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公開番号2025133457
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-09-11
出願番号2024031418
出願日2024-03-01
発明の名称塗布装置
出願人株式会社SCREENホールディングス
代理人個人,個人
主分類B05C 5/00 20060101AFI20250904BHJP(霧化または噴霧一般;液体または他の流動性材料の表面への適用一般)
要約【課題】処理液を吐出するスリットノズルを保持部に保持された基板の上面に沿って相対移動させることで処理液を塗布するとともに、当該スリットノズルに対してメンテナンス処理を施す塗布装置の汎用性を高める。
【解決手段】この発明は、第1メンテナンス部および第1スリットノズルが取り付けられた第1架橋構造体を第1水平方向に移動させるための一対のガイドレールを基台に取り付けている。これに対し、保持部は、一対のガイドレール、第1架橋構造体および第1メンテナンス部から独立し、基台に対して着脱自在となっている。したがって、基板サイズに応じて保持部が異なったとしても、基板サイズの変更に伴って保持部のみを入れ替えることで変更後の基板に対して処理液を塗布することが可能となる。すなわち、保持部の入替処理のみにより、互いに異なるサイズの基板への処理液の塗布が可能となっている。
【選択図】図2A
特許請求の範囲【請求項１】
その上面に保持部設置領域と前記保持部設置領域に対して第１水平方向に隣接する第１隣接領域とを有する基台と、
前記保持部設置領域に対して着脱自在に取り付けられた保持部と、
前記第１水平方向と直交する第２水平方向において前記保持部設置領域および前記第１隣接領域を挟み込むように前記基台の上面に取り付けられた一対のガイドレールと、
前記一対のガイドレール間に架け渡された状態で、前記保持部設置領域の上方および前記第１隣接領域の上方の間を前記第１水平方向に移動自在に設けられた第１架橋構造体と、
スリット状の第１吐出口から前記保持部の上面に保持される基板に向けて第１処理液を吐出可能に、前記第１架橋構造体に取り付けられた第１スリットノズルと、
前記第１架橋構造体を前記一対のガイドレールに沿って駆動させる駆動部と、
前記第１隣接領域において前記基台に取り付けられ、前記第１スリットノズルに対して第１メンテナンス処理を行う第１メンテナンス部と、
を備えることを特徴とする塗布装置。
続きを表示（約 910 文字）【請求項２】
請求項１に記載の塗布装置であって、
前記第１メンテナンス部は前記第１隣接領域で前記基台に対して着脱自在となっている、塗布装置。
【請求項３】
請求項１に記載の塗布装置であって、
第２架橋構造体と、
第２スリットノズルと、
第２メンテナンス部と、を備え、
前記基台は、その上面において前記保持部設置領域に対して前記第１隣接領域の反対側でかつ前記保持部設置領域に対して前記第１水平方向に隣接する第２隣接領域を有し、
前記一対のガイドレールは前記第２隣接領域まで延設され、
前記第２架橋構造体は、前記一対のガイドレール間に架け渡された状態で前記保持部設置領域および前記第２隣接領域の間を前記第１水平方向に移動自在に設けられ、
前記第２スリットノズルは、スリット状の第２吐出口から前記保持部の上面に保持される前記基板に向けて第２処理液を吐出可能に、前記第２架橋構造体に取り付けられ、
前記第２メンテナンス部は、前記第２隣接領域において前記基台に取り付けられ、前記第２スリットノズルに対して第２メンテナンス処理を行う、塗布装置。
【請求項４】
請求項３に記載の塗布装置であって、
前記第１メンテナンス部および前記第２メンテナンス部は、それぞれ前記第１隣接領域および前記第２隣接領域で前記基台に対して着脱自在となっている、塗布装置。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれか一項に記載の塗布装置であって、
前記保持部設置領域から上方に立設され、前記保持部を下方から支持しながら前記保持部の高さ位置を調整可能に構成された複数の調整部を備える、塗布装置。
【請求項６】
請求項５に記載の塗布装置であって、
前記保持部設置領域に前記保持部が装着された状態で装置輸送時において前記保持部を前記基台に固定する輸送時固定モードと、装置輸送の完了後において前記基台に対する前記保持部の固定を解除する解除モードとを切換可能に構成された複数の輸送時固定部を備える、塗布装置。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
この発明は、液晶表示装置や有機ＥＬ表示装置等のＦＰＤ用ガラス基板、半導体ウエハ、フォトマスク用ガラス基板、カラーフィルター用基板、記録ディスク用基板、太陽電池用基板、電子ペーパー用基板等の精密電子装置用基板、半導体パッケージ用基板（以下、単に「基板」と称する）にスリットノズルから処理液を供給して塗布する塗布装置に関するものである。
続きを表示（約 2,200 文字）【背景技術】
【０００２】
