特許ウォッチ

公開番号2025123605
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-08-25
出願番号2024019123
出願日2024-02-13
発明の名称光走査装置及び画像形成装置
出願人キヤノン株式会社
代理人個人,個人,個人,個人
主分類G02B 26/10 20060101AFI20250818BHJP(光学)
要約【課題】マルチビームそれぞれの走査幅の間のずれを容易に低減させることができる光走査装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る光走査装置は、複数の発光点を有する光源からの複数の光束を偏向して被走査面を主走査方向に走査する偏向器と、子線チルト面を有し、偏向器の偏向面によって偏向された複数の光束を被走査面に導光する結像光学素子と、光源からの複数の光束を偏向面に入射させる入射光学系とを備え、光源と偏向面との間の入射光学系の光軸上における距離をL₁、偏向面と子線チルト面との間の結像光学素子の光軸上における距離をD₁、入射光学系の副走査断面内における横倍率をβ₁、子線チルト面上において光源のi番目の発光点からの光束が到達する位置での子線チルト面の傾きをM_1iとしたとき、全ての発光点について
<com:Image com:imageContentCategory="Drawing"> <com:ImageFormatCategory>TIFF</com:ImageFormatCategory> <com:FileName>2025123605000049.tif</com:FileName> <com:HeightMeasure com:measureUnitCode="Mm">11</com:HeightMeasure> <com:WidthMeasure com:measureUnitCode="Mm">150</com:WidthMeasure> </com:Image> なる条件を満たすことを特徴とする。
【選択図】図2
特許請求の範囲【請求項１】
複数の発光点を有する第１の光源からの複数の光束を偏向して第１の被走査面を主走査方向に走査する偏向器と、
第１の子線チルト面を有し、前記偏向器の第１の偏向面によって偏向された前記複数の光束を前記第１の被走査面に導光する第１の結像光学素子と、
前記第１の光源からの前記複数の光束を前記第１の偏向面に入射させる第１の入射光学系とを備え、
前記第１の光源と前記第１の偏向面との間の前記第１の入射光学系の光軸上における距離をＬ
１
、前記第１の偏向面と前記第１の子線チルト面との間の前記第１の結像光学素子の光軸上における距離をＤ
１
、前記第１の入射光学系の副走査断面内における横倍率をβ
１
、前記第１の子線チルト面上において前記第１の光源のｉ番目の発光点からの前記光束が到達する位置での前記第１の子線チルト面の傾きをＭ
１ｉ
としたとき、前記第１の光源の全ての発光点について
TIFF
2025123605000043.tif
11
150
なる条件を満たすことを特徴とする光走査装置。
続きを表示（約 2,300 文字）【請求項２】
前記第１の結像光学素子の光軸上における前記第１の子線チルト面の子線チルト量をＭ
０１
としたとき、
TIFF
2025123605000044.tif
11
150
なる条件を満たすことを特徴とする請求項１に記載の光走査装置。
【請求項３】
前記第１の結像光学素子の光軸上での前記第１の子線チルト面の副走査断面内における曲率半径をＲ、前記第１の結像光学素子の副走査方向における偏心量をＬ
ｓ
、前記第１の結像光学素子の光軸上における前記第１の子線チルト面の子線チルト量をＭ
０１
としたとき、
TIFF
2025123605000045.tif
11
150
なる条件を満たすことを特徴とする請求項１に記載の光走査装置。
【請求項４】
前記第１の子線チルト面の子線チルト量は、主走査方向の位置に応じて変化することを特徴とする請求項１に記載の光走査装置。
【請求項５】
前記第１の子線チルト面の子線チルト量の絶対値は、前記第１の結像光学素子の光軸上において最も大きいことを特徴とする請求項４に記載の光走査装置。
【請求項６】
前記第１の結像光学素子は、副走査断面内において正のパワーを有することを特徴とする請求項１に記載の光走査装置。
