特許ウォッチ

公開番号2025090405
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-06-17
出願番号2023205609
出願日2023-12-05
発明の名称光硬化性シリコーン組成物の硬化方法
出願人信越化学工業株式会社
代理人個人,個人,個人
主分類C08F 299/08 20060101AFI20250610BHJP(有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物)
要約【課題】大気中で硬化させても表面硬化阻害を引き起こすことのない光硬化性シリコーン組成物の硬化方法を提供すること。
【解決手段】(A)下記一般式(1)で表されるオルガノポリシロキサン:100質量部、及び、(B)波長200～300nmの光によってラジカルを発生する重合開始剤:0.1～10質量部を含有する光硬化性シリコーン組成物の硬化方法であって、発光ピーク波長が200～300nmの範囲にあるLEDを用いて光照射する工程を含むことを特徴とする硬化方法。
【選択図】なし

特許請求の範囲【請求項１】
（Ａ）下記一般式（１）で表されるオルガノポリシロキサン：１００質量部、
TIFF
2025090405000014.tif
23
92
（式中、ｎは５以上の整数であり、ｐおよびｑは０～３の整数であり、ｐ＋ｑは１～６の整数であり、Ｚ
１
は、それぞれ同一又は異なっていてもよい、酸素原子又は置換若しくは非置換の炭素原子数１～１０の２価の炭化水素基であり、Ｒ
１
は、それぞれ同一又は異なっていてもよい、置換又は非置換の炭素原子数１～１２の１価炭化水素基であり、但し、Ｒ
１
のうち１つ以上はフェニル基であり、Ｒ
２
は、それぞれ同一又は異なっていてもよい、下記一般式（２）で表される基である。）
TIFF
2025090405000015.tif
37
116
（式中、ｍは０、１、２のいずれかであり、Ｒ
３
は、それぞれ同一又は異なっていてもよい、水素原子、フェニル基又はハロゲン化フェニル基であり、Ｒ
４
は、それぞれ同一又は異なっていてもよい、水素原子又はメチル基であり、Ｒ
５
は、それぞれ同一又は異なっていてもよい、置換又は非置換の炭素原子数１～１２の１価炭化水素基であり、Ｚ
２
は、それぞれ同一又は異なっていてもよい、－Ｒ
６
－又は－Ｒ
６
－Ｏ－（Ｒ
６
は、置換又は非置換の炭素原子数１～１０の２価炭化水素基である。）であり、Ｚ
３
は、酸素原子又は置換若しくは非置換の炭素原子数１～１０の２価の炭化水素基であり、破線は結合手を表す。）
及び、
（Ｂ）波長２００～３００ｎｍの光によってラジカルを発生する重合開始剤：０．１～１０質量部
を含有する光硬化性シリコーン組成物の硬化方法であって、
発光ピーク波長が２００～３００ｎｍの範囲にあるＬＥＤを用いて光照射する工程を含むことを特徴とする硬化方法。
続きを表示（約 370 文字）【請求項２】
前記Ｒ
１
及びＲ
５
の合計数のうち３～５０％がフェニル基であることを特徴とする請求項１に記載の光硬化性シリコーン組成物の硬化方法。
【請求項３】
（Ａ）成分中における（メタ）アクリル基の数が、１分子あたり３つ以上であることを特徴とする請求項１に記載の光硬化性シリコーン組成物の硬化方法。
【請求項４】
（Ｂ）成分が、３００ｎｍ超４５０ｎｍ以下の光によってもラジカルを発生する重合開始剤を含むことを特徴とする請求項１に記載の光硬化性シリコーン組成物の硬化方法。
【請求項５】
更に、発光ピーク波長が３００ｎｍ超４５０ｎｍ以下の範囲にあるＬＥＤを用いて光照射する工程を含むことを特徴とする請求項１に記載の光硬化性シリコーン組成物の硬化方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、光硬化性シリコーン組成物の硬化方法に関する。
続きを表示（約 2,200 文字）【背景技術】
【０００２】
シリコーン組成物の硬化にはヒドロシリル化反応を用いた架橋反応や過酸化物を開始剤として用いた加熱硬化反応や大気中の水分を用いた縮合架橋反応が古くから用いられている。近年、省エネルギー化や工程短縮化が益々要求される中で、室温において短時間で硬化可能な紫外線硬化反応が注目されている。紫外線硬化反応のなかでも、特に光ラジカル重合開始剤を用いるラジカル硬化性組成物は、遮光下での保存安定性に優れ、１液化も可能である（特許文献１および２）。
