特許ウォッチ

公開番号2025136678
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-09-19
出願番号2024035430
出願日2024-03-08
発明の名称アライメント装置、成膜装置及び成膜方法
出願人キヤノン株式会社
代理人個人,個人,個人,個人
主分類C23C 14/24 20060101AFI20250911BHJP(金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般)
要約【課題】構造物の固有振動の影響を低減又は回避して制御性能を向上するとともに、基板が大型化しても装置コストを抑えたまま高いアライメント精度を実現することができるアライメント装置を提供する。
【解決手段】アライメント装置は、基板を保持する基板ホルダと、基板に対向するようにマスクを保持するマスクホルダと、基板ホルダ及びマスクホルダを支持する支持部材と、基板ホルダとマスクホルダとの第1の相対位置を検出する位置検出手段と、第1の相対位置に関する情報に基づき、基板ホルダとマスクホルダとの間に電磁力を発生させる第1の駆動機構と、を有し、基板ホルダは、第1の除振機構を介して又は第1の浮上機構を介して非接触で支持部材に支持され、マスクホルダは、第2の除振機構を介して又は第2の浮上機構を介して非接触で支持部材に支持されている。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
基板を保持する基板ホルダと、
前記基板に対向するようにマスクを保持するマスクホルダと、
前記基板ホルダ及び前記マスクホルダを支持する支持部材と、
前記基板ホルダと前記マスクホルダとの第１の相対位置を検出する位置検出手段と、
前記第１の相対位置に関する情報に基づき、前記基板ホルダと前記マスクホルダとの間に電磁力を発生させる第１の駆動機構と、を有し、
前記基板ホルダは、第１の除振機構を介して又は第１の浮上機構を介して非接触で前記支持部材に支持され、
前記マスクホルダは、第２の除振機構を介して又は第２の浮上機構を介して非接触で前記支持部材に支持されている
ことを特徴とするアライメント装置。
続きを表示（約 890 文字）【請求項２】
前記第１の駆動機構は、前記基板ホルダ及び前記マスクホルダのうちの一方の側に設けられたコイルと、前記基板ホルダと前記マスクホルダのうちの他方の側に設けられた永久磁石とを有し、前記コイル及び前記永久磁石により前記基板ホルダと前記マスクホルダとの間に前記電磁力を発生させる
ことを特徴とする請求項１に記載のアライメント装置。
【請求項３】
前記支持部材に設置され、前記基板ホルダ及び前記マスクホルダのうちの少なくとも一方を駆動する第２の駆動機構を有する
ことを特徴とする請求項１又は２に記載のアライメント装置。
【請求項４】
前記第２の駆動機構は、前記第１の除振機構を介して前記基板ホルダを駆動する
ことを特徴とする請求項３に記載のアライメント装置。
【請求項５】
前記第２の駆動機構は、前記第２の除振機構を介して前記マスクホルダを駆動する
ことを特徴とする請求項３に記載のアライメント装置。
【請求項６】
前記第２の駆動機構は、前記第１の駆動機構よりも動作ストロークが大きい
ことを特徴とする請求項３に記載のアライメント装置。
【請求項７】
前記第１の駆動機構は、前記第２の駆動機構の動作時において速度制御で動作し、前記第２の駆動機構の停止時において位置制御で動作する
ことを特徴とする請求項３に記載のアライメント装置。
【請求項８】
前記第１の駆動機構は、前記第２の駆動機構による振動に応じて動作する
ことを特徴とする請求項３に記載のアライメント装置。
【請求項９】
前記第１の駆動機構は、前記第２の駆動機構による前記振動を抑制するように動作する
ことを特徴とする請求項８に記載のアライメント装置。
【請求項１０】
前記第２の駆動機構による前記振動は、残留振動である
ことを特徴とする請求項８に記載のアライメント装置。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、アライメント装置、成膜装置及び成膜方法に関する。
続きを表示（約 1,500 文字）【背景技術】
【０００２】
表示装置の一つとして、有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ－Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）表示装置（有機ＥＬディスプレイ）が知られている。有機ＥＬ表示装置は、スマートフォン、テレビ、自動車用ディスプレイだけでなく、ＶＲＨＭＤ（ＶｉｒｔｕａｌＲｅａｌｉｔｙＨｅａｄＭｏｕｎｔｅｄＤｉｓｐｌａｙ）等にその応用分野が広がっている。特に、ＶＲＨＭＤに用いられるディスプレイは、ユーザーのめまいを低減すること等のため、画素パターンを高精度で形成すること、すなわち高解像度化が求められる。
【０００３】
有機ＥＬ表示装置の製造においては、有機ＥＬ表示装置を構成する有機発光素子（有機ＥＬ素子；ＯＬＥＤ）を形成する際、成膜装置の成膜源から放出された成膜材料を、画素パターンが形成されたマスクを介して基板に成膜する。これにより、有機ＥＬ素子の有機物層や金属層を形成する。
【０００４】
このような成膜装置においては、成膜精度を高めるため、成膜工程の前にアライメント工程が行われる。アライメント工程は、成膜工程の前において、基板とマスクとの相対位置を測定し、相対位置がずれている場合には、基板とマスクの相対位置を移動させて位置を調整する工程である。
【０００５】
特許文献１に記載された成膜装置では、基板及びマスクに設けられたアライメントマークを撮影するアライメントカメラによって相対位置ずれを検出し、基板支持ユニットやマスク台を駆動するアライメントステージ機構によって位置合わせしている。
【０００６】
しかしながら、近年、基板サイズの大型化に伴い、アライメントステージ機構で駆動する基板支持ユニットやマスク台が重くなり、かつ、駆動機構と実際に位置合わせすべき基板やマスクとの距離が遠くなっている。このため、位置合わせ後の装置振動の影響が無視できなくなっている。
【０００７】
そこで、特許文献２には、基板ホルダ駆動機構、マスクホルダ駆動機構、及び基板ホルダとマスクホルダとの間の相対位置を検知する位置検知機構を有する成膜装置が記載されている。特許文献２に記載の成膜装置は、少なくともいずれか一方の駆動機構と支持部材との間に振動抑制部材が設置された構成となっている。かかる成膜装置によれば、基板とマスクとの相対的な位置を検知した制御が可能で、かつ、駆動時の振動外乱によって制御性能が低下すること防ぐことができ、アライメント精度の低下を抑制することができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
特開２０１２－３３４６８号公報
特開２０２１－８０５５８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、特許文献２に記載の構成では、支持部材や基板ホルダ、マスクホルダを構成する構造物の剛性が低い場合、それらの固有振動が制御性能を低下させる要因となりうる。特に、前述した近年の基板サイズの大型化においては、基板ホルダ及びマスクホルダの質量が大きくなるため、それらを支える装置の天板から延びるロッド部分を含めた構造物の剛性を担保するため、装置の大幅なコストアップを避けることは困難である。
【００１０】
本発明の目的は、構造物の固有振動の影響を低減又は回避して制御性能を向上するとともに、基板が大型化しても装置コストを抑えたまま高いアライメント精度を実現することができるアライメント装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
（【００１１】以降は省略されています）

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