【請求項７】
前記第１の結像光学素子を含み、前記第１の偏向面によって偏向された前記複数の光束を前記第１の被走査面に導光する第１の結像光学系を備え、
前記第１の結像光学系に含まれる少なくとも一つの結像光学素子のうち前記複数の光束の光路上において前記偏向器に最も近い結像光学素子は、前記少なくとも一つの結像光学素子のうち主走査断面内において最も強いパワーを有する結像光学素子であることを特徴とする請求項１に記載の光走査装置。
【請求項８】
第２の子線チルト面を有し、前記第１の偏向面によって偏向された複数の発光点を有する第２の光源の複数の光束を第２の被走査面に導光する第２の結像光学素子と、
前記第２の光源からの前記複数の光束を前記第１の偏向面に入射させる第２の入射光学系とを備え、
前記偏向器は、前記第２の光源からの前記複数の光束を偏向して前記第２の被走査面を主走査方向に走査し、
前記第２の光源と前記第１の偏向面との間の前記第２の入射光学系の光軸上における距離をＬ
２
、前記第１の偏向面と前記第２の子線チルト面との間の前記第２の結像光学素子の光軸上における距離をＤ
２
、前記第２の入射光学系の副走査断面内における横倍率をβ
２
、前記第２の子線チルト面上において前記第２の光源のｊ番目の発光点からの前記光束が到達する位置での前記第２の子線チルト面の傾きをＭ
２ｊ
としたとき、前記第２の光源の全ての発光点について
TIFF
2025123605000046.tif
11
150
なる条件を満たすことを特徴とする請求項１に記載の光走査装置。
【請求項９】
前記第１の結像光学素子の光軸上における前記第１の子線チルト面の子線チルト量の絶対値と、前記第２の結像光学素子の光軸上における前記第２の子線チルト面の子線チルト量の絶対値とは、互いに異なることを特徴とする請求項８に記載の光走査装置。
【請求項１０】
第３及び第４の子線チルト面を有し、前記偏向器の第２の偏向面によって偏向された複数の発光点を有する第３の光源の複数の光束及び複数の発光点を有する第４の光源の複数の光束を第３及び第４の被走査面に導光する第３及び第４の結像光学素子と、
前記第３の光源からの前記複数の光束及び前記第４の光源からの前記複数の光束を前記第２の偏向面に入射させる第３及び第４の入射光学系とを備え、
前記偏向器は、前記第３の光源からの前記複数の光束及び前記第４の光源からの前記複数の光束を偏向して前記第３及び第４の被走査面を主走査方向に走査し、
前記第３及び第４の光源と前記第２の偏向面との間の前記第３及び第４の入射光学系の光軸上における距離をＬ
３
及びＬ
４
、前記第２の偏向面と前記第３及び第４の子線チルト面との間の前記第３及び第４の結像光学素子の光軸上における距離をＤ
３
及びＤ
４
、前記第３及び第４の入射光学系の副走査断面内における横倍率をβ
３
及びβ
４
、前記第３の子線チルト面上において前記第３の光源のｋ番目の発光点からの前記光束が到達する位置での前記第３の子線チルト面の傾きをＭ
３ｋ
、前記第４の子線チルト面上において前記第４の光源のｌ番目の発光点からの前記光束が到達する位置での前記第４の子線チルト面の傾きをＭ
４ｌ
としたとき、前記第３の光源の全ての発光点について
TIFF
2025123605000047.tif
11
150
なる条件を満たすと共に、前記第４の光源の全ての発光点について
TIFF
2025123605000048.tif
11
150
なる条件を満たすことを特徴とする請求項８に記載の光走査装置。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、光走査装置に関し、特にレーザービームプリンタ（ＬＢＰ）、デジタル複写機やマルチファンクションプリンタ（ＭＦＰ）等の画像形成装置に好適に用いられる光走査装置に関する。
続きを表示（約 2,100 文字）【背景技術】
【０００２】
従来、複数の発光点を有する光源から出射するマルチビームを用いて被走査面を走査することで高速化を図った光走査装置が知られている。
一方、そのような光走査装置においてはマルチビームそれぞれの走査幅（全体倍率）の間のずれが発生することで、画質が低下する虞が有ることも知られている。
【０００３】
