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公開番号2025143520
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-10-01
出願番号2025120245,2024506581
出願日2025-07-17,2022-06-24
発明の名称導電ベース構造、エレクトロクロミックデバイス及びエレクトロクロミック装置
出願人光ゲイ智能科技(蘇州)有限公司
代理人弁理士法人太陽国際特許事務所
主分類G02F 1/155 20060101AFI20250924BHJP(光学)
要約【課題】導電ベース構造、エレクトロクロミックデバイス及びエレクトロクロミック装置を提供する。
【解決手段】エレクトロクロミックデバイスであって、導電ベース構造は、積層して設けられて外部電源との接続に使用される第1導電ベース1及び第2導電ベース3を備えるベース本体13を備え、第1導電ベース1の周方向における少なくとも1つの側壁には、第1凹溝8が設けられ、第2導電ベース3の周方向における少なくとも1つの側壁には、第2凹溝9が設けられており、且つ第1凹溝8及び第2凹溝9は、いずれもベース本体13の同一側に位置する。第1導電ベース1に第1凹溝8を設け、同時に第2導電ベース3に第2凹溝9を設けることにより、第1導電ベース1及び第2導電ベース3にそれぞれ投入される外部電源の接続端子が位置ずれを形成し、第1導電ベース1及び第2導電ベース3と外部電源との接続の安全性及び安定性が高められ、短絡が回避される。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
順次積層される第１導電ベース、エレクトロクロミック層、第２導電ベースを備え、前記第１導電ベースは、第１ベース層、及び前記第１ベース層の前記エレクトロクロミック層に近い側に設けられる第１導電層を備え、前記第２導電ベースは、第２ベース層、及び前記第２ベース層の前記エレクトロクロミック層に近い側に設けられる第２導電層を備え、
エレクトロクロミックデバイスの周方向における少なくとも一側には、少なくとも１つの第１接続部により前記第１導電層に電気的に接続される第１バスバー、及び少なくとも１つの第２接続部により前記第２導電層に電気的に接続される第２バスバーがいずれも設けられており、
前記第１バスバーの前記第１導電ベースが所在する平面における正投影と、前記第１導電ベースとには、隙間が有り、前記第２バスバーの前記第２導電ベースが所在する平面における正投影と、前記第２導電ベースとには、隙間が有する、
ことを特徴とするエレクトロクロミックデバイス。
続きを表示（約 1,500 文字）【請求項２】
前記第１導電ベースの周方向における少なくとも１つの側壁には、第１凹溝が設けられ、前記第２導電ベースの周方向における少なくとも１つの側壁には、第２凹溝が設けられており、
前記第１凹溝及び前記第２凹溝は、それぞれ複数であり、複数の前記第１凹溝は、前記第１導電ベースの周方向に沿って互いに間隔をあけて設けられ、複数の前記第２凹溝は、前記第２導電ベースの周方向に沿って互いに間隔をあけて設けられる、
ことを特徴とする請求項１に記載のエレクトロクロミックデバイス。
【請求項３】
前記第１導電ベースは、各々の前記第２導電ベースが所在する平面における正投影がそれぞれ１つの前記第２凹溝内に位置する複数の第１導電セグメントが設けられた第１導電層を備え、前記第２導電ベースは、各々の前記第１導電層が所在する平面における正投影がそれぞれ１つの前記第１凹溝内に位置する複数の第２導電セグメントが設けられた第２導電層を備え、且つ前記第１導電セグメントの前記第２導電層が所在する平面における正投影と、前記第２導電セグメントとの間には、隙間が有り、前記第１導電セグメント及び前記第２導電セグメントは、それぞれ外部電源との接続に使用される、
ことを特徴とする請求項２に記載のエレクトロクロミックデバイス。
【請求項４】
前記第１バスバーは、前記第１接続部により前記第１導電セグメントに電気的に接続され、前記第２バスバーは、前記第２接続部により前記第２導電セグメントに電気的に接続される、
ことを特徴とする請求項３に記載のエレクトロクロミックデバイス。
【請求項５】
前記第１バスバーの周方向及び前記第２バスバーの周方向には、いずれも絶縁層が被せられており、且つ前記第１バスバーの両端及び前記第２バスバーの両端は、いずれも導電部である、
ことを特徴とする請求項１に記載のエレクトロクロミックデバイス。
【請求項６】
２つ以上の隣り合う第１バスバーの間は、機械的接続である、及び／又は、２つ以上の隣り合う第２バスバーの間は、機械的接続である、
ことを特徴とする請求項５に記載のエレクトロクロミックデバイス。
【請求項７】
前記第１バスバーの前記第２導電ベースが所在する平面における正投影と、前記第２バスバーの前記第２導電ベースが所在する平面における正投影との間には、隙間が有る、
ことを特徴とする請求項１に記載のエレクトロクロミックデバイス。
【請求項８】
前記第１接続部の周方向及び前記第２接続部の周方向には、いずれも絶縁層が被せられている、