基板処理装置の一例として、スリット状の吐出口を有するスリットノズルを基板に対して相対移動させつつスリットノズルから処理液を吐出することで、基板に処理液を塗布する塗布装置が知られている。例えば特許文献１に記載の装置では、ステージのステージ面で基板を保持したまま当該ステージ面の上方でスリットノズルを移動させて処理液を基板に塗布する。
【０００３】
この基板処理装置（塗布装置）では、基板を載置して保持するための保持部として機能するステージが設けられている。このステージは、例えば直方体形状を有する例えば一体の石製である。ステージの上面は平坦面に加工されており、基板の保持面として機能する。この保持面のうち基板の保持エリアを挟んだ両端部には、略水平方向に平行に伸びる一対のガイドレールが固設される。それらに沿って架橋構造のガントリ部が移動自在となっている。ガントリ部には、スリットノズルが取り付けられている。そして、ガントリ部お移動に伴って、スリットノズルが基板の表面を走査しつつ供給機構により供給された処理液を基板の上面に供給する。また、ステージでは、スリットノズルの移動方向において保持エリアの両側にスリットノズルをメンテナンスするためのメンテナンス部（洗浄液吐出機構＋待機ポット＋プリ塗布機構）が設けられている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開２００５－２３０８０７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上記したように、従来装置では、基板を載置して保持するための保持部に対し、一対のガイドレールやメンテナンス部が設けられている。このため、基板サイズの変更やメンテナンス処理の仕様変更などが生じると、一対のガイドレールやメンテナンス部を含めて保持部ごと入れ替える必要があった。その結果、汎用性において改善の余地があった。
【０００６】
この発明は上記課題に鑑みなされたものであり、処理液を吐出するスリットノズルを保持部に保持された基板の上面に沿って相対移動させることで処理液を塗布するとともに、当該スリットノズルに対してメンテナンス処理を施す塗布装置の汎用性を高めることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、基板保持装置であって、その上面に保持部設置領域と前記保持部設置領域に対して第１水平方向に隣接する第１隣接領域とを有する基台と、前記保持部設置領域に対して着脱自在に取り付けられた保持部と、前記第１水平方向と直交する第２水平方向において前記保持部設置領域および前記第１隣接領域を挟み込むように前記基台の上面に取り付けられた一対のガイドレールと、前記一対のガイドレール間に架け渡された状態で、前記保持部設置領域の上方および前記第１隣接領域の上方の間を前記第１水平方向に移動自在に設けられた第１架橋構造体と、スリット状の第１吐出口から前記保持部の上面に保持される基板に向けて第１塗布液を吐出可能に、前記第１架橋構造体に取り付けられた第１スリットノズルと、前記第１架橋構造体を前記一対のガイドレールに沿って駆動させる駆動部と、前記第１隣接領域において前記基台に取り付けられ、前記第１スリットノズルに対して第１メンテナンス処理を行う第１メンテナンス部と、を備えることを特徴としている。
【０００８】
このように構成された発明では、第１メンテナンス部および第１スリットノズルが取り付けられた第１架橋構造体を第１水平方向に移動させるための一対のガイドレールは基台に取り付けられている。これに対し、保持部は、一対のガイドレール、第１架橋構造体および第１メンテナンス部から独立し、基台に対して着脱自在となっている。したがって、基板サイズに応じて保持部が異なったとしても、基板サイズの変更に伴って保持部のみを入れ替えることで変更後の基板に対して処理液を塗布することが可能となる。すなわち、保持部の入替処理のみにより、互いに異なるサイズの基板への処理液の塗布が可能となっている。
【発明の効果】
【０００９】
以上のように、本発明によれば、少ない作業により互いに異なるサイズの基板に対応しながら各基板に処理液を塗布することができる、つまり高い汎用性を有する塗布装置が得られる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
本発明に係る塗布装置の一実施形態を模式的に示す斜視図である。
図１に示す塗布装置における基台、塗布処理機構、基板保持機構およびメンテナンス機構の配置関係を模式的に示す図である。
図２Ａの塗布装置を上方から見た部分平面図である。
大型基板用の基板保持機構を上方から見た平面図である。
小型基板用の基板保持機構を上方から見た平面図である。
基板保持機構の構成を模式的に示す図である。
図１の塗布装置における基板保持処理の一例を示すフローチャートである。
基板保持機構による基板の仮矯正の手順を示すフローチャートである。
図１に示す塗布装置で実行される入替処理を示すフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
（【００１１】以降は省略されています）

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