TOP
|
特許
|
意匠
|
商標
特許ウォッチ
Twitter
他の特許を見る
公開番号
2025099055
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2025-07-03
出願番号
2023215407
出願日
2023-12-21
発明の名称
分光測定装置、及び分光信号処理方法
出願人
株式会社日立ハイテク
代理人
ポレール弁理士法人
主分類
G01N
21/41 20060101AFI20250626BHJP(測定;試験)
要約
【課題】
高S/N、高空間分解能を実現できる分光測定装置、及び分光信号処理方法を提供すること。
【解決手段】
周波数f
a
で変調された電磁波を発生する第一の電磁波源と、第一の電磁波源よりも波長が短い電磁波を発生させる第二の電磁波源と、第一の電磁波源、及び第二の電磁波源から発生する電磁波を試料に照射する光学系と、光学系により照射された電磁波により試料が振動することによって生じた電磁波を検出する検出部と、を備えた分光測定装置であって、検出部は、f
a
と異なる周波数を有する試料の振動に基づく電磁波を検出することにより分光測定を行う分光測定装置。
【選択図】図7
特許請求の範囲
【請求項1】
周波数f
a
で変調された電磁波を発生する第一の電磁波源と、
前記第一の電磁波源よりも波長が短い電磁波を発生させる第二の電磁波源と、
前記第一の電磁波源、及び前記第二の電磁波源から発生する電磁波を試料に照射する光学系と、
前記光学系により照射された電磁波により前記試料が振動することによって生じた電磁波を検出する検出部と、
を備えた分光測定装置であって、
前記検出部は、前記f
a
と異なる周波数を有する前記試料の振動に基づく電磁波を検出することにより分光測定を行うことを特徴とする分光測定装置。
続きを表示(約 1,500 文字)
【請求項2】
請求項1記載の分光測定装置において、
前記第二の電磁波源から発生する電磁波は、連続波、または周波数f
b
で変調された電磁波であることを特徴とする分光測定装置。
【請求項3】
請求項1記載の分光測定装置において、
前記検出部からの信号を処理する、ロックイン検出するアンプを含むアナログ・デジタル信号処理ユニットを有することを特徴とする分光測定装置。
【請求項4】
請求項3記載の分光測定装置において、
前記第一の電磁波源から発生する電磁波のみ所定の第一変調周波数で変調させ、変調させた信号の検出は前記所定の第一変調周波数の2倍以上の周波数成分に対して、前記アナログ・デジタル信号処理ユニットによりロックイン検出することを特徴とする分光測定装置。
【請求項5】
請求項2記載の分光測定装置において、
前記f
a
と異なる周波数とはf
b
±f
a
、f
b
±2f
a
、f
b
±3f
a
、…、f
b
±nf
a、
f
a
+2f
b
、f
a
+3f
b
、…、f
a
+nf
b
(nは自然数)の少なくともいずれかの振動数を有する振動であることを特徴とする分光測定装置。
【請求項6】
請求項4記載の分光測定装置において、
前記検出部は前記第一の電磁波源から発生する電磁波にかけた変調周波数f
a
の1倍以上、15倍以下の周波数の周波数成分に対して、ロックイン検出することを特徴とする分光測定装置。
【請求項7】
請求項4記載の分光測定装置において、
前記検出部は前記第二の電磁波源から発生する電磁波にかけた変調周波数f
b
の1倍以上、15倍以下の周波数の周波数成分に対して、ロックイン検出することを特徴とする分光測定装置。
【請求項8】
請求項2記載の分光測定装置において、
前記第一の電磁波源から発生する電磁波にかけた変調周波数f
a
と前記第二の電磁波源から発生する電磁波にかけた変調周波数f
b
が同一の場合、前記第一の電磁波源から発生する電磁波を前記試料に照射する前、または照射した後、所定の時間間隔をおいて前記第二の電磁波源から発生する電磁波を前記試料に照射し、その差分を検出することを特徴とする分光測定装置。
【請求項9】
請求項8記載の分光測定装置において、
前記所定の時間間隔は10μsec以下であることを特徴とする分光測定装置。
【請求項10】
試料の測定箇所に対して周波数f
a
で変調された第一の電磁波を照射するステップと、
前記測定箇所に対して前記第一の電磁波よりも波長が短い第二の電磁波を照射するステップと、
前記第一の電磁波、第二の電磁波の照射により前記試料が振動することによって生じた電磁波を検出するステップと、
前記検出した電磁波から、検出対象の変調周波数に対して、ロックイン検出計算するステップと、
を含むことを特徴とする分光信号処理方法。
(【請求項11】以降は省略されています)
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本発明は分光測定装置、及び分光信号処理方法に関する。
続きを表示(約 1,500 文字)
【背景技術】
【0002】