特許文献１は、マルチビームそれぞれの走査幅の間のずれを当該マルチビームそれぞれの被走査面に対する入射角度に応じた走査幅の間のずれを用いて低減させる光走査装置を開示している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開平９－１９７３０８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１に開示されている光走査装置では、マルチビームそれぞれの被走査面に対する入射角度が変動してしまうと当該マルチビームそれぞれの走査幅の間のずれを十分に低減させることが困難となる。
そこで本発明は、マルチビームそれぞれの走査幅の間のずれを容易に低減させることができる光走査装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明に係る光走査装置は、複数の発光点を有する第１の光源からの複数の光束を偏向して第１の被走査面を主走査方向に走査する偏向器と、第１の子線チルト面を有し、偏向器の第１の偏向面によって偏向された複数の光束を第１の被走査面に導光する第１の結像光学素子と、第１の光源からの複数の光束を第１の偏向面に入射させる第１の入射光学系とを備え、第１の光源と第１の偏向面との間の第１の入射光学系の光軸上における距離をＬ
１
、第１の偏向面と第１の子線チルト面との間の第１の結像光学素子の光軸上における距離をＤ
１
、第１の入射光学系の副走査断面内における横倍率をβ
１
、第１の子線チルト面上において第１の光源のｉ番目の発光点からの光束が到達する位置での第１の子線チルト面の傾きをＭ
１ｉ
としたとき、第１の光源の全ての発光点について
TIFF
2025123605000002.tif
11
150
なる条件を満たすことを特徴とする。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、マルチビームそれぞれの走査幅の間のずれを容易に低減させることができる光走査装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
第一実施形態に係る光走査装置の主走査断面図及び一部副走査断面図。
第一実施形態に係る光走査装置における効果を説明するための図。
第一実施形態に係る光走査装置において被走査面上の各像高に複数の光線が到達する様子を示した図。
第一実施形態に係る光走査装置での被走査面上における各光線の到達位置の間の距離の像高依存性を示した図。
第二実施形態に係る光走査装置の主走査断面図及び一部副走査断面図。
第二実施形態に係る光走査装置での被走査面上における各光線の到達位置の間の距離の像高依存性を示した図。
第三実施形態に係る光走査装置の主走査断面図及び一部副走査断面図。
第三実施形態に係る光走査装置での被走査面上における各光線の到達位置の間の距離の像高依存性を示した図。
第四実施形態に係る光走査装置の一部主走査断面内展開図。
第四実施形態に係る光走査装置の一部副走査断面内展開図。
第四実施形態に係る光走査装置の一部副走査断面図。
第四実施形態に係る光走査装置での被走査面上における各光線の到達位置の間の距離の像高依存性を示した図。
第五実施形態に係る光走査装置の主走査断面内展開図。
第五実施形態に係る光走査装置の一部副走査断面内展開図。
第五実施形態に係る光走査装置の一部副走査断面図。
実施形態に係る画像形成装置の要部副走査断面図。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下に、本実施形態に係る光走査装置を添付の図面に基づいて詳細に説明する。なお以下に示す図面は、本実施形態を容易に理解できるようにするために実際とは異なる縮尺で描かれている場合がある。
また以下の説明において、主走査方向とは偏向器の回転軸及び光学系の光軸に垂直な方向である。副走査方向とは偏向器の回転軸に平行な方向である。主走査断面とは副走査方向に垂直な断面である。副走査断面とは主走査方向に垂直な断面である。
従って以下の説明において、主走査方向及び副走査断面は、入射光学系と結像光学系とで異なることに注意されたい。
【００１０】
［第一実施形態］
図１（ａ）及び（ｂ）はそれぞれ、第一実施形態に係る光走査装置１１０の模式的主走査断面図及び一部模式的副走査断面図を示している。
（【００１１】以降は省略されています）

関連特許