【０００３】
しかしながら、近年、紫外線光源の主流になりつつある３５０～４００ｎｍの発光波長を有するＬＥＤを用いて、既存の紫外線硬化性シリコーン組成物を大気中で硬化させようとすると、酸素によって硬化阻害が生じ、表面が硬化しない、あるいはタックが残るという課題があった。また、酸素による硬化阻害を防ぐため組成物を透明部材に挟み込んで紫外線照射を行う際に、透明部材で覆われていない部分の組成物について、紫外線照射前の拭き取りや照射後の未硬化物の洗浄等が必要となっていた。
【０００４】
ラジカル硬化性組成物の空気中における表面硬化性を改善する方法として、光照射によって活性化される白金族金属触媒を用いたヒドロシリル化反応と、光ラジカル重合開始剤によるラジカル反応とを併用した紫外線硬化性シリコーン組成物が提案されている（特許文献３）。しかしながら、光活性型の白金族金属触媒は一般的にコストが高く、また、ケイ素原子に結合した水素原子を有するオルガノハイドロジェンポリシロキサンを併用する必要があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
特開２０２１－１６１３３９号公報
特開２０２３－７１７９４号公報
特開２０２１－１７８８８３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、上記事情に鑑みなされたものであり、大気中で硬化させても表面硬化阻害を引き起こすことのない光硬化性シリコーン組成物の硬化方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するために、本発明では、
（Ａ）下記一般式（１）で表されるオルガノポリシロキサン：１００質量部、
TIFF
2025090405000001.tif
23
92
（式中、ｎは５以上の整数であり、ｐおよびｑは０～３の整数であり、ｐ＋ｑは１～６の整数であり、Ｚ
１
は、それぞれ同一又は異なっていてもよい、酸素原子又は置換若しくは非置換の炭素原子数１～１０の２価の炭化水素基であり、Ｒ
１
は、それぞれ同一又は異なっていてもよい、置換又は非置換の炭素原子数１～１２の１価炭化水素基であり、但し、Ｒ
１
のうち１つ以上はフェニル基であり、Ｒ
２
は、それぞれ同一又は異なっていてもよい、下記一般式（２）で表される基である。）
TIFF
2025090405000002.tif
37
116
（式中、ｍは０、１、２のいずれかであり、Ｒ
３
は、それぞれ同一又は異なっていてもよい、水素原子、フェニル基又はハロゲン化フェニル基であり、Ｒ
４
は、それぞれ同一又は異なっていてもよい、水素原子又はメチル基であり、Ｒ
５
は、それぞれ同一又は異なっていてもよい、置換又は非置換の炭素原子数１～１２の１価炭化水素基であり、Ｚ
２
は、それぞれ同一又は異なっていてもよい、－Ｒ
６
－又は－Ｒ
６
－Ｏ－（Ｒ
６
は、置換又は非置換の炭素原子数１～１０の２価炭化水素基である。）であり、Ｚ
３
は、酸素原子又は置換若しくは非置換の炭素原子数１～１０の２価の炭化水素基であり、破線は結合手を表す。）
及び、
（Ｂ）波長２００～３００ｎｍの光によってラジカルを発生する重合開始剤：０．１～１０質量部
を含有する光硬化性シリコーン組成物の硬化方法であって、
発光ピーク波長が２００～３００ｎｍの範囲にあるＬＥＤを用いて光照射する工程を含むことを特徴とする硬化方法を提供する。
【０００８】
このような本発明の光硬化性シリコーン組成物の硬化方法であれば、（Ａ）成分中のフェニル基の存在により、大気中においても表面硬化阻害を引き起こすことなく、簡便かつ低コストで光硬化性シリコーン組成物の硬化物を得ることができる。
【０００９】
本発明の光硬化性シリコーン組成物の硬化方法は、上記（Ａ）成分のＲ
１
及びＲ
５
の合計数のうち３～５０％がフェニル基であることが好ましい。
【００１０】
上記（Ａ）成分が、このような範囲を満たす本発明の光硬化性シリコーン組成物の硬化方法であれば、表面硬化性及び深部硬化性を両立させることができる。
（【００１１】以降は省略されています）

関連特許