分光測定装置は、光の波長に対する物質固有の吸収曲線、すなわち吸収スペクトルを測定することによって、物質の組成を分析したり、物質に混入する異物を同定したりする装置である。分子の振動等の分析には、可視光の10倍前後の波長である赤外線が一般的に使用されるため、使用される光の波長に比例する回折限界によって制限される空間分解能は10μmオーダに留まる。
【0003】
空間分解能を超える手法として、特許文献1には、測定対象サンプルに光などのある種エネルギーを与えて、測定対象がこのエネルギーに対する吸収率を測りたいとき、直接このエネルギーが対応する物理量への計測ではなく、このエネルギーを与えた際に発生した測定対象サンプルの垂直方向の変位(例えば、熱膨張)を計測することで、従来の性能(分解能)を越える計測方法が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
特開2021-28582号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
特許文献1では短波長な検出電磁波ビームを用い、比較的に高い空間分解能で分光分析を実現しているが、更なる分解能の向上が求められている。
【0006】
本発明の目的は、高S/N、高空間分解能を実現できる分光測定装置、及び分光信号処理方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0007】
周波数f
a
で変調された電磁波を発生する第一の電磁波源と、第一の電磁波源よりも波長が短い電磁波を発生させる第二の電磁波源と、第一の電磁波源、及び第二の電磁波源から発生する電磁波を試料に照射する光学系と、光学系により照射された電磁波により試料が振動することによって生じた電磁波を検出する検出部と、を備えた分光測定装置であって、検出部は、f
a
と異なる周波数を有する試料の振動に基づく電磁波を検出することにより分光測定を行う分光測定装置。
【0008】
試料の測定箇所に対して周波数f
a
で変調された第一の電磁波を照射するステップと、測定箇所に対して第一の電磁波源よりも波長が短い第二の電磁波を照射するステップと、第一の電磁波、第二の電磁波の照射により試料が振動することによって生じた電磁波を検出するステップと、検出した電磁波から、検出対象の変調周波数に対して、ロックイン検出計算するステップと、を含む分光信号処理方法。
【発明の効果】
【0009】
高S/N、高空間分解能を実現できる分光測定装置、及び分光信号処理方法を提供する。上記以外の課題、構成及び効果は、以下の実施形態の説明により明らかにされる。
【図面の簡単な説明】
【0010】
実施例1の分光測定装置の一例の概略構成図である。
実施例2の分光測定装置の一例の概略構成図である。
検出ユニットの構成について説明する図である。
全体制御部の構成について説明する図である。
変調された第一電磁波が試料に照射時の試料被照射表面で発生する振動の概略図である。
検出ユニット検出する振動成分の概略図である。
変調された第一電磁波照及び第二電磁波が試料に照射された時の試料被照射表面で発生する振動の概略図である。
実施例3の分光測定装置の一例の概略構成図である。
【発明を実施するための形態】
(【0011】以降は省略されています)
この特許をJ-PlatPatで参照する
関連特許
日本精機株式会社
計器装置
4日前
株式会社東光高岳
計器
今日
日本精機株式会社
液面検出装置
6日前
大和製衡株式会社
組合せ秤
6日前
大和製衡株式会社
組合せ秤
6日前
大和製衡株式会社
組合せ秤
12日前
個人
フロートレス液面センサー
19日前
日本特殊陶業株式会社
ガスセンサ
7日前
日本特殊陶業株式会社
ガスセンサ
18日前
日本特殊陶業株式会社
ガスセンサ
7日前
ダイハツ工業株式会社
試験用治具
12日前
キヤノン株式会社
放射線撮像装置
21日前
大同特殊鋼株式会社
座標系較正方法
21日前
株式会社クボタ
作業車
11日前
TDK株式会社
計測装置
5日前
トヨタ自動車株式会社
歯車の検査方法
7日前
株式会社ノーリツ
通信システム
4日前
新電元メカトロニクス株式会社
位置検出装置
4日前
株式会社フジキン
流量測定装置
13日前
旭光電機株式会社
漏出検出装置
18日前
大同特殊鋼株式会社
ラベル色特定方法
21日前
日本電気株式会社
測位装置及びその方法
今日
住友化学株式会社
積層基板
18日前
株式会社アステックス
ラック型負荷装置
19日前
株式会社島津製作所
発光分析装置
4日前
パイオニア株式会社
評価装置
11日前
SMC株式会社
位置検出センサ
11日前
タカハタプレシジョン株式会社
水道メータ
4日前
株式会社デンソー
電流センサ
18日前
大和ハウス工業株式会社
計測用治具
18日前
日本製鉄株式会社
評価方法
19日前
株式会社ミツトヨ
非接触表面性状評価装置
20日前
トヨタ自動車株式会社
異音判定装置
20日前
株式会社イシダ
X線検査装置
25日前
DIC株式会社
凹凸増幅用具
4日前
株式会社セシアテクノ
気象観測装置
今日
続きを見る
他の特許を見る