特許ウォッチ

公開番号2025131622
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-09-09
出願番号2025083892,2022506534
出願日2025-05-20,2020-07-31
発明の名称強化可能な被覆基板
出願人ピルキントングループリミテッド
代理人個人,個人
主分類C03C 17/36 20060101AFI20250902BHJP(ガラス;鉱物またはスラグウール)
要約【課題】ガラス基板の表面の損傷に対処し、それによりガラスの必要な美的外観を満たすだけでなく、建築及び自動車産業の両方で必要なガラスの特性も達成する、強化可能な被覆フロートガラス基板、及び前記被覆フロートガラス基板を準備する方法を提供する。
【解決手段】フロートガラス基板は、第1の表面と、第2の表面とを備え、第1の表面は化学蒸着(CVD)により成膜された1つ又は複数の層を含み、第2の表面は物理蒸着(PVD)により成膜された1つ又は複数の層を含み、物理蒸着(PVD)により成膜された上記1つ又は複数の層は、少なくとも1つの機能性金属層を含み、第2の表面はさらに、第2の表面と直接接触して成膜された保護層を含み、且つ被覆フロートガラス基板は、3以下のCIE色空間による透過b^*色値及び-5以下の外部反射b^*を示す。
【選択図】なし
特許請求の範囲【請求項１】
強化可能な被覆フロートガラス基板であって、
ｉ）第１の表面と、
ｉｉ）第２の表面と
を備え、前記第１の表面は化学蒸着（ＣＶＤ）により成膜された１つ又は複数の層を含み
、前記第２の表面は物理蒸着（ＰＶＤ）により成膜された１つ又は複数の層を含み、
物理蒸着（ＰＶＤ）により成膜された前記１つ又は複数の層は、少なくとも１つの機能
性金属層を含み、
前記第２の表面はさらに、該第２の表面と直接接触して成膜された保護層を含み、且つ
前記被覆フロートガラス基板は、３以下のＣＩＥ色空間による透過ｂ
＊
色値及び－５以
下の外部反射ｂ
＊
を示す、強化可能な被覆フロートガラス基板。
続きを表示（約 1,000 文字）【請求項２】
請求項１に記載の強化可能な被覆基板において、前記保護層は酸化ケイ素（ＳｉＯｘ）
層を含み、ｘは１．５～２０の範囲にある強化可能な被覆基板。
【請求項３】
請求項１に記載の強化可能な被覆基板において、ＣＩＥ色空間によれば、ｂ
＊
及びa
＊
値は外部反射に関して負である強化可能な被覆基板。
【請求項４】
請求項１、２、又は３に記載の強化可能な被覆基板において、前記保護層は物理蒸着（
ＰＶＤ）により成膜される強化可能な被覆基板。
【請求項５】
請求項１～４のいずれか１項に記載の強化可能な被覆基板において、前記保護層の厚さ
は１０ｎｍ～１００ｎｍの範囲にある強化可能な被覆基板。
【請求項６】
請求項１～５のいずれか１項に記載の強化可能な被覆基板において、前記保護層の厚さ
は３０ｎｍ～７０ｎｍの範囲にある強化可能な被覆基板。
【請求項７】
請求項１～６のいずれか１項に記載の強化可能な被覆基板において、前記フロートガラ
スの前記第２の表面は、製造中に溶融スズに接触し、前記フロートガラスの前記第１の表
面は、製造中に窒素及び水素を含むバス雰囲気に接触する強化可能な被覆基板。
【請求項８】
請求項１～７のいずれか１項に記載の強化可能な被覆基板において、前記ガラス基板の
前記第１の表面に化学蒸着（ＣＶＤ）により成膜された前記１つ又は複数の層は、
酸化ケイ素（ＳｉＯ
２
）、酸化スズ（ＳｎＯ
２
）、フッ素ドープ酸化スズ（ＳｎＯ
２
：
Ｆ）、酸化チタン（ＴｉＯ
２
）、及びアンチモンドープ酸化スズ（ＳｎＯ
２
：Ｓｂ）
から選択される１つ又は複数のドープ又はアンドープ酸化物層を含む強化可能な被覆基板
。
【請求項９】