ことを特徴とする請求項１に記載のエレクトロクロミックデバイス。
【請求項９】
前記第１凹溝の前記第２導電ベースが所在する平面における正投影と、前記第２凹溝との間には、隙間が有り、前記第２凹溝の前記第１導電ベースが所在する平面における正投影と、前記第１凹溝との間には、隙間が有る、
ことを特徴とする請求項２に記載のエレクトロクロミックデバイス。
【請求項１０】
前記第１凹溝の前記第２導電ベースが所在する平面における正投影と、前記第２凹溝とは、部分的に重なり、前記第２凹溝の前記第１導電ベースが所在する平面における正投影と、前記第１凹溝とは、部分的に重なる、
ことを特徴とする請求項２に記載のエレクトロクロミックデバイス。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
［関連出願の相互参照］
本願は、２０２１年８月０２日に中国専利局に提出された出願番号が２０２１２１７８６９９８．４で、名称が「エレクトロクロミックデバイス」である中国特許出願、出願番号が２０２１１０８８０２２４．６で、名称が「エレクトロクロミックデバイス及びエレクトロクロミック装置」である中国特許出願、出願番号が２０２１１０８８２４４９．５で、名称が「導電構造及びエレクトロクロミックデバイス」である中国特許出願、出願番号が２０２１１０８８１００１．１で、名称が「導電ベース構造及びエレクトロクロミックデバイス」である中国特許出願の優先権を主張し、それらの全ての内容は引用により本願に組み込まれている。
本発明は、エレクトロクロミックの分野に関し、特に導電ベース構造、エレクトロクロミックデバイス及びエレクトロクロミック装置に関する。
続きを表示（約 1,500 文字）【背景技術】
【０００２】
電子部品が小型化、微細化、集積化の方向へと急速に発展するにつれて、ベース導電の線路の設計も最適化され続けている。
【０００３】
従来技術において、微細化の電子部品の導電基板に使用される導電線路は、いずれも丸ごと１本の導電線路であり、導電基板に設けられる線路の接触を回避するために、配線板における導電線路の設置が複雑になってしまい、その結果、導電配線板を製造するプロセスが複雑で、コストが高くなり、相互接触して短絡するリスクが存在する。
【０００４】
従来技術において、エレクトロクロミックデバイスの上下のバスバーの短絡を回避するために、通常、エレクトロクロミックデバイスの片側にしか１つのバスバーが設けられず、片側に１つのバスバーが設けられる構造の目的は、２つのバスバーが接触して短絡する状況を回避するためであるが、面積が大きなエレクトロクロミックデバイスについて、片側に１つのバスバーが配置される構造により、エレクトロクロミックデバイスに対する表面抵抗（表面抵抗とは、単位正方形面積の条件での抵抗性インピーダンスであり、一般的には１ｃｍの辺の長さの正方形の面積である）が大幅に減少されて効果が低減され、その結果、エレクトロクロミックデバイスの変色速度が遅くなり、変色に鈍化等の現象が出現し、エレクトロクロミックデバイスの信頼性に大きな影響を与える。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
これに鑑みて、本発明は、従来技術における不足を克服するために、導電ベース構造、エレクトロクロミックデバイス及びエレクトロクロミック装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の一側面は、積層して設けられてそれぞれ外部電源との接続に使用される第１導電ベース及び第２導電ベースを備えるベース本体を備え、前記第１導電ベースの周方向における少なくとも１つの側壁には、少なくとも１つの第１凹溝が設けられ、前記第２導電ベースの周方向における少なくとも１つの側壁には、少なくとも１つの第２凹溝が設けられており、且つ前記第１凹溝及び前記第２凹溝は、いずれも前記ベース本体の同一側に位置する、導電ベース構造を提供する。
【０００７】
さらに、前記第１凹溝及び前記第２凹溝は、それぞれ複数であり、複数の前記第１凹溝は、前記第１導電ベースの周方向に沿って互いに間隔をあけて設けられ、複数の前記第２凹溝は、前記第２導電ベースの周方向に沿って互いに間隔をあけて設けられる。
【０００８】
さらに、前記第１凹溝の前記第２導電ベースが所在する平面における正投影と、前記第２凹溝との間には、隙間が有り、前記第２凹溝の前記第１導電ベースが所在する平面における正投影と、前記第１凹溝との間には、隙間が有る。
【０００９】
さらに、前記第１凹溝の前記第２導電ベースが所在する平面における正投影と、前記第２凹溝とは、部分的に重なり、前記第２凹溝の前記第１導電ベースが所在する平面における正投影と、前記第１凹溝とは、部分的に重なる。
【００１０】
本発明の他の側面は、エレクトロクロミック層及び前記した導電ベース構造を備え、前記エレクトロクロミック層は、前記第１導電ベースと前記第２導電ベースとの間に設けられるエレクトロクロミックデバイスを提供する。
（【００１１】以降は省略されています）

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