2023200145
出願日2023-11-27
発明の名称検出装置、露光装置、及び物品の製造方法
出願人キヤノン株式会社
代理人個人,個人,個人,個人,個人
主分類G03F 9/00 20060101AFI20250530BHJP(写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ)
要約【課題】 精度よく基板の位置検出を行うこと。
【解決手段】 基板ステージに保持された基板の位置を検出する検出装置であって、前記基板の側面に光を照明する照明部と、前記基板の側面で反射された光を検出する検出部と、前記検出部による検出結果に基づいて、前記基板の側面の位置を求める処理部と、を有し、前記照明部は、前記基板の側面における第1領域を照明するか、前記基板の側面における領域であり、前記第1領域とは異なる第2領域を照明するか、を切り替え可能である。
【選択図】 図1
特許請求の範囲【請求項1】
基板ステージに保持された基板の位置を検出する検出装置であって、
前記基板の側面に光を照明する照明部と、
前記基板の側面で反射された光を検出する検出部と、
前記検出部による検出結果に基づいて、前記基板の側面の位置を求める処理部と、
を有し、
前記照明部は、
前記基板の側面における第1領域を照明するか、
前記基板の側面における領域であり、前記第1領域とは異なる第2領域を照明するか、
を切り替え可能であることを特徴とする検出装置。
続きを表示(約 1,000 文字)【請求項2】
前記照明部は、前記第1領域を照明した際に前記検出部で得られる光量分布のピーク波形が複数である場合には、前記第1領域の照明から前記第2領域を照明するように切り替えることを特徴とする請求項1に記載の検出装置。
【請求項3】
前記照明部は、前記第1領域を照明した際に前記検出部で得られる光量分布のピーク波形が1つである場合には、前記第1領域の照明から前記第2領域を照明するように切り替えないことを特徴とする請求項2に記載の検出装置。
【請求項4】
前記処理部は、前記第1領域を照明した際に前記検出部で得られる光量分布と、前記第2領域を照明した際に前記検出部で得られる光量分布と、に基づいて、前記基板の側面の位置を求めることを特徴とする請求項2に記載の検出装置。
【請求項5】
前記処理部は、前記第1領域を照明した際に前記検出部で得られる光量分布のピーク波形の特徴量に関する情報と、前記第2領域を照明した際に前記検出部で得られる光量分布のピーク波形の特徴量に関する情報と、に基づいて、基板の側面において反射されて得られたピーク波形を特定し、特定された前記ピーク波形に基づいて、前記基板の側面の位置を求めることを特徴とする請求項4に記載の検出装置。
【請求項6】
前記処理部は、前記第2領域を照明した際に前記検出部で得られる光量分布のピーク波形が1つである場合に、前記第2領域を照明した際に前記検出部で得られる光量分布に基づいて、前記基板の側面の位置を求めることを特徴とする請求項2に記載の検出装置。
【請求項7】
前記第1領域及び前記第2領域は、互いに重ならない領域であることを特徴とする請求項1に記載の検出装置。
【請求項8】
前記照明部は、複数の光源を含み、
前記処理部は、前記複数の光源の点灯を制御する、
ことを特徴とする請求項1に記載の検出装置。
【請求項9】
前記照明部は、前記基板の側面の側方に配置され、
前記検出部は、前記基板の側面の下方に配置される、
ことを特徴とする請求項1に記載の検出装置。
【請求項10】
前記検出部は、ラインセンサであることを特徴とする請求項1に記載の検出装置。
(【請求項11】以降は省略されています)

発明の詳細な説明【技術分野】
【0001】
本発明は、検出装置、露光装置、及び物品の製造方法に関する。
続きを表示(約 1,300 文字)【背景技術】
【0002】
液晶パネルや有機ELディスプレイ、或いは半導体デバイスなどの製造では、感光材が塗布された基板に原版のパターンを露光する露光装置が用いられる。露光装置等の産業装置では、ステージ上の基板の位置決めをするために、基板側面(端面)の位置を計測する方法が用いられうる。
【0003】
基板側面の位置を計測する装置としては、例えば、基板側面に光を照射して反射光を検出する光学式の検出装置がある。光学式の検出装置は、非接触で精度よく基板側面の位置検出が可能なため、特に薄型化が進んで変形しやすいガラスプレートのような基板側面の位置検出に対して有利である。
【0004】
特許文献1には、基板側面に対して、横方向から光を照射し、基板側面の下方に反射した光を、基板を保持するステージに設けられた受光センサで検出する内容が開示されている。特許文献1では、受光センサで得られた光量のピーク波形から、基板側面の位置(すなわち、基板の位置)を把握することができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
特開2017-116868号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
しかしながら、基板側面に傷や異物がある場合には、受光センサで得られるピーク波形が変化してしまい、精度よく基板側面の位置を検出することができなくなるおそれがある。
【0007】
そこで、本発明は、精度よく基板の位置検出を行ううえで有利な検出装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0008】
上記目的を達成するために、本発明の一側面としての検出装置は、基板ステージに保持された基板の位置を検出する検出装置であって、前記基板の側面に光を照明する照明部と、前記基板の側面で反射された光を検出する検出部と、前記検出部による検出結果に基づいて、前記基板の側面の位置を求める処理部と、を有し、前記照明部は、前記基板の側面における第1領域を照明するか、前記基板の側面における領域であり、前記第1領域とは異なる第2領域を照明するか、を切り替え可能であることを特徴とする。
【発明の効果】
【0009】
本発明によれば、精度よく基板の位置検出を行ううえで有利な検出装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【0010】
第1実施形態における検出装置の構成を示す概略図である。
第1実施形態における検出装置の側面図である。
第1実施形態における課題を説明するための図である。
受光センサで得られる光量分布を示す図である。
基板側面の位置検出を行うフローチャートである。
第2実施形態における検出装置の構成を示す概略図である。
第2実施形態における検出装置の側面図である。
露光装置の構成を示す概略図である。
物品の製造方法のフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
(【0011】以降は省略されています)

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