請求項１～８のいずれか１項に記載の強化可能な被覆基板において、前記機能性金属層
は銀を含む強化可能な被覆基板。
【請求項１０】
請求項１～９のいずれか１項に記載の強化可能な被覆基板において、該被覆基板の各面
の熱処理後の透過の色変化（ΔＥ
＊
）が１０以下である強化可能な被覆基板。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、強化可能な被覆基板及びそれを製造する方法に関する。より詳細には、本発
明は、強化可能な被覆ガラス基板と、１つ又は複数の層を基板の各面に成膜して被覆基板
を形成してから、基板の各面のコーティング層を著しく損傷させることなく熱処理により
被覆基板を強化する、強化可能な被覆ガラス基板を準備する方法とに関する。
続きを表示（約 1,400 文字）【背景技術】
【０００２】
様々な目的でガラス等の基板に層又はコーティングを堆積することが知られている。例
えば、ゾルゲルタイプの堆積法は、特許文献１、特許文献２、特許文献３、及び特許文献
４のそれぞれに開示されており、シリカゾルを基板の表面に塗布し、続いて基板を高温で
加熱して有機物質を「除去」することで、シリカコーティングを生成する。
【０００３】
他のタイプの堆積法としては、例えば、前駆体の蒸気を多くの場合は高温で基板の表面
に指向させる化学蒸着（ＣＶＤ）が挙げられる。
【０００４】
酸化インジウムスズ、ドープ酸化スズ、ドープ酸化亜鉛、及びドープ酸化カドミウム等
の導電性酸化物を堆積する方法も知られている。これらの方法として、限定はされないが
例えば、化学蒸着（ＣＶＤ）、火炎熱分解、スパッタリング、又は他のタイプの物理蒸着
が挙げられ得る。
【０００５】
低放射率及び／又は太陽光制御を可能にするガラスコーティングを、物理蒸着プロセス
、例えばスパッタリングにより堆積することができる。
【０００６】
ガラス基板に成膜されたスパッタリングによる低放射率（ｌｏｗ－ｅ）及び太陽光制御
コーティングスタックは、
誘電体層配列／（Ａｇ／誘電体層配列）
ｎ
に基づく繰返し配列で通常構成され、ｎ個の誘電体層のそれぞれの厚さ及び／又は組成は
変わる可能性がある。ｎの値は１又は２、さらには３又は４であり得る。
【０００７】
ガラス基板の両面を被覆して、建築用板ガラス市場向けの板ガラスユニットを作製する
ことも知られている。実際には、上述の技術を用いて例えばガラス基板の片面を最初に被
覆してから別の面を被覆した製品が入手可能である。例えば、NSGは、ガラス基板の片面
を化学蒸着（ＣＶＤ）により成膜されたセルフクリーニング又は反射防止コーティングで
被覆し、ガラス基板の他方の面を物理蒸着（ＰＶＤ）（スパッタ）低放射率コーティング
で被覆した、被覆ガラス製品を作製している。
【０００８】
低放射率コーティングをガラス基板の各面に成膜した代替的な製品が存在するが、低放
射率コーティングの一方は化学蒸着により成膜され、他方の低放射率コーティングはスパ
ッタリングにより成膜されたものである。
【０００９】
しかしながら、上述の技術を用いて準備された多くの被覆ガラス製品の加熱強化又は熱
強化は、コーティング層に損傷を与えずに達成するのが困難であることにより、色の均一
性又は視覚的明確性の欠如の点で不良品につながる。
【００１０】
強化又は焼戻しガラスでは、ガラス基板を制御された熱又は化学処理により加工して、
通常のガラスに比べてその強度を高める。焼戻し又は強化を行うことで、ガラス基板の外
面は圧縮され、ガラス基板の内面は引っ張られる。強化又は焼戻しガラスが破損すると、
ガラス板（徐冷ガラスとしても知られる）とは異なり、誘起された応力が強化ガラスをギ
ザギザの破片に分裂させるのではなく小さな粒状塊に砕く。
（【００１１】以降は省略されています）

関連特許