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公開番号2025101489
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-07-07
出願番号2023218366
出願日2023-12-25
発明の名称防汚フィルムの製造方法
出願人日東電工株式会社
代理人弁理士法人はるか国際特許事務所
主分類G02B 1/18 20150101AFI20250630BHJP(光学)
要約【課題】ロールトゥロール方式の真空蒸着法により防汚層を形成する際の歩留まりの低下を抑制できる防汚フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】防汚フィルムの製造方法は、ワークフィルム20をロールトゥロール方式で搬送しながら、ワークフィルム20の一方の主面20aに真空蒸着法により防汚層を形成する蒸着工程と、蒸着工程の前に、フッ素系溶媒を含む防汚剤組成物15を、温度150℃以上250℃以下の減圧雰囲気下において脱気する脱気工程とを備える。蒸着工程では、脱気工程で脱気された防汚剤組成物15を蒸着材料として、防汚層を形成する。
【選択図】図1

特許請求の範囲【請求項１】
ワークフィルムをロールトゥロール方式で搬送しながら、前記ワークフィルムの一方の主面に真空蒸着法により防汚層を形成する、防汚フィルムの製造方法であって、
前記防汚層を形成する前に、フッ素系溶媒を含む防汚剤組成物を、温度１５０℃以上２５０℃以下の減圧雰囲気下において脱気する工程Ｓａを備え、
前記工程Ｓａで脱気された前記防汚剤組成物を蒸着材料として、前記防汚層を形成する、防汚フィルムの製造方法。
続きを表示（約 550 文字）【請求項２】
前記防汚剤組成物は、防汚剤としてフッ素含有化合物を含む、請求項１に記載の防汚フィルムの製造方法。
【請求項３】
前記フッ素含有化合物は、パーフルオロポリエーテル骨格を含有するアルコキシシラン化合物である、請求項２に記載の防汚フィルムの製造方法。
【請求項４】
前記ワークフィルムは、無機酸化物層を含み、
前記無機酸化物層の一方の主面に前記防汚層を形成する、請求項１に記載の防汚フィルムの製造方法。
【請求項５】
前記無機酸化物層は、酸化シリコン層を含み、
前記酸化シリコン層の一方の主面に前記防汚層を形成する、請求項４に記載の防汚フィルムの製造方法。
【請求項６】
前記防汚層を形成する際の真空度が、９．０×１０
－３
Ｐａ以下である、請求項１に記載の防汚フィルムの製造方法。
【請求項７】
前記工程Ｓａにおいて、圧力４０Ｐａ以下の前記減圧雰囲気下で脱気する、請求項１に記載の防汚フィルムの製造方法。
【請求項８】
前記工程Ｓａの前に、前記防汚剤組成物の周囲の雰囲気を、温度３０℃以下で減圧する工程を更に備える、請求項１に記載の防汚フィルムの製造方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、防汚フィルムの製造方法に関する。
続きを表示（約 1,400 文字）【背景技術】
【０００２】
近年、タブレット端末、スマートフォン等の携帯端末機器の普及に伴い、汚れ等からこれらの機器を保護する要求が増加している。例えば、タッチパネルを備えたディスプレイの表面には、外部環境からの汚染（指紋、手垢、埃等）の影響を低減しつつ視認性を確保するため、通常、防汚層を備えた防汚フィルムが貼付されている。
【０００３】
特許文献１には、防汚フィルムの一例として、反射防止層上に防汚層が設けられた反射防止フィルムが開示されている。特許文献１には、防汚層の形成方法として、フッ素含有珪素化合物（防汚剤）をパーフルオロヘキサンで希釈した防汚剤組成物を使用し、反射防止層上に真空蒸着法により防汚層を成膜する方法が記載されている。また、このような防汚フィルムは、例えば、ロールトゥロール方式でワークフィルムを搬送しながら製造される（例えば、特許文献２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開２０１１－６９９９５号公報
特開２０２２－６３３７４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
パーフルオロヘキサンのようなフッ素系溶媒を含む防汚剤組成物を使用する場合、通常、防汚剤組成物中のフッ素系溶媒の少なくとも一部を脱気により除去した後、脱気後の防汚剤組成物を蒸着材料として真空蒸着法により防汚層を成膜する。また、ロールトゥロール方式の真空蒸着法により防汚層を形成する場合、搬送開始（蒸着開始）から搬送終了（蒸着終了）に至るまでに真空蒸着装置内の蒸着材料が徐々に減少するが、蒸着温度を徐々に上げることによって、蒸着材料の減少に伴う蒸着量の低減を抑制し、防汚層の膜厚を一定に保っている。
【０００６】
しかし、ロールトゥロール方式の真空蒸着法により防汚層を形成すると、蒸着温度が比較的低い段階（搬送開始から初期段階）で成膜された防汚層の防汚特性が低下する傾向がある。ロールトゥロール方式の製法で得られた防汚フィルム巻回体において、防汚特性が低下した箇所は、品質管理基準に適合しない場合、廃棄される。このため、ロールトゥロール方式の真空蒸着法により防汚層を形成する場合、歩留まりの低下を抑制することが困難である。
【０００７】
上記に鑑み、本発明は、ロールトゥロール方式の真空蒸着法により防汚層を形成する際の歩留まりの低下を抑制できる防汚フィルムの製造方法の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
＜本発明の態様＞
本発明には、以下の態様が含まれる。
【０００９】
［１］ワークフィルムをロールトゥロール方式で搬送しながら、前記ワークフィルムの一方の主面に真空蒸着法により防汚層を形成する、防汚フィルムの製造方法であって、
前記防汚層を形成する前に、フッ素系溶媒を含む防汚剤組成物を、温度１５０℃以上２５０℃以下の減圧雰囲気下において脱気する工程Ｓａを備え、
前記工程Ｓａで脱気された前記防汚剤組成物を蒸着材料として、前記防汚層を形成する、防汚フィルムの製造方法。
【００１０】
［２］前記防汚剤組成物は、防汚剤としてフッ素含有化合物を含む、前記［１］に記載の防汚フィルムの製造方法。
（【００１１】以降は省略されています）

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